TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE 東京エレクトロン 会社案内 TOP MESSAGE 夢のある社会と産業界の発展に貢献する 「新生東京エレクトロン」へ 基本理念 基本理念は、東京エレクトロンの存在意義、社会的使命を定義したものです。 企業活動の拠り所となる最も基本的な考え方です。 最先端の技術と確かなサービスで、 夢のある社会の発展に貢献します 経営理念 経営理念は、基本理念を実現するために、東京エレクトロンが大切にする 経営の規範を 8 つの項目で明示したものです。 1 利益について 5 社員について 社会や産業の発展に貢献すべく、利益の 社員は価値創出の源泉であり、創造性と 追求を重視し企業価値の向上を目指し 責任感と強いチームワークで情熱をもっ ます。 て業務に取り組みます。 2 事業分野について 6 組織について エレクトロニクスを中心とする最先端技 個々の能力を最大限に発揮し、企業価値 術分野において、高品質な製品を提供し を最大化する最適な組織を築きます。 市場をリードします。 1947 年のトランジスタの発明にはじまり半導体の歴史 当社は 2015 年 7 月に、新中期経営計画を策定しました。 はまもなく 70 年となりますが、その間、社会的生産性、 新たに設定した『革新的な技術力と、多様なテクノロジー 人類の生活は飛躍的に向上しました。さまざまなものが を融合する独創的な提案力で、半導体産業と FPD 産業 インターネットにつながる IoT(Internet of Things) 時代 に高い付加価値と利益を生み出す真のグローバルカンパ の到来により、半導体は、医療、教育、金融、自動車、 ニー』というビジョンのもと、常に挑戦する精神をもっ 航空、宇宙、安全、環境など、今後大きな成長が期待で て当社グループの持続的成長、企業価値の最大化を図っ きるあらゆる産業の中核技術として利用され、世界的に てまいります。ステークホルダーの皆さまの信頼とご期 その重要性はますます高まっています。当社が取り扱う 待に応えるべく、透明性の高い経営を維持、強化し、夢 半導体製造装置およびフラットパネルディスプレイ のある社会と産業界の発展に貢献してまいります。今後 （FPD）製造装置は、いずれもこうした産業の基盤を生 とも皆さまの変わらぬご支援を賜りますよう、よろしく み出し、またその技術革新を支えるコア技術であり、さ TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE PAGE 1 2 お願い申し上げます。 まざまなエレクトロニクス機器の進化を可能にします。 代表取締役社長・CEO 河合 利樹 3 成長について 7 安全と健康と環境について 技術革新に常に挑戦し、事業拡大と市場 事業に関わるすべての人々の安全と健 創出により継続的な成長を図ります。 康、および地球環境への配慮を第一に考 えて行動します。 4 品質とサービスについて 8 企業の社会的責任について 顧客の満足と信頼を得るために真のニー 企業としての社会的責任を自覚し、社会 ズを理解し、品質とサービスの向上に努 から高く評価され社員が誇りを持てる企 めます。 業であるよう心がけます。 東京エレクトロンの歴史 ＝日本の半導体産業の歴史 TEL™ HISTORY 米ベル研究所でトランジスタが発 明されて約 70 年。IoT 時 代の到 来に向けて、半導体市場はまだ黎 明期の段階といえるのです。 東京エレクトロンは日本の半導体産業の歴史とともに歩み、成長してきました。 設立から約半世紀。創業以来、つねに最先端の技術を追い求め、 たゆまぬ技術革新を重ね歩んできた、東京エレクトロンの歴史を紹介します。 1990 年代 TEL 連結売上高 （億円） 10000 ’60s ’70s 8000 1960 年代 6000 4000 1963 （株）東京放送の出資により、東京都港 区赤坂に資本金 500 万円で（株）東京 エレクトロン研究所を設立 1968 米国サームコ社との合弁会社 テル・サー ムコ（株）を設立 東京エレクトロン誕生の地 1970 横浜のテル・サームコビルに移転し、国 産・自社生産体制を確立 1975 （株）テル・エンジニアリングと（株）メッ クエンジニアリングが合併し、 （株）テル メックとなる 1976 テル・サームコ社が世界初の高圧酸化装 置を開発 1977 パネトロンを吸収合併 1978 東京エレクトロン（株）に商号変更 ’90s コータ／デベロッパ 「CLEAN TRACK ™ MARK V」出荷（ʼ89） 1980 東京証券取引所市場第二部に上場 1983 米国ラム・リサーチ社との合弁会社テル・ ラム（株）を設立 1984 （株）テルメックを吸収合併 東京証券取引所市場第一部に指定替え 1986 テル・ラム（株）のラム・リサーチ社出資 分を買い取り、100％子会社とする 1987 テル九州（株）を設立 1988 テル・サームコ（株）の米国サームコ社の 出資分を全額買い取り、100％子会社 とする 1982 年、 第 1 回セミコン・ジャパン（ʼ 77） Key Topic 1964 年、 ’00s 1980 年代 Key Topic サームコ社拡散炉 赤坂 TBS 旧社屋 2000 ’80s 1970 年代 1990 フラットパネルディスプレイ製造装置市 場に本格参入 1994 Tokyo Electron Europe Ltd. 設立 1997 東 京エレクトロン東 北（株）相模 事 業 所がグループ内で最初の ISO14001 認 証を取得 1998 縦型拡散炉 5,000 台出荷達成 1999 東 京証券取引所より「第 4 回ディスク ロージャー優良企業」に選定される ME-450 LCD プラズマエッチング / アッシング装置出荷（ʼ90） Key Topic 1994 年、 欧米での直接販売・ サポート体制を開始 山梨事業所内に 総合研究所を設立 米国サームコ社製 拡散炉の輸入開始 ニューヨーク州が推進する研究開発支援 プログラム Albany NanoTech ’10s 2000年代 2000 コー タ／デ ベ ロッパ「CLEAN TRACK ACT 8」累計 1,000 台出荷達成 2001 日経 225 銘柄に採用される 2002 Tokyo Electron (Shanghai) Ltd.を設立 Albany NanoTech プログラムへの参加 表明 2003 TEL Technology Center, America, LLC を設立 2004 米 国 持 株 会 社 Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc. を設立 2006 TEL Venture Capital, Inc. を設立 Epion 社（米国）を買収し、TEL Epion Inc. を設立 Key Topic 2015 年、 新生 TEL として再出発 2010年代 2010 東京エレクトロン宮城（株）を設立 2011 Tokyo Electron（Kunshan）Ltd. を設立 2012 Tokyo Electron Singapore Pte. Ltd. を設立 NEXX Systems 社（米国）を買収し、TEL NEXX, Inc. を設立 FSI International 社（米 国 ）を買収し、 TEL FSI, Inc. を設立 Magnetic Solutions 社（アイルランド） を 買 収 し、TEL Magnetic Solutions Ltd. を設立 2014 東京エレクトロン デバイス（株）株式の 一部を売却し、連結子会社から持分法 適用関連会社へ異動 東京エレクトロン宮城（株） 0 1963 技術専門商社 1980s メーカーへの移行 1990s グローバリゼーション 2010s イノベーションと成長 エレクトロニクス産業黎明期の 1963 年。「半導体こそ 創業当初から手がけてきたコンシューマー製品の輸出事 1990 年代からはサービスや製造を担う会社を設立する 創業から 50 年を迎えた現在も、積極的な成長投資を継 産業界を変革する」という信念のもと、商社をスピンア 業から撤退し、半導体製造装置などの産業機器の輸入に など、国内グループ体制を強化する一方、飛躍的に成長 続し、さらなる飛躍を目指しています。2010 年には、 TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE ウトした久保徳雄、小高敏夫らの若者によって、東京エ 事業を集約しました。日本のお客さまの技術的要求に高 し始めた世界市場へ本格的に進出するため、直接販売・ 高い国際競争力と付加価値を持つ製品の提供を目指し、 PAGE レクトロン研究所（旧社名）が誕生しました。半導体製 い水準で対応するため、米国の半導体製造装置メーカー サポートする体制の構築を進め、世界各国に現地法人を 宮城県に最新鋭の設備をそなえた工場を設立しました。 