2013 INVITATION EVG Technology Day

INVITATION
KYOTO
2013
EVG Technology Day（プライベートセミナー）のご案内
STマイクロエレクトロニクスや早稲田大学からのゲストスピーカーをお迎えし、「最新MEMS動向及びWafer/Panelプロセス
(Trend in MEMS & Advanced Wafer/Panel Process)」をテーマに弊社の最新技術をご紹介いたします。
May 27 , 20 1 3
K y ot o To k y u H o te l / 京都東急ホテル
Gojo-sagaru, Horikawa-dori, Shimogyo-ku, Kyoto, Japan
AGENDA
12:30
13:00
Registration
受付開始
Welcome and Introduction
ご挨拶
Hermann Waltl, Executive Sales & Customer Support Director, EV Group
代表取締役　山本宏,Hiroshi Yamamoto, Representative Director, EV Group Japan
State-of-the-art MEMS technology at STMicroelectronics and its business trend (Keynote speech)
13:10
STマイクロエレクトロニクスにおける最新MEMS技術およびビジネス動向
モーションMEMS製品部　部長坂田稔, Minoru Sakata, Senior Manager, STMicroelectronics K.K.
14:10
Fabrication of High Quality GaN Template by Nano-channel FIELO Using UV Nanoimprint (Invited)
UVナノインプリントを使って形成したナノチャンネルFIELO 法による低転位GaNテンプレート基板作製の研究
准教授水野潤,Jun Mizuno, Associate Professor, Waseda University
14:50
15:30
15:45
16:25
Direct and hybrid wafer bonding for next-gen SOI, CIS and 3D-IC
Markus Wimplinger, Corporate Technology Development & IP Director, EV Group
Coffee Break
休憩
Low-cost glass coatings for anti-reﬂective photovoltaic coatings and other novel applications (Invited)
Ron Miller, Vice President of Sales and Business Development, Brisbane Materials Technology
Novel mask-alignment and resist-processing systems from R&D to HVM purposes
R&Dから量産まで対応する最新マスクアライメント及びレジストプロセスシステム
黒瀧宏和, Hirokazu Kurotaki, Process Technology Engineer, EV Group Japan
Recent equipment and process developments in nanoimprint lithography and wafer-level lens
16:50
ナノインプリントおよびウェーハレベルレンズでの装置・プロセス最新開発状況
川野連也,Masaya Kawano, Applications Engineer, EV Group Japan
17:15
EVG’s permanent and temporary bonding solutions for MEMS and LED applications
Eric Pabo, Business Development Manager - MEMS, EV Group Inc.
18:00
Open Discussion and Closing Remarks
オープンディスカッション、閉会の辞
18:15
Reception
懇親会
Brisbane
Materials
For m ore i n fo rmati o n an d to reg i ster
www.EVGroup.com/TechDayKyoto

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