東北大学西澤潤一記念研究センター 財団法人半導体研究振興会（半導体研究所）が2008年3月末に解散し、資産が東北大学に寄付。 2010.4 試作コインランドリ（半導体・MEMS開発のための装置開放）開始 (約1,000m2) 2012.5 仙台MEMSショールームオープン 2012.6 文部科学省ナノテクプラットフォーム事業開始 本館 2013.1 近代技術史博物館オープン 機械棟 本館 研究棟 試作コインランドリ 長谷記念館 仙台MEMSショールーム 2号館 本館 事務棟 延床面積：8,976m2 近代技術史博物館 試作コインランドリ：2階クリーンルームの装置レイアウト 2008年までパワートランジスタ の4インチ製造ラインとして利用 されてきたエリア 2008年に大学が引継いだ装置 新規導入した装置 企業等から寄附いただいた装置 学内から移設した装置 2Fクリーンルーム以外の装置 1F-CR 熱電子SEM X線CTスキャナ 3F-CR 断面FE-SEM EB描画装置 TOF-SIMS めっき装置 Q-mass 超臨界乾燥装置 超音波顕微鏡 KOHウェットエッチング 各種ドラフト パターンジェネレータ 20mm角用スパッタ オゾンアッシング装置 ウェハダイシング装置 2号館1F 1,800 m2 クラス1～1,000 サンドブラスト装置 洗浄、乾燥 酸ドラフト 有機ドラフト ブラシスクラバ スピン乾燥機 ~6” ~6” ~6” 4”, 6” フッ酸／硝酸／硫酸／塩酸等 有機洗浄／レジスト剥離 全協化成 研磨後のウェハ洗浄用 SEMITOOL PSC101 等3台 カセット式 スピン乾燥機 CO2超臨界乾燥機 イナートオーブン 真空オーブン ~6” ~6” ~6” ~6” ヤマト科学 DN63H ヤマト科学 DP-31 東邦化成 ZAA-4 2台 平置き式 SCFluids CPD1100 フォトリソグラフィ パターンジェネレータ レーザ描画装置 スピンコータ スピンコータ ~6” ~9” ~6” ~6” 日本精工 TZ-310 エマルジョン／Crマスク作製 ~1μm ハイデルベルグインスツルメンツ ミカサ 1H-DXII 2台 アクテス ASC-4000 2台 コータデベロッパ ホットプレート クリーンオーブン ポリイミドキュア炉 ~4” ~6” ~6” ~6” キヤノン CDS-630 ポジ用 4台 ヤマト科学 DE62 2台 ヤマト科学 DN43H DWL2000CE ~0.6 µm フォトリソグラフィ ステッパ 両面アライナ 片面アライナ EB描画装置 4”, 6” ~6” 4” ~3” キヤノン FPA1550M4W g線、~0.6µm Suss MA6/BA6 2台 キヤノン PLA-501-FA Raith 50 30nm 現像ドラフト UVキュア装置 スプレー現像装置 EB描画装置 ~6” ~4” ~6” ~6” ウシオ電機 ユニハード UMA-802 アクテス ADE-3000S 真空／メカチャック エリオニクス ELS-G125S Max130keV, ~4nm 酸化・拡散、イオン注入、熱処理 酸化・拡散炉 中電流イオン注入装置 高電流イオン注入装置 ランプアニール装置 ~6” ~4” ~6” ~6” TEL XL-7 P形用、N形用それぞれ1台 日新イオン機器 NH-20SR 200keV、0.6mA 住友イートンノバ NV-10 80keV、6mA AG Associates AG4100 1000℃ メタル拡散炉 ~4” 光洋リンドバーグ Model270 メタル等、多用途の酸化拡散 成膜（CVD、スパッタ、蒸着他） LP-CVD 熱CVD PE-CVD PE-CVD ~6” ~6” ~8” ~8” システムサービス SiN、Poly-Si、NSG 国際電気 Epi-Poly Poly-Si、1100℃ 住友精密 MPX-CVD SiN（応力制御可）、SiO2 住友精密 MPX-CVD TEOS SiO2 PE-CVD スパッタ装置 スパッタ装置 スパッタ装置 ~6” ~6” ~8” ~8” 日本生産技術 VDS-5600 SiN、SiO2 アネルバ SPF-730 8インチターゲット×3 Al、AlSi 芝浦メカトロニクス CFS-4ESII 芝浦メカトロニクス !