出展社セミナー 7/12(水)

■出展社セミナー
●会場:5ホール会議室 ●入場無料 ●事前登録なし ●先着順
●同時通訳付
●最新技術,応用技術事例の紹介
●テーマ,講師については変更する場合がございます。
■7/12(水)
10:30〜11:20
高出力半導体レーザーの最新動向
フランク レイブリッヒ
スペクトラ・フィジックス
概要
高出力半導体レーザーの媒体、温度制御等に関する最新の動向
11:30〜12:20
産業用高出力半導体レーザー
ジョルグ ノイカム
ディラス社
概要
高効率高出力半導体レーザーについて
12:30〜13:20
イエナオプティック ダイオードレーザ グループによる信頼性の高い高出力半導体レー
ザ
ヨハネス ウォルフ
イエナオプティック レーザダイオード
概要
"Quality First !"をモットーに製造・販売される同社の高出力半導体レーザの解説を行います。
13:30〜14:20
超高輝度半導体レーザー
エド マッキンタイアー
概要
クインテッセンス フォトニクス コーポレーション
QPC(Quintessence Photonics Corporation)における780-1600nm 帯レーザーダイオードのスペクトル、空
間的超高輝度を実現した最新技術を紹介します。
14:30〜15:20
マイクロエレクトロニクス製造における半導体励起固体レーザー
フィリップ フェルー
スペクトラ・フィジックス
概要
産業用半導体励起固体レーザーの最新情報
15:30〜16:20
コヒレント社のUFレーザ製品ラインナップとアプリケーションの紹介:「最新のUFレーザ製
品で最先端の研究・開発を実現」
ナイジェル ギャラハー 、
スティーブ ブッチャー
コヒレント社
概要
コヒレント社が最近リリースしたバンド幅可変ウルトラファーストオシレータ、及び再生増幅器におけるパ
ルス整形技術を中心に、その応用を含めご紹介します。
16:30〜17:20
アルミフリー高出力半導体レーザ
ロン ベクトール
アルファライト社
概要
アルミフリーの高出力半導体レーザーに関して
■出展社セミナー
●会場:5ホール会議室 ●入場無料 ●事前登録なし ●先着順
●同時通訳付
●最新技術,応用技術事例の紹介
●テーマ,講師については変更する場合がございます。
■7/13(木)
10:30〜11:20
Optical Coherence Tomography (OCT) 製品のご紹介
ジェームズ ジャン
概要
ソーラボ社
Optical Coherence Tomography (OCT)関連の最新製品を紹介します。生物、医療、半導体、食品等の分
野における応用例についても述べる予定です。
11:30〜12:20
コヒレント社のエキシマレーザ, エキシマレーザ専用光学系システムの紹介
大谷 敏雄
概要
コヒレントラムダフィジックGMBH
エキシマレーザは、多用途な光源としての特長を活かし年々広がりを見せています。当セミナーでは、最
先端のエキシマレーザ及び光学系システムを中心に、微細加工やその他最新のアプリケーションをご紹
介いたします。
12:30〜13:20
次世代の超短パルスレーザー及びアプリケーション
ビクター デービット
スペクトラ・フィジックス
概要
超短パルスレーザーの応用分野と製品説明
13:30〜14:20
ジェネラルアトミクス社製LD励起Qスイッチ固体レーザ
スティーヴ ベンダ
ジェネラルアトミクス
概要
米国ジェネラルアトミクス社のエベレスト/スーパーパルスは他に類を見ない圧倒的な高ピークパワーを
誇る高繰り返しQswレーザです。当セミナーでは本レーザの特徴とそのアプリケーションについてご紹介
いたします。
14:30〜15:20
高性能の波長変換DPSSレーザとその応用
マーク キアステッド
概要
ジェイ・ディー・エス・ユニフェイズ社
JDSU 社の産業用波長変換ダイオード励起固体レーザ製品群、高出力UV レーザのQ シリーズ空冷高
性能のQS1、モードロックUV レーザXcyte の説明とアプリケーションの紹介。
15:30〜16:20
コヒレント社のDUV/UVソリューションの紹介
マティアス シュルツ
概要
コヒレント社
UV/DUVレーザ技術の進歩は次世代エレクトロニクスの設計や製造に革命をもたらしています。またレー
ザ技術の向上により、応用に基づいたフォトニクス製品の導入が加速しています。当セミナーでは、連
続、モードロック、パルス発振の全固体レーザ技術をはじめとし高パルスエネルギーエキシマレーザにつ
いてもご紹介します。
