有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定

分析事例C0067 2006/06/06 2016/07/25
有機EL素子積層膜の膜密度・膜厚測定
X線反射率測定（XRR）で膜厚・密度の分析が非破壊で可能です
測定法：XRR
製品分野：照明・ディスプレイ
分析目的：膜厚評価・形状評価
概要
有機ELディスプレイは自発光原理による高輝度、高精細カラー、薄型化等の利点を活かし、実用化が進
みつつあります。有機ELデバイスは有機膜を積層させて作製しますが、有機膜積層状態での有機膜分
析を行うことは困難でした。今回、XRR法を用いることによって、積層状態のまま、有機膜の膜厚測定お
よび密度測定を行うことが可能となりました。
結晶質,非晶質を問わず、積層膜の膜厚および密度の分析が可能です。
データ
■有機ELデバイスの基本構造
■有機ELの模式図
電極
有機層
電子輸送層
有機層
発光層
透明電極
ホール輸送層
ガラス基板
透明電極
■XRR法による有機EL素子の膜厚・密度測定
シミュレーション結果
密度(g/cm3) 膜厚(nm)
電極
2.73
244.9
電極/有機層界面
2.40
7.6
100
臨界角度：密度
シミュレーション
測定値
X線反射強度(a.u.)
Layer
101
10-1
振動振幅：
密度コントラスト
10-2
10-3
有機層
1.30
46.5
10-4
有機層
1.12
48.0
透明電極
6.76
112.9
基板
2.46
－
10-5
振動周期：
膜厚
10-6
0.35
0.85
1.35
1.85
2.35
2.85
2θ(deg)
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