造装置などの産業機器を米国から輸入するビジネスに加 と合弁会社を立ち上げ、その技術を習得することで装置 設立しました。この頃から海外向け売上比率が国内向け また世界各国のコンソーシアムや産官学連携を通じた先 え、カーラジオなどのコンシューマー製品の輸出事業も の自社生産も徐々に可能となりました。メーカー機能を 売上比率を逆転し、世界を舞台に活躍する会社として成 端技術開発、革新的企業であり続けるための M＆ A など、 手がける技術専門商社としてスタートしました。 持つ商社という独特なポジションを確立し、1984 年に 長していきます。 創業当時抱いたベンチャースピリットは今も受け継がれ 3 4 は東証一部上場を実現します。 ています。 BUSINESS 東京エレクトロンがつくる 人類の未来 インターネットに接 続が 可能な機 器は 2014 年の 142 億台から、2020 年には 500 億台に なると予想されています。インターネットにつ ながる人もモノも急増するのです。 東京エレクトロンは半導体を生産する「半導体製造装置」、 フラットパネルディスプレイ（FPD）の生産を担う「FPD 製造装置」の 2 つの基幹事業を中心にビジネスを展開しています。 私たちが日々使っているスマートフォンから、地上約 100 キロメートル以上で活躍する人工衛星まで、半導体 FUTURE. 1 は幅広く使われています。半導体というと、デジタル製 身のまわりの ものから 宇宙まで 品を連想するかもしれませんが、現在では自動車や産業 機器、家電、公共インフラなど、身のまわりの多くのも のに組み込まれています。 さまざまな「モノ」がインターネットでつながる IoT （Internet of Things）時代を迎える今、これまで以上に 高性能かつ膨大な数の半導体が必要とされています。そ の「半導体をつくる機械をつくる」のが私たち東京エレ クトロンです。東京エレクトロンは、創業以来 50 年以 上にわたり培ってきた技術や知見を礎に、これからも夢 のある社会の発展に貢献していきます。 FUTURE. 2 IoT でつながる世界が半導体需要を拡大します 「秒進分歩」で 変化する ビジネス環境 データセンター 医療・ヘルスケア 交通 2015 年 市場規模 インターネット 産業用機械 世界電子機器市場 環境 トランジスタの発明以降、半導体を搭載した製品の需要 206.3 兆円 が高まり、多くのエレクトロニクス機器が開発されまし 自動車 ウエアラブル た。これにともない、半導体産業も類を見ない速さで成 世界半導体市場 長してきました。今後も半導体の用途は拡大し続け、求 40.5 兆円 められる性能も高くなります。東京エレクトロンは、自 住宅 モバイル 社の研究開発力を強化するとともに、国内外のコンソー シアムの活用、国家プロジェクトへの参画や、大学・企 TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE 業との共同開発を通じて既存分野の強化はもちろん、新 規分野への進出に取り組み、半導体市場とともに進化し 続けています。 6 半導体前工程 製造装置市場 3.8 兆円 また、半導体市場とともに拡大するフラットパネルディ スプレイ (FPD) 市場においても、半導体製造装置事業 PAGE 5 ・メモリ ・プロセッサ ・センサー で培ったノウハウを生かし、スマートフォンなどのモバ イル機器やテレビに使用されるパネル型ディスプレイを 製造する装置を開発・提供しています。 Source：Gartner ”Forecast:Semiconductor Wafer-Level Manufacturing Equipment, Worldwide, 1Q16 Update“ 14 April 2016 (Exchange Rates per U.S. Dollar -Yen 121.02) Charts/graphics created by Tokyo Electron based on Gartner research. PRODUCT 最先端のモノづくり、 最高のサービス 10 億分の 1 メートル＝ 1nm。1mm の 1000 分 の１が 1㎛、 そこからさらに 1000分の 1 のスケー ルが 1nm です。原子や分子レベルの極 小世 界でさまざまな半導体がつくられています。 東京エレクトロンは「半導体製造装置」、 「フラットパネルディスプレイ（FPD）製造装置」の二つの 事業を柱にビジネスを展開。