6 - ヱビナ電化工業

ヱビナ電化工業会社紹介
次世代めっきのパイオニア
1
目次
1. 会社概要
6. 液管理
2. 会社沿革
7. 分析・解析
3. めっき技術
8. 分析・解析装置一覧
4. めっき技術・表面処理一覧
5. めっき可能な素材
2
会社概要
社名
ヱビナ電化工業株式会社
最先端ラボとデジタル管理生産システム
に支えられた量産ライン
代表
海老名伸哉
社員数
100名
最先端ラボと生産現場をLANで直結し、品
質・量産の安定化とスピード化を図っており
ます。
本社（第1テック）
設立
1946年（昭和21年）11月15日
資本金
10,000,000円
試作開発の拠点・新テクノロジーセンター
事業内容
電気めっき及び無電解めっき
最先端の分析機器とラボラトリーを駆使した
試作開発を進めております。
事業所
本社（第1テック、第2テック）
〒144-0033 東京都大田区東糀谷5-22-13
テクノマーク
〒144-0034 東京都大田区西糀谷3-7-22
工場規模
本社・第1テック
第2テック
テクノマーク
敷地 2,654 m2
建物 2,808 m2
敷地 777 m2
建物 1,546 m2
敷地 714 m2
建物 927 m2
本社（第2テック）
めっき専門の研究開発拠点
最先端の解析機器を使用し、次世代技術
を開拓します。
テクノマーク
3
会社沿革
1946年
海老名鍍金工場を創業
1953年
社名をヱビナ電化工業株式会社と
する
1960年
オートバイのバックミラーへのトリ
ニッケルめっき、水洗金具へのW
ニッケルめっきを手がける
1981年
プラスチックへの装飾めっきの営業
を始める
1985年
アルミナセラミックスへのめっきプロ
セスを開発、量産体制を整える
1986年
電磁波シールドめっきの工業化に
成功
1999年
セラミックス基板へのパターンめっ
きライン増設
2009年
TV番組「カンブリア宮殿」に出演
2010年
ISO14001を取得
2002年
世界初のめっき専門の研究開発拠
点「テクノマーク」を建設
2006年
経済産業省中小企業庁「元気な
モノ作り中小企業300社」に選定
2008年
安倍晋三前首相が来訪
菅直人首相が来訪
試作開発の拠点新テクノロジー
センター「第2テック」竣工
2012年
黒色めっき「スゴクロ」を開発
抗菌めっき「エー・ジー・ダブル
エックス」事業を開始
2013年
受託分析事業(Analysis and
Reserch Intgrated Service)を
開始
2014年
MID技術「スリー・エルム」事業を
開始
2015年
経済産業省「ダイバーシティ経営
企業100選」に選定
ISO9001を取得
2000年
複写機の定着ベルトの全自動めっ
きラインを導入
4
3D配線形成技術「スリー・エルム」
電子機器のさらなる小型化・軽量化が可能
● 基板レス・ハーネスレスの実現
● 小型化・軽量化・省スペース化
● 設計自由度拡大・デザイン性の拡張
サンプル提供：大英エレクトロニクス株式会社
用途
ウェアラブル端末
携帯端末
医療機器
自動車部品
5
黒色めっき「スゴクロ」
光学機器をさらに進化させる黒化処理技術
● 反射率1%以下の低反射被膜
● 迷光防止
● 画像のノイズや測定誤差の低減
用途
カメラ
プロジェクタ
レーザー装置
分光光度計
6
抗菌めっき「エー・ジー・ダブルエックス」
安全・省エネの持続可能な水質抗菌システム
● 細菌・真菌に効果を発揮
● 薬品・電源・光源を必要としない
● 長期的に効果が持続
用途
ウォーターサーバー
医療機器
水耕栽培
ヘルスケア
7
電気鋳造小型ジェットノズル
機械加工では製造困難なノズル形状
● 内径最小Φ50μm
● 超小型マッハジェットとして活用
● 混合物のハイパワー吹付け
用途
淡水製造装置
高圧洗浄機
