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1 エピジェネティクス エピジェネティクス ゲノムインプリンティング ゲノム

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エピジェネティクス
epigenetics = epi + genetics
エピジェネティクス
遺伝子以外の要因に制御される遺伝形質に関する
学問
細胞世代を超えて継承され得る、塩基配列の変化
を伴わない遺伝子機能や遺伝子発現について研
究する学問領域
(塩田、2005、実験医学、23:2096)
ゲノムインプリンティング
比較的発達した胎子
形成不全の胎盤
(genomic imprinting)
• 哺乳類では、単為発生胚、雌性核発生胚、雄性
核発生胚は、致死となる。
雌性発生卵
正常産子
• 哺乳動物では、父親と母親の両者から遺伝子を
受け継がないと正常な発生が起こらない。
正常受精卵
胎盤組織の過剰形成
未発達の胎子
雄性発生卵
ゲノムインプリンティング
• 哺乳類には、どちらの親に由来するかに応じ
て、一対のアレルのうち一方しか発現しない
遺伝子(インプリント遺伝子)が存在する。ゲノ
ム上に位置する遺伝子のうち一部は、父親あ
るいは母親由来のアレルから選択的に発現し
ている。
• この片親性遺伝子発現制御に必要なため、
遺伝子に記憶が印される過程をゲノムインプ
リンティング(遺伝子刷り込み)と呼ぶ。
父アレル
母アレル
Gnas
H19
Peg1/Mest
Igf2r
Igf2
p57KIP2
Peg3
Mash2
Snrpn
etc.
Ndn
マウスのインプリント遺伝子の例
Anf127
遺伝子 発現
機能
U2
Gnas
父方
G蛋白サブユニット
Impact
Peg1/Mest 父方
加水分解酵素
Xist
Igf2
父方
胎子成長因子
etc.
Igf2r
母方
IGF-IIの分解
Xist
父方
X染色体の不活化
H19
母方
腫瘍抑制RNA
1
インプリンティング
ジェネティックとエピジェネティック
ジェネティック
• アレルの発現状態は、細胞分裂を通じて維持さ
れる。
• この維持機構の候補として、DNAのメチル化が
有力とされている。
DNAの塩基配列
T
G
A
C
A
C
T
G
Me
エピジェネティック
DNAのメチル化
T
G
A
C
A
C
T
G
ヒストンの化学修飾
リン酸化
メチル化
アセチル化
DNAのメチル化
• DNAのメチル化(CpG領域のシトシン)
DNA結合タンパク質の結合阻害
転写の抑制
• DNAの脱メチル化
DNA結合タンパク質が結合
転写活性化
Me
ヒストンの化学修飾
• メチル化
転写の抑制、DNAメチル化にも関与
• アセチル化
転写活性化
• リン酸化
生理機能の詳細は不明
DNAのメチル化
• 哺乳類の細胞に見られるDNAのメチル化は、
5’-CG-3’配列(CpG)を有するシトシン残基に
のみ起こる。
• インプリンティング遺伝子の多くは、父親由
来または母親由来の一方の染色体側のCpG
配列中にメチル化を受ける領域を有している。
Reik W and Walter J. (2001) Nature Rev Genet 2:21
2
de novo メチル化
DNAメチル化酵素(Dnmt)
• Dnmt1
維持メチル化に必須。ヘミメチル化DNA
に優先的に働く
• Dnmt3a・Dnmt3b
維持メチル化とde novoメチル化の
両方に働く酵素。胚盤胞以降de novo
メチル化の主役。
脱メチル化
• 受動的脱メチル化
維持型Methylaseが働かない。DNA複製
後、維持メチル化が働かない状態で、次の
複製が起こるために生じる。
• 能動的脱メチル化
受精直後の精子ゲノム、始原生殖細胞
細胞分化後の一部の細胞のプロモーター
DNA修復の際にシトシンに置換される
CG
GC
5'
3'
mCG
3'
5'
GmC
メチル化維持機構 ヘミメチル化DNA
mCG
G C