東京エレクトロンが開発・製造・販売する装置の多くが、 世界でトップシェアを獲得しています。 半導体製造装置 ㎛：マイクロメートル、nm：ナノメートル ［FPD 製造の要となる前工程（TFT アレイ 半導体の製造プロセス 半導体は PC やスマートフォン、デジタルカ プロセス）も、半導体の製造プロセスとほぼ同様のステップを踏みます。 ］ パターン形成 メラ、自動車、家電などあらゆるデジタル製 素子分離形成、ゲート形成 品の基幹部品として利用されています。この ※ 1 パターン設計 半導体を「つくる」ための主要な工程をカバー する半導体製造装置を開発し、優れた技術サ 熱処理成膜装置 要求される機能に応じた、さま TELINDY PLUS™ ざまな 回 路 を組み 合 わ せ、パ ターン設計を行います。 ポートとともに、世界中の半導体メーカーに ご提供しています。 ※ 2 フォトマスク作成 主な製品は、「コータ／デベロッパ」「エッチ 設 計 し た レ イ ア ウト 通 り に ウェーハを焼き付けるための、 ング装置」 「熱処理成膜装置」 「枚葉成膜装置」 パターンを描いたガラスプレート （フォトマスク）を作成します。 「洗浄装置」「テストシステム」などです。 コータ／デベロッパ レジスト塗布現像装置 CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ Z プラズマエッチング装置 枚葉洗浄装置 Tactras™ CELLESTA™ -i ALD 装置 枚葉成膜装置 NT333™ これらの製品の多くが世界市場でトップシェ アを獲得しています。 フォトレジスト シリコン酸化膜 シリコン窒化膜 絶縁膜 COLUMN ナノの世界って ? ウェーハ 半導体の内部は数十～数百ナノメートルの単 位で微細加工されています。これは、ウイル スや DNA の二重らせんの直径とほぼ同じ世 酸化膜形成・窒化膜形成 フォトレジスト* 塗布 露光 現像 エッチング レジスト剥離・洗浄 前処 理として、ウェーハ洗浄を ウェーハを高 速 回 転 させ な が IC パターン※ 1 を描いたフォトマ 露光されたフォトレジストを現 プラズマエッチング装置で、フォ エッチング 後 に 不 要 に なった 形成したパターンに絶縁物であ 酸 化、CVD* あるいは、ALD** 行い清 浄な表面を準 備します。 ら、フォトレジストをウェーハ全 スク※ 2 をウェーハに合わせ、露 像液で溶かします。これにより、 トレジスト上に 現 像 さ れ た パ フォトレジストを除去します。ま るシリコン酸 化 膜を埋め込み、 法などを用いて、ゲート絶縁膜 熱処理成膜装置でウェーハに高 面に薄く、均一に塗布します。 光装置で UV 光を照射し、フォ 使 用したフォトマスクに応じた ターンに従って、成膜されたシ た、洗浄装置でウェーハを薬液 個別トランジスタ（素子）の領域 およびゲート電極を堆積・成膜 温プロセス処理をし、シリコン ＊フォトレジスト : UV 光により性 質変化が起こる感光材料 トレジストにパターンを転写し パターンがウェーハ上に残りま リコン酸化膜・シリコン窒化膜 に浸して、不純物を除去します。 を分離します。 し、ゲートを形成します。ゲー ます。 す。 を削り取ります。 界です。 酸化膜・シリコン窒化膜を形成 半導体製造装置がナノレベルでの加工技術を します。 ト形 成 後、シリコン 窒 化 膜 を CVD、ALD 法で成膜します。 ＊ CVD：Chemical Vapor Deposition( 化学気相成長 ) ＊＊ ALD：Atomic Layer Deposition( 原子層堆積 ) 可能にすることによって半導体の微細化が進 み、より薄く、より速く、より軽い PC やス コンタクト形成 多層配線形成 ウェーハ検査 ウェーハバンプ形成 マートフォンをつくることができるようにな 支持基盤貼り合わせ・ 薄化・剥離 ダイシング・検査 組み立て工程 りました。 ナノの世界を詳しくご紹介した NANOTEC MUSEUM をぜひご覧ください。 