インクジェットプリンタ
観測衛星
8
特殊形状めっき
樹枝状、多孔質形状の活用 – 樹脂接合性の向上
デンドライトブラック
● 樹枝状・多孔質の特殊形状
● 樹脂との密着層
ポーラスニッケルめっき
● 触媒担持層
用途
ウェアラブル端末
携帯端末
LED放熱部品
機械部品
9
ステンレスへの直接金ナノめっき
ナノレベルのめっき膜厚で接触抵抗を低減
● 接触抵抗の低減
● 小型化
● 軽量化
用途
燃料電池
燃料電池自動車
接点部品
電子部品
10
電磁波シールドめっき
電磁波障害を防ぐ機能めっき
● 薄膜（約10μm）での電磁波シールド
● 部品レベルの電磁ノイズ抑制
● 電子部品の高密度化が可能
用途
ウェアラブル端末
携帯端末
パソコン
自動車部品
11
無電解ニッケルめっき
機械部品の機能特性を向上
● 耐食性の向上
● 硬度・耐摩耗性の向上
● はんだ濡れ性の付与
用途
機械部品
スプリング
ナット
ハードディスク
12
PTFE複合無電解ニッケル-リンめっき
ロボット技術を支える表面処理技術
ニッケルめっき被膜
PTFE粒子
● 潤滑油の低減・フリー化が可能
● 金型の離型性が向上
基材
基材
● 撥水性の付与（接触角約110°）
PTFE粒子が均一に分散
用途
関節部品
摺動部品
産業用ロボット
非産業用ロボット
13
光沢銀めっき
リフレクターとして活用できる高反射めっき
● 反射率約95%の高反射被膜
● 反射鏡として活用
● 硫化に強い
用途
LEDの反射鏡
複写機の反射鏡
ストーブの反射板
ミラー
14
セラミックスへのめっき
ドライプロセスでは実現できない複雑形状への均一成膜
● 3次元構造体にも均一に成膜
● 回路・電極形成
● 酸化物系・非酸化物系素材に対応
用途
LED照明
ペルチェモジュール
光通信部品
半導体
15
ガラスへのめっき
ドライプロセス不要でガラスの平滑性・透明性を維持
● 回路・電極形成
● ガラス管内・不織布への成膜も可能
● ガラスの透明性を維持することも可能
用途
回路・電極
ガラスファイバー
センサー
半導体
16
フィリングめっき
回路基板の高密度化・小型化に貢献
● ビアホール、スルホール共に対応
● 薄膜でのフィリング
● シーム、ボイドなしで充填可能
用途
回路基板
カメラモジュール
ウェアラブル端末
携帯端末
17
カーボンへのめっき
防塵、耐摩耗性、はんだ付け性の付与が可能
● 防塵対策
● 耐摩耗性の改善
● はんだ付け性の付与
用途
ヒートシンク
燃料電池
機械部品
衛星部品
18
複合材へのめっき
放熱板向け複合材の付加価値を向上
● はんだ付け性の付与
● 耐摩耗性の向上
● 防塵対策
用途
コンピュータ
ペルチェモジュール
基地局
鉄道
19
FRPへのめっき
金属部品の代替による軽量化
● 平滑性の向上
● 耐摩耗性の向上
● CFRP、GFRPへのめっきが可能
用途
衛星部品
自動車部品
鉄道車両部品
船舶部品
20
チタンの陽極酸化
装飾性・意匠性の向上
● 多様な色彩
● 視認性の向上
● 器具の識別が容易に
用途
医療機器
外科用メス
インプラント用ネジ
ピンセット
21
エフブロー処理法
オゾンファインバブルによる
6価クロムフリーの環境に優しいプラめっきプロセス
● クロム酸エッチング法の代替工程
● 樹脂の平滑性の維持が可能
● RoHS、REACHに対応
従来工法
ABS
クロム酸エッチング
触媒化
めっき
オゾンバブルによる
表面改質
触媒化
めっき
エフブロー処理法
ABS
■A、S ■B
関東学院大学材料・表面工学研究所協同研究技術
22
めっき技術・表面処理技術
電気めっき
MID
● スゴクロ
● エー・ジー・ダブルエックス
● デンドライトブラック
● 銅めっき
● ニッケルめっき
● 金めっき
● 銀めっき
● 白金めっき
● パラジウムめっき
