“structure” インジェクター ● ● ● Straigth-to-column 機構を搭載 SUS 補強 PEEK 樹脂チューブを採用 耐圧 70MPa まで対応 バイアルホルダー ● 最大 1536 サンプルをセット可能 冷却機能 ● 4∼20° C（バイアル内水温） “specification” 有機溶媒洗浄槽 ● 製 品 番 号 5100 洗 浄 ポ ー ト 標準装備 方 式 カラムダイレクト注入方式（Straight Injection Technology） ニ ード ル 洗 浄 機 構 有機溶媒洗浄（オプション：超音波洗浄） サンプルバイアル 250μL PP 製 , 50μL PP 製 , 2ｍL ガラス製 洗浄液送液ポンプ流量 3mL/min 480：50,250μL 用バイアルホルダー2 枚使用時 キ ャリ ー オ ー バ ー 0.001% 未満（条件 :API5000 にて測定，出荷時） 200：2mL 用バイアルホルダー2 枚使用時 電 源 AC 100∼240V，50/60Hz 650W 1536：384 穴ウェルプレート4 枚使用時 大 き さ（本 体） 417（W）mm×467（H）mm×545（D）mm 384：96 穴ウェルプレート4 枚使用時 大 き さ（電源架台） 417（W）mm×202（H）mm×545（D）mm シ リ ン ジ 容 量 ガスタイト型 100μL 重 量（本 体） 約 40Kg 試 量 0.1∼80.0μL , 0.1μL 単位 重 量 （電源架台） 13.5Kg 注 入 精 度 RSD ＜ 1%（1μL 注入時） 試 料 冷 却 4∼20℃（可変設定） 使 用 圧 力 70MPa 流速 3mL/min で有機溶媒を用いて洗浄 サ ン プ ル 処 理 数 超音波洗浄槽（オプション対応） ● HTS オートサンプラーZ から受け継がれた 資生堂独自の洗浄機構 シリンジユニット ● ● ● 0.1∼80.0μL 0.1μL 単位で注入量変更可能 注入精度 RSD＜1%（1μL 注入時） 料 注 入 ※NASCAの名称はペルー国より了承を得て命名いたしました。 ※外観、仕様は予告なく変更することがありますのでご了承ください。 ※掲載の価格は 2010年1月1日現在の価格です。 ※表示価格には消費税が含まれておりません。 対 応 ソ フト ウ ェ ア 標 準 価 格 EZChrom Elite（ver.2.8.3 以降）, Xcalibur（ver.1.2 以降） Analyst ®（ver.1.4.2 Hotfixes to July 2007 以降） 350 万円 República del Perú カラム ● ニードルからダイレクトにインジェクション可能 ● 250mm 長まで接続可能 株式会社 資 生 堂 フロンティアサイエンス事業部 ●東日本担当 〒105-0021 東京都港区東新橋1-1-16 TEL.03-6253-1412 FAX.03-6253-1416 ●西日本担当 〒601-8037 京都市南区東九条西河辺町12 TEL.075-671-0301 FAX.075-671-0302 ●SHISEIDO RESEARCH CENTER（新横浜）LCアプリケーションセンター 〒224-8558 神奈川県横浜市都筑区早渕2-2-1 技術相談 TEL.045-590-6058 FAX.045-590-6090 http://www.shiseido.co.jp/HPLC 2010.01.S “structure” インジェクター ● ● ● Straigth-to-column 機構を搭載 SUS 補強 PEEK 樹脂チューブを採用 耐圧 70MPa まで対応 バイアルホルダー ● 最大 1536 サンプルをセット可能 冷却機能 ● 4∼20° C（バイアル内水温） “specification” 有機溶媒洗浄槽 ● 製 品 番 号 5100 洗 浄 ポ ー ト 標準装備 方 式 カラムダイレクト注入方式（Straight Injection Technology） ニ ード ル 洗 浄 機 構 有機溶媒洗浄（オプション：超音波洗浄） サンプルバイアル 250μL PP 製 , 50μL PP 製 , 2ｍL ガラス製 洗浄液送液ポンプ流量 3mL/min 480：50,250μL 用バイアルホルダー2 枚使用時 キ ャリ ー オ ー バ ー 0.001% 未満（条件 :API5000 にて測定，出荷時） 200：2mL 用バイアルホルダー2 枚使用時 電 源 AC 100∼240V，50/60Hz 650W 1536：384 穴ウェルプレート4 枚使用時 大 き さ（本 体） 417（W）mm×467（H）mm×545（D）mm 384：96 穴ウェルプレート4 枚使用時 大 き さ（電源架台） 417（W）mm×202（H）mm×545（D）mm シ リ ン ジ 容 量 ガスタイト型 100μL 重 量（本 体） 約 40Kg 試 量 0.1∼80.0μL , 0.1μL 単位 重 量 （電源架台） 13.5Kg 注 入 精 度 RSD ＜ 1%（1μL 注入時） 試 料 冷 却 4∼20℃（可変設定） 使 用 圧 力 70MPa 流速 3mL/min で有機溶媒を用いて洗浄 サ ン プ ル 処 理 数 超音波洗浄槽（オプション対応） ● HTS オートサンプラーZ から受け継がれた 資生堂独自の洗浄機構 シリンジユニット ● ● ● 0.1∼80.0μL 0.1μL 単位で注入量変更可能 注入精度 RSD＜1%（1μL 注入時） 料 注 入 ※NASCAの名称はペルー国より了承を得て命名いたしました。 ※外観、仕様は予告なく変更することがありますのでご了承ください。 ※掲載の価格は 2010年1月1日現在の価格です。 ※表示価格には消費税が含まれておりません。 対 応 ソ フト ウ ェ ア 標 準 価 格 EZChrom Elite（ver.2.8.3 以降）, Xcalibur（ver.1.2 以降） Analyst ®（ver.1.4.2 Hotfixes to July 2007 以降） 350 万円 República del Perú カラム ● ニードルからダイレクトにインジェクション可能 ● 250mm 長まで接続可能 株式会社 資 生 堂 フロンティアサイエンス事業部 ●東日本担当 〒105-0021 東京都港区東新橋1-1-16 TEL.03-6253-1412 FAX.03-6253-1416 ●西日本担当 〒601-8037 京都市南区東九条西河辺町12 TEL.075-671-0301 FAX.075-671-0302 ●SHISEIDO RESEARCH CENTER（新横浜）LCアプリケーションセンター 〒224-8558 神奈川県横浜市都筑区早渕2-2-1 技術相談 TEL.045-590-6058 FAX.045-590-6090 http://www.shiseido.co.jp/HPLC 2010.01.S “structure” インジェクター ● ● ● Straigth-to-column 機構を搭載 SUS 補強 PEEK 樹脂チューブを採用 耐圧 70MPa まで対応 バイアルホルダー ● 最大 1536 サンプルをセット可能 冷却機能 ● 4∼20° C（バイアル内水温） “specification” 有機溶媒洗浄槽 ● 製 品 番 号 5100 洗 浄 ポ ー ト 標準装備 方 式 カラムダイレクト注入方式（Straight Injection Technology） ニ ード ル 洗 浄 機 構 有機溶媒洗浄（オプション：超音波洗浄） サンプルバイアル 250μL PP 製 , 50μL PP 製 , 2ｍL ガラス製 洗浄液送液ポンプ流量 3mL/min 480：50,250μL 用バイアルホルダー2 枚使用時 キ ャリ ー オ ー バ ー 0.001% 未満（条件 :API5000 にて測定，出荷時） 200：2mL 用バイアルホルダー2 枚使用時 電 源 AC 100∼240V，50/60Hz 650W 1536：384 穴ウェルプレート4 枚使用時 大 き さ（本 体） 417（W）mm×467（H）mm×545（D）mm 384：96 穴ウェルプレート4 枚使用時 大 き さ（電源架台） 417（W）mm×202（H）mm×545（D）mm シ リ ン ジ 容 量 ガスタイト型 100μL 重 量（本 体） 約 40Kg 試 量 0.1∼80.0μL , 0.1μL 単位 重 量 （電源架台） 13.5Kg 注 入 精 度 RSD ＜ 1%（1μL 注入時） 試 料 冷 却 4∼20℃（可変設定） 使 用 圧 力 70MPa 流速 3mL/min で有機溶媒を用いて洗浄 サ ン プ ル 処 理 数 超音波洗浄槽（オプション対応） ● HTS オートサンプラーZ から受け継がれた 資生堂独自の洗浄機構 シリンジユニット ● ● ● 0.1∼80.0μL 0.1μL 単位で注入量変更可能 注入精度 RSD＜1%（1μL 注入時） 料 注 入 ※NASCAの名称はペルー国より了承を得て命名いたしました。 ※外観、仕様は予告なく変更することがありますのでご了承ください。 ※掲載の価格は 2010年1月1日現在の価格です。 ※表示価格には消費税が含まれておりません。 対 応 ソ フト ウ ェ ア 標 準 価 格 EZChrom Elite（ver.2.8.3 以降）, Xcalibur（ver.1.2 以降） Analyst ®（ver.1.4.2 Hotfixes to July 2007 以降） 350 万円 República del Perú カラム ● ニードルからダイレクトにインジェクション可能 ● 250mm 長まで接続可能 株式会社 資 生 堂 フロンティアサイエンス事業部 ●東日本担当 〒105-0021 東京都港区東新橋1-1-16 TEL.03-6253-1412 FAX.03-6253-1416 ●西日本担当 〒601-8037 京都市南区東九条西河辺町12 TEL.075-671-0301 FAX.075-671-0302 ●SHISEIDO RESEARCH CENTER（新横浜）LCアプリケーションセンター 〒224-8558 神奈川県横浜市都筑区早渕2-2-1 技術相談 TEL.045-590-6058 FAX.045-590-6090 http://www.shiseido.co.jp/HPLC 2010.01.S “Straight-to-column”structure（特許申請済） “Direct Injection Valve” “performance” かつてないキャリーオーバー低減を求めて 密栓 キャリーオーバー低減を追及した装置との比較です。 