全製品カタログ

製品カタログ
PRODUCT
C ATA L O G
会社概要
OVERVIEW
ごあいさつ
株式会社オプトランは「オプトナノテクノロジーによる光学薄膜成膜のプロセスソリューション提供」を事業コンセプトとしており
ます。光学薄膜、真空技術それぞれの分野で、グループ全社が一体となり、広くお客様および社会のお役に立つ製品やサービスの提供
に努めております。
弊社は 1999 年の創業以来、デジタル光学の発展に貢献することを標榜し、お客様のニーズに応えながら、様々な光学成膜装置を製造・
販売し、光学薄膜での光学製品の新たな可能性にチャレンジしてまいりました。スマートデバイスやスマートフォンの普及により、光学薄膜
技術の応用は、多くの企業およびビジネスで、不可欠になってきております。また光学部品分野では、量的拡大のみならず新しいニーズも次々
に生み出されております。光学部品の大半は、光学薄膜を施して、初めて要求機能・性能を発揮いたします。それだけに、薄膜成膜に関する
技術的要求も、一段と高度なものになってきております。弊社は、今後も市場動向をリードできるような、光学薄膜装置の創造的な開発・生
産を続けてまいりたいと考えます。お客様から信頼いただくことを最重要とし、そのためにスピード感を持って開発・生産・販売・サービス
に努めてまいります。
今後は高度の技術力を基盤に事業領域を拡大し、高品質・高性能装置の市場への提供、および成膜トータルソリューション技術により、
お客様が最終製品生産を迅速に開始できるよう注力してまいります。光学薄膜市場をリードし、お客様のニーズに十分お応えするのが弊社の
使命と考えております。今後とも皆様方のご支援・ご指導を賜りますようお願い申し上げます。
株式会社オプトラン
代表取締役社長
Message from the President
Optorun's core business goal is "providing total process solutions of optical thin film coatings based on Opto-nanotechnologies". Optorun
Co., Ltd. and its affiliates strive to provide a variety of optical thin film coating and vacuum technology to be used in the market for the
benefits of its customers and society as a whole.
Since our company was founded in 1999, we have promoted the development of digital optics. We have developed and manufactured
a variety of optical film coaters to meet the needs of our customers, and explored new markets for the use of optical thin film coatings.
As a result of the popularization of handheld devices, such as smart phones and tablets, the application of optical thin film technologies
has become indispensable in numerous enterprises and businesses. And in the optical components industry, not only has there been a
quantitative expansion, but also new markets are springing forth one after another. Moving forward, we will continue to actively develop
and manufacture optical thin film coaters, which are capable of leading the market. Earning the trust of our customers is our most
important objective, and for that reason we will persistently emphasize the importance of our abilities and strong sense of urgency by our
teams in R&D, manufacturing, service, sales and marketing.
We will challenge ourselves to expand our market boundaries by providing high-quality, high-performance optical thin film coaters and
related technologies. Our focus is on enabling our customers to be able to engage in high quality manufacturing and production based
on our sophisticated technology. Our company’s mission has been and always will be to lead the future of the optical thin film market and
satisfy the needs our customers.
With my sincere appreciation,
I. Hayashi
President
Optorun Co., Ltd.
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1 MISSION
- To keep striving for pursuing
the ultimate thin film
technology and contribute to
development of a
highly-advanced information
society.
2 PHILOSOPHY
- To become a
knowledge-intensive company
by cosmopolitan management
and staff. To grow up with
customers.
3 BUSINESS - To make
"OPTONANOTECHNOLOGY"
our core competence and offer
total solutions to customers.
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OPTORUN CO., LTD.
