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非共振型超音波モータ駆動ステージの制御パラメータモニタリング
熊本大学
:○古川博之,小磯公房,遠藤泰史,橋口弘幸,原田崇,
永本恵市,中田明良,久保田弘
有限会社熊本テクノロジー
:小坂光二,岩渕哲也,馬場哲郎,江頭義也
太平洋セメント株式会社
:山川孝宏,渡邊雅幸
エンコーダ
クロス
ローラーガイド
リニアスケール
制御ユニット
リミット信号
リミットセンサ
制御信号
NRUSM
圧電アクチュエータ
図 2.NRUSM ステージシステム構成
目標速度
K(Vff)
比例項P
目標位置
+
-
モータ出力値
積分項I
微分項D
実際位置(スケール読み値)
図 3.NRUSM サーボモデル
情報は,リニアスケール/エンコーダ(ミツト
ヨ:ST32A,最高分解能 10nm)を用いて検出
した.
RS232C
ステージ
ガイドプレート
制御PC
2.NRUSM 駆動ステージシステム
図 1 は,本実験に用いた 100mm ストロー
クステージ(シグマテック(株):全重量 2.1kg,
可動部重量 1.2kg,トップテーブル 180×
120mm)である.
図 2 は,本実験に用いたステージシステム
の構成である.ステージ側面に取り付けられ
たアルミナセラミックス製のガイドプレート
に直接モータの先端を接触させている.制御
PC より入力された指令は,RS232C ケーブル
により制御ユニットへ取りこまれる.制御ユ
ニットは, PID 制御を採用しており,図 3
に示すように目標位置と実際位置の差分を取
り、比例項,積分項,微分項となる係数 P,I,
D を掛けることでモータ出力値を計算し制御
信号を電圧振幅として出力する.また、位置
図 1.100mm ストロークステージ
位置情報
1.はじめに
驚異的な進歩を遂げている半導体集積回路
(LSI)においては,超精密位置決めと高速度か
つ高精度移動が可能なステージの必要性が増
してきている.研究を進めている非共振型超
音 波 モ ー タ は NRUSM ( Nonresonant
Ultrasonic Motor)[1]は,ナノメートルオー
ダ以下の分解能を持つ圧電素子を電圧によっ
て制御することにより,超精密位置決めを可
能としている.
しかし,摩擦力を介して圧電素子の変位を
ステージに伝えるため,駆動中には必ずモー
タとステージの接触面において摩耗による発
塵が起こる.そのため駆動中における時間位
置誤差が変化するものと考えられる.
本実験においては,駆動中に変化するパラ
メータとして,目標位置と実際の位置との差
である時間位置誤差に注目した. 最終的な目
標は,変化する接触面などに対して制御側で
最適な駆動状態を極力維持すると共に最適な
制御パラメータの変化からモータとステージ
の接触部の状態を把握し予兆予測をすること
である.
3.2 連続往復移動による影響
図 5 は,10mm の区間を 1mm/s で 300 回
往復移動させた後の時間位置誤差の変化の様
子である.この時の PID 定数は、図 4 で最適
とした値で固定して実験を行った.
図に示すとおり,最大約 3μm の時間位置
誤差が発生している.また図 6 は,等速領域
における時間位置誤差の総量を往復回数別に
示したものである.連続往復移動の量が多く
なるに従って,総量が増加していることが明
らかである。駆動により発塵の量が増して,
その結果時間位置誤差が大きくなったと考え
られる.発塵を低減する接触部の材料改良と
共に,時間位置誤差の往復回数に伴う増大に
対応した制御パラメータのリアルタイム最適
化技術の確立が求められている。
4.まとめ
本実験により,制御パラメータの最適化に
より時間位置誤差の抑制が可能であること、
またモータの駆動量に応じて時間位置誤差が
大きくなることが確認できた.これらより,
駆動状態に応じて最適な制御パラメータが変
化することが考えられる.逆に、最適な制御
パラメータをモニタリングすることにより,
接触部の状態を把握することが可能となるこ
とが予想される.
謝辞
本研究は,科学技術振興事業団熊本地域結集
型共同研究事業の助成により行われたもので
ある.
position error[nm]
0
1
2
3
4
3
4
time[sec]
(a)任意の PID
position error[nm]
500
400
300
200
100
0
-100
-200
-300
-400
-500
0
1
2
time[sec]
(b)最適な PID
図 4.等速領域における時間位置誤差
4000
3000
position error[nm]
3.1 制御パラメータの最適化
図 4 は,任意に PID の値を設定した際の時
間位置誤差(a)と最適な PID の値に設定した
際の時間位置誤差(b)を比較したものである.
(a)においては、最大 450nm の時間位置誤差
が生じているのに対して、(b)においては時間
位置誤差が±100nm 以内に収まっている。こ
のように適切な制御パラメータに設定するこ
とが,ステージの性能を最大限まで引き出す
ことを可能にする.時間位置誤差を小さくし
て高精度な駆動を実現するためには適切な
PID の定数設定が必要になってくる.
500
400
300
200
100
0
-100
-200
-300
-400
-500
2000
1000
0
-1000
-2000
-3000
-4000
0
2
4
6
8
10
12
time[sec]
図 5.連続往復移動後(往復移動 300 回後)
における時間位置誤差
合計時間位置誤差[μm]
3.実験結果
本 実 験 で は , 10mm の 区 間 を 最 高 速 度
1mm/s,加速度 1mm/s2,印加電圧の周波数
は 20kHz という条件で駆動させた際の時間
位置誤差のデータを駆動条件別に取った.
600
500
400
300
200
100
0
0
50
100
150
200
250
300
往復回数
図 6.往復回数別の時間位置誤差の総量
参考文献
[1] Y.Egashira, et al.”Sub-Nanometer Resolution
Ultrasonic Motor for Wafer Lithography Precision
Stage”,Jpn.J.Appl.Phys.,Vol.
41,pp.5858-5863,2002
問い合わせ
熊本大学
久保田弘
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