密栓 Pump Pump 【Reserpine （600ppb） におけるキャリーオーバー試験】 資生堂は、カラムに直接サンプルを注入することが可能な NANOSPACE StopV WASH Pump StopV WASH Pump NASCA を開発しました。 Drain ニードル洗浄 column column 新規インジェクション機構である”direct injection valve (DIV)” を搭載したからです。 ポンプからの送液がニードルを通じて直接カラムへ送られます。 4.0e6 2.0e6 0.0 このことから、サンプルは直接カラムに注入できます。 4.0e6 2.0e6 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 0.5 Time, min その結果、キャリーオーバーの低減によって精度と真度が大幅に また、デットボリュームを極力抑えたことで、サンプルの拡散を StopV WASH Pump 2.0 2.5 Carry Over is Not Detected !! StopV WASH Pump ［ blank ］ （C.O.:0.00046%） Intensity, cps 分 析 column column ニードルが分析流路に組み込まれているため、常に移動相によ Intensity, cps 150 sample sample ニードル上昇 100 50 りフラッシングされます。 0 0.5 1.0 Pump 1.5 2.0 Column column ニードルがＤＩＶからサンプルバイアルポジションへ移動している 間、別流路へ切り替え、送液を続け高圧を保ちます。 0.5 1.0 1.5 2.0 NANOSPACE NASCA キャリーオーバー対策機能付装置 ：CAPCELL PAK C18 MGⅡ S3 2.0mm i.d.×50mm サンプル吸引 200 Time, min 【Condition】 sample 400 0 2.5 StopV WASH Pump 600 Time, min 密栓 DIV（Direct Injection Valve） ［ blank ］ （C.O.:0.000019%） 785 Drain イナート仕様を実現します。 1.5 Time, min Pump Pump 低減し分解能が向上します。 1.0 密栓 密栓 向上します。 SUS 補強 PEEK チューブを採用することにより、高圧下での ［ 600 ppb ］ 5.8e6 Intensity, cps 待 機 Intensity, cps サンプルは従来の流路切換バルブや配管のつなぎ目を通りません。 ［ 600 ppb ］ 6.0e6 sample sample Mobile Phase ：0.1% HCOOH, 40%CH3CN Ionization ：ESI MODE, Positive Injection Volume：10μL Sample ：Reserpine Flow Rate ：200μL/min Sample Solvent ：40%CH3CN Detect ：API5000 TM Blank Solvent ：0.1% HCOOH, 40%CH3CN 2.5 “Straight-to-column”structure（特許申請済） “Direct Injection Valve” “performance” かつてないキャリーオーバー低減を求めて 密栓 キャリーオーバー低減を追及した装置との比較です。 密栓 Pump Pump 【Reserpine （600ppb） におけるキャリーオーバー試験】 資生堂は、カラムに直接サンプルを注入することが可能な NANOSPACE StopV WASH Pump StopV WASH Pump NASCA を開発しました。 Drain ニードル洗浄 column column 新規インジェクション機構である”direct injection valve (DIV)” を搭載したからです。 ポンプからの送液がニードルを通じて直接カラムへ送られます。 4.0e6 2.0e6 0.0 このことから、サンプルは直接カラムに注入できます。 4.0e6 2.0e6 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 0.5 Time, min その結果、キャリーオーバーの低減によって精度と真度が大幅に また、デットボリュームを極力抑えたことで、サンプルの拡散を StopV WASH Pump 2.0 2.5 Carry Over is Not Detected !! StopV WASH Pump ［ blank ］ （C.O.:0.00046%） Intensity, cps 分 析 column column ニードルが分析流路に組み込まれているため、常に移動相によ Intensity, cps 150 sample sample ニードル上昇 100 50 りフラッシングされます。 0 0.5 1.0 Pump 1.5 2.0 Column column ニードルがＤＩＶからサンプルバイアルポジションへ移動している 間、別流路へ切り替え、送液を続け高圧を保ちます。 