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Foundation: August 25, 1999
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Capital:
JPY400 million
Board of Directors:
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Location of Head Office and Factory:
Takeno 10-1, Kawagoe-shi, Saitama-ken
Tel: 049-239-3381/Fax: 049-239-3382
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e-mail: [email protected]
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URL:
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Chairman
Daiyu Son
President, Senior Executive Officer ＆
Ihei Hayashi
President of Optorun Taiwan
Vice President, Senior Executive Officer &
Ken Tang
Genaral Manager of Marketing
Director & Senior Executive Officer
Toshinori Takahashi
Director & Executive Officer &
President of Optorun Shanghai Ken Miya
Director, Executive Officer & CTO
Bin Fan
Director
Hideyuki Odagi
Auditor
Hideo Seino
http://www.optorun.co.jp
Business: Š Manufacture, distribution and
import/export of vacuum coating
machines, peripheral equipment, and
units using vacuum coating products.
Š Maintenance and consulting services
for above products.
Employees: 60 employees as of Apr, 2014
Major Stockholders: as of Apr, 2014
ULVAC, Inc.
KMJ Venture International 䊡, LLC (USA)
RIKEN ELECTRIC WIRE CO., LTD.
OHARA INC.
OMRON CORPORATION
Overseas Contacts:
OPTORUN (SHANGHAI) CO., LTD. (CHINA)
OPTORUN TAIWAN CO., LTD. (TAIWAN)
OPTORUN VIETNAM CO., LTD. (VIETNAM)
Contract:
MSR TECHNOLOGY CO., LTD. (KOREA)
Banks:
Bank of Tokyo-Mitsubishi UFJ,
Mizuho Bank,
Resona Bank
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August 1999
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First Narrow Band Pass Filter Coater
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Taiwan Service Center established.
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Optorun (Shanghai) Co., Ltd. established.
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IAD type Optical Thin Film Coater OTFC Series
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Kawagoe new manufacture facility opened.
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Optorun ion source OIS Series developed.
Awarded 2 prizes "Best New Technology Award"
and "Best New Product Award" from the 16th
Small and Medium-Sized Companies Awards.
Optorun (Shanghai) new facility completed.
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Optical Thin Film Coater for mass production
Gener-1300 developed.
OPTO-SOLTEC INC. established.
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High performance Sputter HSP-1650 developed.
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Business Cooperation with ULVAC, Inc.
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AS film coating maching Gener-2350 developed.
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Nanyang OPTORUN Co., Ltd. established.
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Reactive Plasma Deposition RPD-1000 developed.
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Optorun Co., Ltd (Japan) Taiwan Branch Established.
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Optorun Vietnam Co., Ltd. Established.
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Optorun Taiwan Co., Ltd. Established.
Optorun (Taiwan) new facility completed.
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OPTORUN CO.,LTD.