● コバルトめっき
● スズめっき
● ニッケル-鉄めっき
● ニッケル-コバルトめっき
● スリー・エルム
無電解めっき
● タフブラック
● クリスタルブラック
● ポーラスニッケルめっき
● 銅めっき
● ニッケル-リンめっき
● ニッケル-ホウ素めっき
● 金めっき
複合めっき
● PTFE複合ニッケルめっき
● SiC複合ニッケルめっき
● BN複合ニッケルめっき
● Al2O3複合ニッケルめっき
陽極酸化
● チタンの陽極酸化
● アルミニウムの陽極酸化
サンプル提供: 大英エレクトロニクス㈱
電気鋳造
● 電気鋳造小型ジェットノズル
23
めっき可能な素材
金属
プラスチック
● ステンレス
●鉄
●銅
● 真鍮
● アルミニウム
● チタン
● コバール
● インバー
● Crofer
● ハステロイ
● PI
● エポキシ樹脂
● LDS専用樹脂
ガラス
カーボン
● 石英ガラス
● ホウケイ酸ガラス
● 無アルカリガラス
● ソーダ石灰ガラス
● サファイアガラス
● カーボン板
● カーボン繊維
サンプル提供: 大英エレクトロニクス㈱
セラミックス
● アルミナ（Al2O3）
● 窒化アルミニウム（AlN）
● ジルコニア（ZrO2）
● 酸化亜鉛（ZnO）
● PZT（チタン酸ジルコン酸鉛）
● チタン酸バリウム（BaTiO3）
● 炭化ケイ素（SiC）
● 窒化ケイ素（Si3N4）
● マシナブルセラミックス
● シリコン（Si）ウェハ
複合材
● アルミ-シリコンカーバイド（AlSiC）
● 銅-シリコンカーバイド（CuSiC）
● ケイ素-シリコンカーバイド（SiSiC）
● アルミ-カーボン（AlC）
● 銅-カーボン（CuC）
● 銅-モリブデン（CuMo）
● 銅-タングステン（CuW）
● 炭素繊維強化プラスチック（CFRP）
● ガラス繊維強化プラスチック（GFRP）
24
液管理 – 薬液管理システム
ENCS – Ebina Numerical Control System
めっき液の各種成分を定性・定量分析
Lab、生産現場にリアルタイムに
フィードバック
25
分析・解析 – 品質を支える装置群
表面解析 – 表面形状、元素組成、断面観察、反射率など
FE-SEM写真
26
分析・解析装置
表面分析
● 蛍光X線式膜厚計
● デジタルマイクロスコープ
● 走査型電子顕微鏡（SEM）
● フィールド・エミッション走査型電子顕微鏡（FE-SEM）
● エネルギー分散型X線分析装置（EDS）
● 電子線マイクロアナライザー（EPMA）
● グロー放電発光分析（GDS）
● カラーレーザー顕微鏡
● 測定顕微鏡
● 原子間力顕微鏡（AFM）
● 分光光度計（固体測定用）
● 赤外線分光光度計（FT-IR）
● Arイオンビームクロスセッションポリッシャー（CP）
● X線光電子分光（XPS ESCA）
● X線回折（XRD）
● 示差走査熱量計（DSC）
液分析
● 原子吸光分析装置（AAS）
● 誘導結合プラズマ発光分析装置（ICP）
● 高速液体クロマトグラフィー（HPLC）
● イオンクロマトグラフィー（IC）
● 高性能キャピラリー電気泳動分析装置（HPCE）
● 分光光度計（UV-Vis）（液体測定用）
● サイクリックボルタンメトリーストリッピング（CVS）
● ポーラログラフ
● 自動滴定装置（AT）
● 界面活性剤滴定装置
● 表面張力計
試験・評価
● 引張強度試験機
● 超微小押し込み硬度計
● 冷熱衝撃試験機
● 恒温恒湿試験機
● 超加速寿命試験装置
● 塩水噴霧試験装置
● CASS試験装置
27
Our Plating Technologies
Ebina Denka Kogyo Co.,Ltd.
http://www.ebinadk.com
28

Download Report