展示会出展のご案内 謹啓 貴社ますますご清栄のこととお喜び申し上げます。 奥野製薬工業株式会社は、平成 27 年 1 月 14 日(水) ~ 16 日(金)の日程で東京ビッグサイトにて開催 されます「第 16 回半導体パッケージング技術展」に出展いたします。 つきましては、下記の通り、ご案内申し上げますので、ぜひとも弊社のブースへお立ち寄りいただき、 弊社の未来をめざす製品・技術に直接触れていただけますようお願い申し上げます。 謹白 記 会 期 : 平成 27 年 1 月 14 日(水)~ 16 日(金) 10:00 ~ 18:00 (最終日は 17:00 終了) 開催場所 : 東京ビッグサイト 東 4 ホール めっき・エッチングゾーン 小間番号 : 東 37-20 ご来場の際は、招待券をご持参下さいますようよろしくお願いします。 展示製品 電気銅めっき添加剤 ・スルーホールフィリング用 ・ビアフィリング用 ・高スローイングパワー ・TSV フィリング用 無電解銅めっきプロセス ・LDS 工法対応無電解めっきプロセス ・水平搬送装置対応 アルカリイオンキャタリストタイプ ・ナノ銀触媒使用 ・セミアディティブ工法対応 パラジウム残渣除去プロセス 最終表面処理プロセス ・独立回路基板用 無電解 Ni/Ag・Ni/Pd/Ag めっきプロセス ・独立回路基板用 無電解 Pd/Au めっきプロセス ・Si ウエハ用 無電解 Ni/Au・Ni/Pd/Au めっきプロセス 平滑性に優れる銅素材への黒色化処理 熱硬化型めっき下地層形成ペースト (トップルチナ DTF) (トップルチナ IV/HV/VT) (トップルチナ HT) (トップルチナ SV) (OPC H-TEC プロセス) (NACE プロセス) (OPC パラデリートプロセス) (トップシルベプロセス) (トップパラスプロセス) (トップ UBP プロセス) (OPC ブラックカッパー) (トップ ALP-AN100) *ブース内にて、「ナノ銀触媒を用いた無電解銅めっきプロセス~NACEプロセス~」「ビアフィリン グ用硫酸銅めっき添加剤~トップルチナシリーズ~」のプロモーションDVD放映を行ないます。 *ブース内プレゼンテーション (各日 14:00 と 15:00 の 2 回 実施) 水平搬送装置対応 アルカリイオンキャタリストタイプ無電解銅めっきプロセス 1/14 (水) OPC H-TEC プロセス ビアフィリング用硫酸銅めっき添加剤 1/15 (木) トップルチナ IV/HV/VT Si ウエハ用 無電解 Ni/Au・Ni/Pd/Au めっきプロセス 1/16 (金) トップ UBP プロセス .
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