製品
L
ラインナップ / 成膜装置
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OTFC シリーズ
OTFC Series
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p
光学薄膜形成装置
Optical Thin Film Coater
OTFC-600 ȭ600型
OTFC-600 ȭ600
OTFC-900 ȭ900型
OTFC-900 ȭ900
OTFC-1100 ȭ1100型
OTFC-1100 ȭ1100
OTFC-1300 ȭ1300型
OTFC-1300 ȭ1300
OTFC-1550 ȭ1550型
OTFC-1550 ȭ1550
OTFC-1800 ȭ1800型
OTFC-1800 ȭ1800
特殊仕様光学薄膜形成装置
Customized Optical Thin Film Coater
IR 赤外線フィルタ成膜用
IR for IR filters
LED LEDチップ向け成膜用
LED for coating on LED chips
M 金属ミラー成膜用
M for metal mirror
L プラスチック基板成膜用
L for coating on plastic substrates
PX 遊星回転型
PX equipped with planetary dome
Gener-1300ỗ⏝ᆺගᏛⷧ⭷ᙧᡂ⿦⨨
Gener
Gener-1300 for anti-reflection coatings
Gener-2350㜵ở⭷⏝ᡂ⭷⿦⨨
Gener-2350 for AS Vacuum Coating System
RPDシリーズ
RPD-1000 (ITO/AIN) 反応性プラズマ成膜装置
RPD Series
RPD-1000 (ITO/AIN) for Reactive Plasma Deposition System
HSP-1650 光学膜用スパッタ成膜装置
HSP
HSP-1650 Sputter Deposition Equipment for optical thin film
COFC-1100 連続式光学薄膜形成装置
COFC
COFC-1100 Continuous Optical Thin Film Coater
AR膜専用光学薄膜形成装置
SDAR シリーズ
Standard AR Vacuum Coater
SDAR Series
PMシリーズ
PM- 500 ȭ500型溶かし込み装置
PM- 500 ȭ500 Melting Machine
PM Series
PM- 800 ȭ800型溶かし込み装置
PM- 800 ȭ800 Melting Machine
イオンソース
ION SOURCE
RFイオンソース
RF ION SOURCE
OIS−One グリッド口径ȭ17cm
OIS−One
Grid size:ȭ17 cm
OIS−Two/OIS−Two Plus グリッド口径ȭ17cm
（高出力タイプ）
OIS−Two/OIS−Two Plus
Grid size:ȭ17 cm（High power type）
OIS−Three グリッド口径ȭ23cm
OIS−Three
Grid size:ȭ23 cm
OIS−Four グリッド口径ȭ10cm
OIS−Four
DCイオンソース
DC ION SOURCE
光学モニタ
Optical Monitor
Grid size:ȭ10 cm
OIS-GL グリッドレス
OIS-GL
Gridless
HOM1
NBPF フィルタ成膜用高分解能光学モニタ
HOM２
R/T-VIS350B 可視反射/透過式光学モニタ
For monitoring NBPF filters
R/T-VIS350B for visible Reflection/Transmittance
R/T -IR900 赤外反射/透過式光学モニタ
R/T -IR900 for infrared Reflection/Transmittance
RT-S 広帯域反射・透過両用光学モニタ
（高分解能）
RT-S for wide range Reflection/Transmittance
（High resolution）
6
HOM4
R/T/RT 広帯域反射・透過両用光学モニタ
HOM5
T-IR2000 中赤外透過式光学モニタ
DHOM
DHOM-T 直接透過式モニタ
R/T/RT for wide range Reflection/Transmittance
T-IR2000 for middle infrared transmittance
DHOM-T Direct Optical Monitor
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
光学薄膜形成装置
Optical Thin Film Coater
OTFC シリーズ
OTFC Series
（エッジフィルタ、帯域フィルタ、AR コーティング等の成膜用）
（For Edge Filters, Band Pass Filters, AR Coatings, etc.）
OTFC シリーズはエッジフィルタ、帯域フィルタ、AR コーティング等の
OTFC series, based on the ion-assisted technology, are the most
シフトレス光学フィルタを安定生産するためのイオンビームアシスト蒸着
suitable coating system for producing AR coatings and optical
（IAD）式高性能光学薄膜形成装置です｡
filters such as edge filters, band pass filters etc.
特長
FEATURES
■ チャンバーサイズ：φ 600 mm - φ1800mm
■Chamber size: φ 600mm-φ1800mm
■ 60 点式高精度光学膜厚計で光学膜厚を測定・制御
■60-point optical thickness monitor.
■ RFイオンソースは大面積かつ均一な分布と高電流密度を実現、
ハイレー
■RF ion source achieving uniformed, larger ion beam distribution
トでの成膜が可能
■ 電子銃２基を搭載し、多点るつぼとアニュラーハースにより１００層を超え
る積層が可能
over a larger area at high ion current density.
■Over 100 layers can be deposited by 2 EB guns and multi-point
crucible hearth or annular hearth.
■ 自動蒸着制御システムによるプロセスの全自動化
■Auto-deposition control system for fully automated process.
■ 基板ドームは中心回転式または遊星回転式のどちらかを選択可能
■Center-driving or planetary substrate dome is selectable.
■ 排気系は拡散ポンプ＋ポリコールドまたはクライオポンプの選択が可能
■Diffusion pumps plus Polycold or Cryo- pumps.
特別仕様成膜例
Examples of Special Coatings
EST Parameter:
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High Temperature: 500 C in an air oven for 24 hours.
