日本化学会研究会ロゴマーク公募日本化学会研究会「低次元系光機能材料研究会」では，みなさまから下記の要領でロゴマークを募集いたします。奮ってご応募お願いいたします。応募要領：趣旨：ロゴマークは，「低次元系光機能材料研究会」の活動を視覚的に象徴するものであること。応募方法： ○作成されたロゴマークは，PDFファイルとして下記のお送りください。 ○カラーの場合は，白黒として利用することも考慮してください。 ○ロゴマークには，学会の日本名、英語名と創立年を含んでください。低次元系光機能材料研究会、Forum on Low-dimensional Photo-functional Materials、 Since 2012 ○ロゴの意味するところを１００字以内程度で説明する文をつけてください。 ○採用案の版権は低次元系光機能材料研究会に属するものとして，また採用ロゴ案は若干の手が加えられることがあります。 ○採用ロゴの発表はホームページにて広く案内する予定です。 ○謝礼はありませんが、採用されたロゴは、研究会のWebサイト，研究会が発行する封筒や書類，学術雑誌など，当研究会に関係するすべての媒体に広く用いられます。 ○当研究会の設立趣旨や活動内容等は研究会ウェブサイト（http://photolowd.chemistry.or.jp）をご参照ください。締め切り：2013年3月20日_ 送り先：研究会事務局（島根大学笹井亮（[email protected]））