0.5 1.0 1.5 2.0 NANOSPACE NASCA キャリーオーバー対策機能付装置 ：CAPCELL PAK C18 MGⅡ S3 2.0mm i.d.×50mm サンプル吸引 200 Time, min 【Condition】 sample 400 0 2.5 StopV WASH Pump 600 Time, min 密栓 DIV（Direct Injection Valve） ［ blank ］ （C.O.:0.000019%） 785 Drain イナート仕様を実現します。 1.5 Time, min Pump Pump 低減し分解能が向上します。 1.0 密栓 密栓 向上します。 SUS 補強 PEEK チューブを採用することにより、高圧下での ［ 600 ppb ］ 5.8e6 Intensity, cps 待 機 Intensity, cps サンプルは従来の流路切換バルブや配管のつなぎ目を通りません。 ［ 600 ppb ］ 6.0e6 sample sample Mobile Phase ：0.1% HCOOH, 40%CH3CN Ionization ：ESI MODE, Positive Injection Volume：10μL Sample ：Reserpine Flow Rate ：200μL/min Sample Solvent ：40%CH3CN Detect ：API5000 TM Blank Solvent ：0.1% HCOOH, 40%CH3CN 2.5 “Straight-to-column”structure（特許申請済） “Direct Injection Valve” “performance” かつてないキャリーオーバー低減を求めて 密栓 キャリーオーバー低減を追及した装置との比較です。 密栓 Pump Pump 【Reserpine （600ppb） におけるキャリーオーバー試験】 資生堂は、カラムに直接サンプルを注入することが可能な NANOSPACE StopV WASH Pump StopV WASH Pump NASCA を開発しました。 Drain ニードル洗浄 column column 新規インジェクション機構である”direct injection valve (DIV)” を搭載したからです。 ポンプからの送液がニードルを通じて直接カラムへ送られます。 4.0e6 2.0e6 0.0 このことから、サンプルは直接カラムに注入できます。 4.0e6 2.0e6 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 0.5 Time, min その結果、キャリーオーバーの低減によって精度と真度が大幅に また、デットボリュームを極力抑えたことで、サンプルの拡散を StopV WASH Pump 2.0 2.5 Carry Over is Not Detected !! StopV WASH Pump ［ blank ］ （C.O.:0.00046%） Intensity, cps 分 析 column column ニードルが分析流路に組み込まれているため、常に移動相によ Intensity, cps 150 sample sample ニードル上昇 100 50 りフラッシングされます。 0 0.5 1.0 Pump 1.5 2.0 Column column ニードルがＤＩＶからサンプルバイアルポジションへ移動している 間、別流路へ切り替え、送液を続け高圧を保ちます。 0.5 1.0 1.5 2.0 NANOSPACE NASCA キャリーオーバー対策機能付装置 ：CAPCELL PAK C18 MGⅡ S3 2.0mm i.d.×50mm サンプル吸引 200 Time, min 【Condition】 sample 400 0 2.5 StopV WASH Pump 600 Time, min 密栓 DIV（Direct Injection Valve） ［ blank ］ （C.O.:0.000019%） 785 Drain イナート仕様を実現します。 1.5 Time, min Pump Pump 低減し分解能が向上します。 1.0 密栓 密栓 向上します。 SUS 補強 PEEK チューブを採用することにより、高圧下での ［ 600 ppb ］ 5.8e6 Intensity, cps 待 機 Intensity, cps サンプルは従来の流路切換バルブや配管のつなぎ目を通りません。 ［ 600 ppb ］ 6.0e6 sample sample Mobile Phase ：0.1% HCOOH, 40%CH3CN Ionization ：ESI MODE, Positive Injection Volume：10μL Sample ：Reserpine Flow Rate ：200μL/min Sample Solvent ：40%CH3CN Detect ：API5000 TM Blank Solvent ：0.1% HCOOH, 40%CH3CN 2.5
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