Humidity: 50｡C at 90-95%RH for 48 hr
Boiling Water: boiling water for 10 minutes
Moisture Temperature: 2 cycles of 15 min in water; heated to 400｡C for 30 min
Adhesion test: No peeling and crack by 3M Scotch No. 610
7
OPTORUN CO.,LTD.
製品
成膜装置
OTFC-900
OTFC シリーズ仕様例
型番
真空チャンバ
基板ドーム
基板ドーム回転速度
光学膜厚制御システム
水晶式膜厚計
蒸発源
イオンソース
排気システム
OTFC-900CBI/DBI
SUS304, φ 900mm × 1300mm (H)
φ 790mm
10 rpm ～ 30 rpm（可変）
HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ
波長範囲 : 350nm to 1100nm
反射式 / 透過式
XTC/3 +6 点ロータリーセンサ
電子銃 2 基
10 cm RF イオンソース
あらびきポンプ + 拡散ポンプ 1 基 + ポリコールド
あるいはクライオポンプ 1 基 + クライオトラップ
OTFC-1100
OTFC-1100CBI/DBI
SUS304, φ1100mm×1520mm (H)
φ 950mm
10 rpm ～ 50 rpm（可変）
HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ波長範囲 : 350nm to 1100nm
反射式 / 透過式
XTC/3 +6 点ロータリーセンサ
電子銃 2 基
17 cm RF イオンソース
あらびきポンプ + 拡散ポンプ 2 基 + ポリコールド
あるいはクライオポンプ 2 基 + クライオトラップ
性能
到達圧力
排気時間
基板ヒータ設定温度
7.0 × 10-5Pa 以下
15 分（大気圧〜 1.3 × 10-3Pa まで）
最高：350℃
7.0×10-5Pa 以下
15 分（大気圧〜 1.3×10-3Pa まで）
最高：350℃
所要諸元
設置寸法
所要電力
所要冷却水流量
所要空気圧
本体重量
約 4500mm (W) × 5500mm (D)×3200mm (H) 3 相 , 200V, 50/60Hz, 約 81kVA
80 / 分以上
0.5MPa 以上
約 5400kg
約 5000mm (W)×6000mm (D)×3300mm (H) 3 相 , 200V, 50/60Hz, 約 100kVA
120 / 分以上
0.5MPa 以上
約 7200kg
OTFC-900CBI/DBI
SUS304, φ900mm×1300mm (H)
φ 790mm
10 rpm to 30 rpm (Variable)
HOM2-R-VIS350A High-precision Optical Monitor
Wavelength range: 350nm to 1100nm　Reflection/Transmittance XTC/3 plus 6-point rotary sensor
EB source: 2 units
10cm RF Ion Source
Roughing Pump, Diffusion Pump + Polycold
Or Cryo Pump + Cryo Trap
OTFC-1100CBI/DBI
SUS304, φ1100mm×1520mm (H)
φ950mm
10 rpm to 50 rpm (Variable)
HOM2-R-VIS350A High-precision Optical Monitor
Wavelength range: 350nm to 1100nm
Reflection/Transmittance XTC/3 plus 6-point rotary sensor
EB source: 2 units
17cm RF Ion Source
Roughing Pump, 2 Diffusion Pumps + Polycold
Or 2 Cryo Pumps + Cryo Trap
Specifications of OTFC Series
Model
Vacuum Chamber
Substrate Dome Size
Substrate Dome Rotation Speed
Optical Film Thickness Control System
Crystal Film Thickness Monitor
Evaporation Source
Ion Source
Vacuum System
Performance
Ultimate Pressure
Pump Down Rate
Substrate Heater
7.0 × 10-5Pa or lower
15 min (Atm. to 1.3×10-3Pa) 350℃ (max.)
7.0×10-5Pa or lower
15 min (Atm. to 1.3×10-3Pa) 350℃ (max.)
Utility
Layout Dimensions
Power Requirements
Cooling Water Flow Rate
Compressed Air Pressure
Gross Weight
8
4500mm (W)×5500mm (D)×3200mm (H) approx.