16:30〜17:20
エミッタレベルでの選別によるLD劣化の最小化
デイビット B. ジョーンズ
概要
ノースロップグラマンカッティングエッジオプトロニクス
LD の構成物質をスクリーニングすることによりハイパワーLD の劣化を最小にすることはすでに開発され
ている。この方法はLD のエミッター毎の偏光度、閾値電流、スロープ効率、波長、共振器の欠陥などの
特性に基づいている。LD 劣化の兆候は、しばしば異常な偏光及び閾値電流に現れる。これら異常を取り
除いたり作り直すことにより、劣化の可能性の低いハイパワーLD となる。この異常な領域の関係は駆動
電流の相関として現れる。
■出展社セミナー
●会場:5ホール会議室 ●入場無料 ●事前登録なし ●先着順
●同時通訳付
●最新技術,応用技術事例の紹介
●テーマ,講師については変更する場合がございます。
■7/14(金)
10:30〜11:20
光デバイス設計用PDA(Photonic Design Automation)ソフトウェアの最新動向不均一メッ
シュ及び材料モデルの新規サポート
イング ズー
アールソフトデザイングループ インク
概要
業界最先端を行くRSoft 社の設計ツールを用いたLED、液晶、nanometrology、PBG レーザ、及び
detecter 等を含む光デバイスの設計、解析について解説します。半導体レーザ・シミュレータの
LaserMOD を始め、BPM 法のBeamPROP やFDTD 法のFullWAVE 等光デバイス設計用ツール群の解説
と共に、新機能として不均一メッシュや新しい材料モデルのサポートについても紹介します。
11:30〜12:20
英国北ウェールズ OpTICテクニウムセンター (オプトエレクトロニクス インキュベーショ
ン・ センター)の紹介及びセンターにおける最新の技術動向。
デーブ リマー
概要
インターナショナル ビジネス ウェールズ
英国北ウェールズには60社を超えるオプトエレクトロニクス関連企業が生産、研究開発等 の拠点を置
き、同関連産業に5000人以上が従事する。 同地域は、英国内でも屈指のオプトエレクトロニクス産業の
集積地である。 今回、OpTICテクニウムセンター (オプトエレクトロニクス・インキュベーションセンター)
の マネージングディレクター、デーブ・リマーが来日、センターの特徴、センター入居企業への サポート、
産官学連携による技術移転プログラム、及び最新の技術動向を紹介する。
12:30〜13:20
グリーン・ダイオード・レーザー製品シリーズの紹介
ポール デング
概要
フォトップ スーテック社
弊社はグリーン・ダイオード・レーザー製品シリーズをご紹介いたします。GDLレーザー(CW)は532nmの
マイクロチップSHGのレーザーで、レーザーダイオードほどのサイズを可能にし、大量生産を実現しまし
た。このシリーズの製品は低出力から高出力まで広い出力範囲に対応し、低ノイズや広い限界環境温度
などの特性を備えています。コンパクトなデザインでありながら市場ニーズに適応した性能を誇ります。
GDLレーザーは半導体検査装置からレーザー表示機まで幅広い範囲で使用されています。
13:30〜14:20
超精密5軸ナノ加工機“FANUC ROBONANO α-0iB”
河合 知彦
ファナック株式会社
概要
超精密5軸ナノ加工機「FANUC ROBONANO α-OiB」の特徴と加工事例について
14:30〜15:20
スティッチング法を用いた非球面測定技術
久米 保
概要
QEDテクノロジーズ ジャパン
干渉計を用いて非球面の測定を可能にした新しい測定システムSSI-Aの紹介を行います。SSI-Aでは弊
社の従来技術を応用し、高精度にレンズや金型などの表面形状を測定することが出来ます。このセミ
ナーでは測定の原理、性能、測定結果などの紹介をいたします。
15:30〜16:20
Gbitイーサネット, 40Gbps, FTTH/GEPON, POFベース・システム設計・検証用の次世代光
通信システム・シミュレーション・ソフトウェア
ジゲッシュ パテル
アールソフトデザイングループ インク
概要
OptSim/ModeSYSは、次世代光通信システムの設計・検証が容易な物理レイヤーの包括的シミュレー
ション・ソフトウェアです。アプリケーションとして、マルチモード・ファイバーや電子分散補償器を用いた
GBitイーサネット、40Gbps、FTTH/GEPON、及びPOFベース・システム等、更にはレンズや導波路への
コ・シミュレーション技術の適用について解説します。