http://www.tel.co.jp/museum/welcome. html リンパ 10 マイクロメートル 枚葉成膜装置 ウイルス プラズマエッチング装置 Tactras™ 800 ナノメートル 22 ナノメートル 2 ナノメートル ウェーハボンディング／ デボンディング装置 ウェーハプローバ 半導体 回路パターン Precio™ / Precio™ XL めっき装置 Stratus™ Synapse™ V / Synapse™ Z Plus ダイシングフレームプローバ WDF™12DP+ 金属膜 DNA 金属膜 層間絶縁膜 TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE PAGE 7 8 個別トランジスタを繋ぐ配線を 上下パターンの分離のため絶縁 完 成された集 積回路の一つひ UBM* を敷いたウェーハ上にパ 裏面研磨装置でウェーハ裏面を ダイシング刃でウェーハを切り 良 品チップをパッケージ 基 板、 形成するため、ゲート上に層間 膜を堆積し、配線溝パターンを とつに検査針を当て良・不良判 ターンを形成し、電解めっき法 削り薄化します。支持基盤やサ 出し、チップごとに分離します。 またはリードフレームに接続し、 絶縁膜を堆積・成膜し上下パター つくり、その溝（トレンチ）に金 定を行います。 で、 再配線層や突起電極 （バンプ） ポートウェーハを貼り合わせる 分離されたチップ一つひとつに セラミック樹脂などに封入します。 ンの分離を行います。接続孔（コ 属膜を埋め込み、余分な膜を研 となる金属膜を堆積させます。 ＊ UBM:Under Bump Metal 場合もあります。その後、支持 対し、良・不良判定を行います。 ンタクトホール）をつくり、CVD 磨・除去します。これを配線階 法で金属膜を埋め込みます。 層分繰り返します。 基盤をデボンディング装置によ り剥離します。 PRODUCT イレブンナインと呼ばれる超高純度の半導体 シリコンを、安定的に加工する高度な技術を 東京エレクトロンは有しています。 フラットパネルディスプレイ（FPD）製造装置 フィールドソリューション FPD とは、平坦な板状のディスプレイです。CRT（ブラ カーに高性能な装置をご提供しています。 ウン管）に代わってパソコンや液晶テレビなどで使用さ 主な製品は、基板上にレジストを塗布し、露光後に現像 れるほか、スマートフォンなどのモバイル機器用として する「FPD コータ／デベロッパ」、基板上に形成された も広く普及し、現在では日常生活に欠かせない存在です。 パターンに沿って膜を削り取る「FPD プラズマエッチ 今後、あらゆるものをインターネットにつなぐ「IoT」 ング／アッシング装置」、大気中で大型ガラス基板に有 のひろがりにより、大きな需要とさらなる技術革新が期 機材料を必要量のみ吐き出す「有機 EL パネル製造用イ 待されています。 ンクジェット描画装置」です。高品質化や低コスト化、 東京エレクトロンは半導体製造装置で培った製造ノウハ 大画面ディスプレイの需要拡大に伴う基板サイズの大型 ウを応用し、1980 年代からフラットパネルディスプレ 化など、お客さまのさまざまなご要望に優れた製品と技 イ製造装置の開発を開始。現在では、多くのパネルメー 術で応えます。 FPD プラズマエッチング / アッシング装置 Impressio™ IoT 時代の到来により、これまでにも増して多種多様な FPD コータ / デベロッパ 有機 EL パネル製造用 インクジェット描画装置 Exceliner™ Elius™ 認定中古装置 半導体技術が求められるようになり、それを支えるサー ビスへの期待が高まっています。東京エレクトロンは世 界各地のお客さまのご要望に合わせ、当社の製品が最大 ワールドワイド 装置納入実績 限に活用されるよう、ハイレベルのサービスを提供する 59,000 ことに力を入れています。世界で 59,000 台以上の装置 納入実績を基盤に、専門の知識、経験を持つサービスエ COLUMN 台以上 FPD 製造装置で扱う ディスプレイの変遷 ンジニアが、すべての東京エレクトロン製品のライフサ パネルの大きさ イクルをトータルにサポートします。 サービス サービス 以下の項目をお客さまのご要望に沿った組み合わせでご 提案します。 ● 10 ● 装置総合効率向上・維持サービス （TELeMetricsTM） 装置をリモート接続し、装置稼動データを分析することにより、 お客さまの課題に応じたソリューションをご提供します。 認定中古装置 ×横 2.88m というサイズを誇ります。業界で は G10 と呼ばれるサイズで、約 6 畳分に相当 3D します。大きな基板に均一なプロセスを施す 液晶 有機 EL ンはたゆまぬ研究開発でこれを実現していま ブラウン管 プラズマ フレキシブル 1980 2000 FUTURE には高い技術が必要ですが、東京エレクトロ す。 