3-phase, 200V, 50/60Hz, 81kVA approx.
80 /min or greater
0.5MPa or greater
5400kg approx.
5000mm (W)×6000mm (D)×3300mm (H) approx.
3-phase, 200V, 50/60Hz, 100kVA approx.
120 /min or greater
0.5MPa or greater
7200kg approx.
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
OTFC-1300
OTFC-1300CBI/DBI
SUS304, φ1300mm×1610mm (H)
φ 1130mm
10 rpm ～ 50 rpm（可変）
HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ波長範囲 : 350nm to 1100nm
反射式 / 透過式
XTC/3 + 6 点ロータリーセンサ
電子銃 2 基
17 cm RF イオンソース
あらびきポンプ + 拡散ポンプ 2 基 + ポリコールド
あるいはクライオポンプ２基 + クライオトラップ
7.0×10-5Pa 以下
15 分（大気圧〜 1.3×10-3Pa まで）
最高：350 ℃ 約 5000mm (W)×6500mm (D)×3500mm (H) 3 相 , 200V, 50/60Hz, 約 104kVA
140 / 分以上
0.5MPa 以上
約 8500kg
OTFC-1550
OTFC-1800
OTFC-1550CBI/DBI
SUS304, φ1550mm×1800mm (H)
φ1400mm
10 rpm ～ 30 rpm（可変）
HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ
波長範囲 : 350nm to 1100nm
反射式 / 透過式
XTC/3 + 6 点ロータリーセンサ
電子銃 2 基
17 cm RF イオンソース
あらびきポンプ + 拡散ポンプ 2 基 + ポリコールド
あるいはクライオポンプ２基 + クライオトラップ
OTFC-1800CBI/DBI
SUS304, φ1800mm×1920mm (H)
φ1600mm
10 rpm ～ 30 rpm（可変）
HOM2-R-VIS350A 型光学モニタ
波長範囲 : 350nm to 1100nm
反射式 / 透過式
XTC/3 + 6 点ロータリーセンサ
電子銃 2 基
23 cm RF イオンソース
あらびきポンプ + 拡散ポンプ 2 基 + ポリコールド
あるいはクライオポンプ２基
7.0×10-5Pa 以下
15 分（大気圧〜 1.3×10-3Pa まで）
最高：350℃ 7.0×10-5Pa 以下
20 分（大気圧〜 1.3×10-3Pa まで）
最高：350℃
約 5500mm (W)×7200mm (D)×3700mm (H) 3 相 , 200V, 50/60Hz, 約 120kVA
180 / 分以上
0.5MPa 以上
約 10000kg
約 5700mm (W)×7700mm (D)×4000mm (H)
3 相 , 200V, 50/60Hz, 約 150kVA
220 / 分以上
0.5MPa 以上
約 11200kg
仕様は予告なく変更されることがあります。
OTFC-1300CBI/DBI
SUS304, φ1300mm×1610mm (H)
φ1130mm
10 rpm to 50 rpm (Variable)
HOM2-R-VIS350A High-precision Optical Monitor
Wavelength range: 350nm to 1100nm
Reflection/Transmittance
XTC/3 plus 6-point rotary sensor
EB source: 2 units
17 cm RF ion source
Roughing Pump, 2 Diffusion Pumps + Polycold
Or 2 Cryo Pumps + Cryo Trap
7.0×10-5Pa or lower
15 minutes (Atm. to 1.3×10-3Pa)
350℃ (max.)
5000mm (W)×6500mm (D)×3500mm (H) approx.
3-phase, 200V, 50/60Hz, 104kVA approx.
140 /min. or greater
0.5MPa or higher
8500kg approx.