mCG
GmC
複製
mCG
GmC
受動的脱メチル化 ヘミメチル化DNA
mCG
G C
複製
GmC
GmC
methyltransferase
C G
GmC
mCG
mCG
mCG
G C
CG
GC
CG
GC
C G
GmC
能動的脱メチル化
5-メチルシトシンから中間体を経てシトシンに置換
DNAメチル化によるインプリンティング制御
DNAメチル化によるインプリンティング制御
(1)プロモーターのメチル化
(3)アンチセンスRNA
アレル1
アレル2
アレル1
CH3
non-coding RNAを含むアンチセンス転写
生成されたRNAはセンス方向の転写を抑制
(2)サイレンサー
アレル1
アレル2
CH3 CH3
CH3
アレル2
CH3 CH3
silencer
3
DNAメチル化によるインプリンティング制御
(4)インシュレーター
父親由来
Igf2
インプリンティング
制御領域(ICR)
CH3
不活性型
insulator
X染色体不活性化の転写制御仮説
不活性化X(Xi)
H19
enhancer
Xist
分化過程でメチル化
される領域(DMR)
CH3
不活性型
insulator
Xistは非翻訳RNAを
コードし、このRNAが
染色体を覆う
Tsix enhancer
活性化X(Xa)
母親由来
転写制御因子
Igf2
活性型
insulator
転写制御因子
H19
Xist
活性型
insulator
Tsix
Nature
428:860
(2004)
Mice without father!
Reproduction 128:1 (2004)
Nature
428:809
2004より
• インプリント遺伝子の近くには、インプリンティン
グ調節領域が存在する。
• インプリンティング調節領域は、アレル間でメチ
ル化状態が異なる。
• 調節領域の脱メチル化が進むと、インプリント遺
伝子の発現異常が認められる。
• 維持メチル化機構は、受精後のインプリントの
維持に必須である!
• インプリント=メチル化!?
• 受精直後から、胚盤胞にいたる過程で脱メチル化が
起こり、メチルシトシンの大半が失われる。
• 着床後、各体細胞系列の分化とともにゲノムのメチ
ル化レベルは急速に上昇する。
• 形態形成が完了するころまでに、成体に見られる組
織特異的なメチル化パターンが確立される。
• 着床前における脱メチル化は、インプリンティング調
節領域では起こらず、アレル特異的なメチル化が消
去されずに残り、これが、父・母由来を区別するため
の指標として働く。
4
Reik W and Walter J. (2001) Nature Rev Genet 2:21
2種類のリプログラミング
• リプログラミング
=ゲノムの修飾状態の書き換え
1.受精後の卵割期
ゲノム全体の脱メチル化。
インプリントは、維持される。
2.配偶子形成期
インプリントを含むすべての修飾が消去される。
配偶子形成後に、配偶子に特異的な修飾が確立さ
れる。
ヒストン修飾による転写への影響
H3K4
活性化
H3K36
活性化
H3K79
活性化
メチル化
H3R3
活性化
H3K9
抑制化
H3K27
抑制化
H3R8
抑制化
H2AK5
H2BK12, 15
アセチル化
活性化
H4K5, 8, 12, 16
H3K9, 14, 18
H2AK119
抑制化
ユビキチン化
H2BK123
活性化
H2AS1
抑制化
リン酸化
H3S10
活性化
(羽田・岡田、2014、生体の科学65:535)
K:リジン R:アルギニン S:セリン
クローン動物のゲノム修飾
• クローン個体作出には、DNAメチル化をは
じめ、体細胞核のゲノム修飾を消去するこ
とが必要。
• ただし、父母由来を識別するインプリントは
維持される必要がある。
• 着床後のde novoメチル化とクロマチン変化
により正しいパターン構築が必要。
PGCクローンの発生
5
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