2.88 m 新品装置と同等の機能を有した中古装置を適正価格・短 納期でご提案します。 改造／アップグレード お客さまに必要なプロセスと技術動向に沿った改造をご 提案します。また、最先端装置の機能をアップグレード キットとして旧モデル装置にご提供します。 1.7 m 3.13 m HUMAN 装置延命 製造中止後 8 年を経過した装置の延命をサポートします。 PAGE 9 ● 4K・8K 東京エレクトロンの製造装置を 最大限に活用するサポート体制 FPD パーツ・リペア 純正のスペアパーツおよび部品リペアをご提供します。 TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE だされるパネル基板は、大きいもので縦 3.13m 装置サポート 専門知識、経験を持つフィールドエンジニアが、装置の安定稼動 をサポートします。 ● 東京エレクトロンの FPD 製造装置からつくり 改造／ アップグレード 地球を舞台にした 事業活動 GLOBAL TEL 東京エレクトロンは世界 16 の国と 地域で事業を展開。そこから市場 にあった製品を開発・販売し、世 界ナンバー１を目指しています。 活動の舞台は地球全体の国と地域。日本、米国、アジア、ヨーロッパと、 世界各地に広がる拠点からエレクトロニクス産業を支えています。 米国 ：本社 ：支社、事業所、フィールドサポート拠点、営業所 ● Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc. TEL Epion Inc. 米国統括拠点 ガスクラスターイオンビーム（GCIB）技術を用いた 半導体製造装置および産業用製造装置の開発・製造・販売 A : Austin D Tokyo Electron America, Inc. アジア TEL NEXX, Inc. 米国におけるサービスおよびセールスサポート Tokyo Electron Korea Limited : Austin 事業所 : Boise, Fishkill, Fremont, Malta, Manassas, Phoenix, Portland, Lehi 韓国におけるサービスおよびセールスサポート、 半導体製造装置の研究・開発 TEL Technology Center, America, LLC めっき装置、PVD 装置の開発・製造・販売 A : Hwaseong 事業所 : Balan, Cheonan, Cheongju, Gumi, Icheon, Paju 半導体製造装置の研究・開発 Tokyo Electron Taiwan Limited TEL Venture Capital, Inc. 台湾におけるサービスおよびセールスサポート、 半導体製造装置の研究・開発 有望技術を持つベンチャー企業への投資 J K B C : Billerica D : Billerica TEL FSI, Inc. サーフェス プレパレーション装置の開発・製造・販売 E : Chaska : Albany : Fremont : Hsinchu Tokyo Electron (Shanghai) Limited 中国におけるサービスおよびセールスサポート L H F : Shanghai 事業所 : Beijing, Wuxi, Xi'an E Tokyo Electron (Shanghai) Logistic Center Limited G 中国における部品の調達と供給 M : Shanghai N Tokyo Electron Singapore Pte. Limited L O M A シンガポールおよび東南アジア地区における サービスおよびセールスサポート ヨーロッパ K : Singapore 国内 3 Tokyo Electron Europe Limited 5 2 全ヨーロッパの統括拠点、 ヨーロッパにおけるサービスおよびセールスサポート F 1 O 6 7 4 TEL Solar Services AG 太陽光パネル製造装置のフィールドサポート G : Trubbach(Switzerland) 装置の立ち上げ、調整および改造、部品の販売 6 本社 : 府中事業所 ステーション : 岩手、韮崎、 富山、津、三重、大阪、堺、東広島、大分、合志 サテライト : 鶴岡、石川、茂原、亀山 東京エレクトロン山梨株式会社 枚葉成膜装置、プラズマ処理装置、 