OTFC-1550CBI/DBI
SUS304, φ1550mm×1800mm (H)
φ1400mm
10 rpm to 30 rpm (Variable)
HOM2-R-VIS350A High-precision Optical Monitor
Wavelength range: 350nm to 1100nm
Reflection/Transmittance
XTC/3 plus 6-point rotary sensor
EB source: 2 units
17 cm RF ion source
Roughing Pump, 2 Diffusion Pumps + Polycold
Or 2 Cryo Pumps + Cryo Trap
OTFC-1800CBI/DBI
SUS304, φ1800mm×1920mm (H)
φ1600mm
10 rpm to 30 rpm (Variable)
HOM2-R-VIS350A High-precision Optical Monitor
Wavelength range: 350nm to 1100nm
Reflection/Transmittance
XTC/3 plus 6-point rotary sensor
EB source: 2 units
23 cm RF ion source
Roughing Pump, 2 Diffusion Pumps + Polycold
Or 2 Cryo Pumps
7.0×10-5Pa or lower
15 minutes (Atm. to 1.3×10-3Pa)
350℃ (max.)
7.0×10-5Pa or lower
20 min (Atm. to 1.3×10-3Pa)
350℃ (max.)
5500mm (W)×7200mm (D)×3700mm (H) approx.
3-phase, 200V, 50/60Hz, 120kVA approx.
150 /min or greater
0.5MPa or greater
10000kg approx.
5700mm (W)×7700mm (D)×4000mm (H) approx.
3-phase, 200V, 50/60Hz, 150kVA approx.
180 /min or greater
0.5MPa or greater
11200kg approx.
Specifications may be subject to change without notice.
9
OPTORUN CO.,LTD.
製品
成膜装置
プラスチック基板用成膜装置
OTFC-L
Optical Thin Film Coater
for coating on plastic substrates
OTFC-L
プラスチック基板用成膜装置 OTFC-L はプラスチック基板対応可能に
This optical thin film coater is newly designed for coating at
新規設計されています。独自の薄膜形成技術を用い PMMA、ポリカー
plastic substrate .Our unique technology allows making coatings
ボネート、Zeonex、その他、高機能プラスチック基板へ精密な多層光
on various plastic substrates such as PMMA, Polycarbonate,
学薄膜を成膜する光学薄膜成膜装置です。
Zeonex,etc
特長
FEATURES
■ プラスチック基板に最適な装置設計
■ Optimum design for coating on plastic substrates
■特殊な成膜プロセスによりプラスチック基板上への高品質な光学薄膜
の生産が可能
■ High quality optical films produced on plastics by special coating
processes.
■ 厳しい環境試験をクリア
■ 自動制御システムにより成膜が自動化
金属ミラー成膜装置
■ Automatic coating processes achieved by ACS program.
OTFC-M
Optical Thin Film Coater
for metal mirror
OTFC-M
OTFC-M は金属薄膜用形成装置です。この装置の特徴はハイレートで
This optical thin film coater is designed for producing high
高品質の金属ミラーと、高精度の光学薄膜の作製が可能です。銀ミラー
performance metal mirror. Both metallic mirrors and quality optical
の薄膜は弊社独自の薄膜形成技術を用い、高反射で耐久性の良い薄
films can be made at high rate. Ag mirrors are resistant with high
膜の生産が可能です。
reflection by applying our unique technology.
特長
FEATURES
■ 高性能金属ミラーに最適な装置設計
■ Optimum design for metal mirrors.
■ 高反射率を可能とする排気システム
■ High reflection index achieved by the exhaust system.
■ 厳しい環境試験をクリア
■ Passed strict environmental tests.
■ 自動制御システムにより成膜が自動化
■ Automatic coating processes achieved by ACS program.
遊星回転式成膜装置
OTFC-PX
Optical Thin Film Coater
with planetary dome
OTFC-PX
OTFC-PX は遊星回転機構とイオンソースを搭載しリフレクターや高曲率
OTFC-PX, equipped with a planetary dome and ion source is
のレンズに対応した薄膜形成装置です。
suitable for coating a reflector and lenses with high curvature.
特長
FEATURES
■ 遊星回転機構により面内分布が向上
■ Planetary dome improves coating uniformity over substrate.
■ 基板ドーム角度は可変しレンズ曲率にあわせ傾けることが可能
■ Dome angle can be inclined in accordance with lens curvature.