-Miller 3インチターゲット×4、基板加熱形 ロードロック、自動搬送付（10枚まで） 3インチターゲット×3 基板加熱形1台、基板冷却形1台 成膜（CVD、スパッタ、蒸着他） ~6” ゾルゲル自動成膜装置 ~4” MOCVD ~8” アネルバ EVC-1501 テクノファイン PZ-604 ワコム研究所 PZT W-CVD 電子ビーム蒸着装置 4” アプライドマテリアルズ Precision 5000 エッチング Si Deep-RIE 4台 ドライエッチング装置 ドライエッチング装置 Al RIE ~8” ~6” 4” 4” 住友精密 MUC-21 SF6、C4F8 アネルバ DEA-506 CF4、CHF3 （SiN、SiO2用） アネルバ L-507DL SF6 （Si用） 芝浦エレテック HIRRIE-100 Cl2、BCｌ3 多用途RIE ECRエッチング装置 アッシング装置 イオンミリング装置 ~6” 3” ~6” 6” x 3枚、4” x 6枚 アルバック RIH-1515Z アネルバ ECR6001 Cl2 ブランソン IPC4000 13.56MHz、600W エヌ・エス／伯東 20IBE-C Cl2、BCl3、SF6、CF4、CHF3、Ar、O2、N2 研磨、接合、パッケージング、インプリント、その他 ウェハ研磨装置 ウェハ研磨装置 ウェハ接合装置 ダイサ ~6” ~4” ~6” ~6” BNテクノロジー Bni62 BNテクノロジー Bni52 Suss SB6e ディスコDAD522、DAD2H/6T 東京精密 ワイヤボンダ コンベア炉 レーザマーカ サンドブラスト 小片 ~4” ~4” ~6” West Bond ほか 神港精機 FB-260H/TE GSIルモニクス WM-II 新東工業 Al／Au超音波、Al／Au熱圧着 研磨、接合、パッケージング、インプリント、その他 ウェハアライナ ウェハ接合装置 ウェハ間樹脂封入装置 UVインプリント 8” 8” 8” ~4” EVG Smart View EVG 520 EVG 520 東芝機械 ST50 熱インプリント ~50mm角 エキシマ有機物洗浄装置 めっき装置 ~4” ~6” オリジン電気 Reprina-T50A MAX 650℃、30kN デアネヒステ EXC-1201-DN 山本鍍金試験器 Au、Ni、Cu、Sn 測定 ウェハゴミ検査装置 膜厚測定装置 段差測定装置 段差測定装置 ~6” ~6” ~6” ~6” トプコン WM-3 Nanometric NanoSpec 3000 Dektak8 Tenchor AlphaStep 500 深さ測定装置 4探針測定装置 拡がり抵抗測定装置 ウェハプローバ ~6” ~6” 小片 4” Solid State Measurements SSM150 東京精密 EM-20A ユニオン光学 Hisomet 測定 レーザ／白色光 共焦点 顕微鏡（表面形状測定） ~6” デジタル顕微鏡 電子顕微鏡 電子顕微鏡 ~8” ~12” 小片 レーザーテック OPTELICS HYBRID L3-SD キーエンス、 クノーテクノクラフト 日立 S3700N 熱電子SEM、EDX付属 日立 S5000 インレンズ式FE-SEM マイクロX線CT 超音波顕微鏡 TOF-SIMS ~6” ~12” 赤外線顕微鏡 ~6” コムスキャンテクノ インサイト IS350 オリンパス、浜松ホトニクス CAMECA TOF-SIMS IV ScanXmate D160TS110 小片 測定 エリプソ エリプソ AFM ~6” ~6” ~8” フォトニックラティス SE-101 ULVAC Digital Instruments Dimension3100
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