サーフェスプレパレーション装置、テストシステム、 FPD エッチング / アッシング装置の開発・製造 2 本社 : 山梨事業所（藤井） 事業所 : 山梨事業所（穂坂） 熱処理成膜装置の開発・製造 3 本社 : 岩手 事業所 : 山梨事業所（穂坂） 磁場中熱処理装置の開発・製造・販売 : Dublin(Ireland) 東京エレクトロン九州株式会社 Tokyo Electron Israel Limited コータ / デベロッパ、サーフェスプレパレーション装置、 FPD コータ / デベロッパの開発・製造 4 本社 : 合志事業所 事業所 : 大津 イスラエルにおけるサービスおよびセールスサポート I 東京エレクトロン FE 株式会社 本社 : 東京（赤坂） 支社、営業所 : 府中、大阪、藤井、穂坂、札幌、九州 東京エレクトロン東北株式会社 TEL Magnetic Solutions Limited H 東京エレクトロン株式会社 1 : Crawley(U.K.) 事業所：Milan, Avezzano, Catania(Italy), Grenoble(France), Dresden(Germany), Dublin(Ireland), Nijmegen(Netherlands), Villach(Austria) : Kiryat Gat 東京エレクトロン宮城株式会社 プラズマエッチング装置の開発・製造 5 本社 : 宮城 事業所 : 松島、藤井、穂坂 TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE PAGE 11 12 F Tokyo Electron Europe Limited J Tokyo Electron Korea Limited K D J FPD 製造装置の製造および部品の補修 N : Kunshan I B C Tokyo Electron (Kunshan) Limited Tokyo Electron Taiwan Limited M Tokyo Electron (Shanghai) Limited A Tokyo Electron U.S.Holdings, Inc. 1 東京エレクトロン株式会社 東京エレクトロン BP 株式会社 物流サービス、施設管理、 ビジネスサポート（給与・福利厚生） 、オフィスサポート 6 本社 : 府中事業所 営業所 : 岩手、金ヶ崎、金ヶ崎第二、 大和、松島、成田、成田第二、横浜、藤井、穂坂、 甲府昭和、武田、三重、新門司、大津、合志 東京エレクトロン エージェンシー株式会社 保険代理 6 本社 : 府中事業所 東京エレクトロン デバイス株式会社 半導体製品、ボード製品、一般電子部品および ソフトウェアの購入、販売およびネットワーク、ストレージ、 ミドルウェアの各ソリューションの販売・サポート 7 本社 : 横浜 CORPORATE DATA 会社概要 設立 1963 年 11 月 11日 資本金 549 億 6,119 万円 1,426 人（単独） 10,629 人（連結） 従業員数 （2016 年3月末現在） 代表者 部門別売上高 （連結） 売上高 6,639 代表取締役社長・CEO 河合 利樹 当期純利益 778 東京エレクトロン株式会社 本社 〒 107-6325 東京都港区赤坂 5-3-1 赤坂 Biz タワー （単位 : 億円） TEL : 03-5561-7000 / FAX : 03-5561-7400 http://www.tel.co.jp 半導体製造装置 6,130 FPD 製造装置 その他 446 62 全世界合計 38 社 16 カ国・地域 74 拠点 事業拠点 日本 韓国 台湾 中国 シンガポール インド 米国 英国 イタリア フランス ドイツ アイルランド オランダ オーストリア スイス 地域別売上高 構成比 （連結） イスラエル 台湾 日本 韓国 中国 欧州 その他 25.6% 13.2% TOKYO ELECTRON CORPORATE PROFILE PAGE 13 14 18.3% 8.5% 16.2% 2.6% 米国 15.6% 〒 107-6325 東京都港区赤坂 5-3-1 赤坂 Biz タワー Tel.03-5561-7000 www.tel.co.jp TEL は、東京エレクトロン株式会社の日本およびその他の国における登録商標または商標です。 PR54-159
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