■ IAD により膜質が向上
■ 光学膜厚システムにより球面状基板でも均一性の高い成膜を実現
■大型チャンバ（チャンバーサイズφ１８００）に搭載された遊星回転機構が
生産性をアップ
10
■ Passed strict environmental tests.
■ IAD system greatly improves film quality.
■ High precision spectrum property at spherical substrate can be
obtained at high accuracy by optical monitor.
■ Large size chamber (1800 mm in diameter) with planetary dome
increases productivity.
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
赤外線フィルタ成膜装置
OTFC-IR
Optical Thin Film Coater
for IR filters
OTFC-IR
OTFC-IR は、赤外線フィルタ成膜用に最適に設計されています。
This optical thin film coater is newly designed for infrared
波長 1700 ～ 5500nm で光学膜厚を監視・制御し成膜することが
filter coating. Optical thickness is monitored and controlled in
可能です。
wavelength range covering 1700 - 5500nm.
特長
FEATURES
■ 光学膜厚計　波長範囲 1700 ～ 5500nm　波長分解能 3 ～ 50nm 可変
■ Optical film thickness monitor: Wavelength Range = 1700 - 5500nm;
Wavelength Resolution = 3 - 50nm (Tunable)
■ 光学膜厚計　赤外波長での高い光量安定性± 0.05％以下を実現
■ 最適装置設計により、高性能、高品質、高再現性の赤外線フィルタ成膜を
実現
LED チップ向け成膜装置
■ Optical film thickness monitor; Light intensity stability ≤ ±0.05% in IR
range.
■ Particularly optimized for deposition of high-quality infrared filters having
high optical performance with high reproducibility.
OTFC-LED
Optical Thin Film Coater
for coating on LED chips
OTFC-LED
本装置は、LED チップ向けの成膜装置です。LED チップ上に各種
This optical thin film coater is newly designed for production of
の高機能膜を成膜します。
various high-performance films on LED chip.
特長
FEATURES
■ LED 用光学薄膜の製作に最適な設計
■ Designed and optimized for coating of optical thin films for LED
applications
■ 電極、保護層、透明導電膜、誘電体反射膜、金属反射膜などを成膜
■ IAD で耐環境性の高い膜を成膜。低温での ITO 成膜が可能
■ Various coatings; electrodes, protective layers, transparent conductive
films, (dielectric/metallic) reflector, etc.
■ Optical films with excellent environmental resistance by utilizing IAD
technology and, moreover, ITO film by low-temperature deposition
technique.
AR 膜専用光学薄膜形成装置
Standard AR Vacuum Coater
SDARシリーズ
SDAR Series
SDARシリーズはARコートなどの光学薄膜を量産するのに適した光
SDAR series are vacuum evaporation coating machines specialized
学薄膜形成装置です。
for effective manufacturing high quality, low cost AR coatings.
特長
FEATURES
■ 優れたコストパフォーマンス（低価格、高性能、高い生産性）
■High efficiency, High stability, High production
■ 省エネルギー、コンバクト設計
■Compact, Smaller space, Economical
■ チャンバサイズ：φ1300、φ1800、φ2350
■Chamber size: φ1300, φ1800, φ2350
11
OPTORUN CO.,LTD.
製品
成膜装置
汎用型光学薄膜形成装置
Gener-1300
General Purpose Vacuum
Coater
Gener-1300
本装置は反射防止膜を大量生産するために設計製作された光学薄膜形
Suitable for mass production of AR coating.
成装置です。
特長
FEATURES
■ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方式で安定且つ均一膜
■Excellent uniformity by the center drive substrate rotation system.
分布がえられます
■Shortened coating tact time achieved by higher performance in
■排気特性および昇温能力が向上し成膜タクトタイムが短縮
■光学モニタシステム、DC イオンソース、および抵抗加熱蒸発源をオ
プションで搭載可能
性能
到達圧力
排気時間
基板加熱設定温度
所要諸元
設置寸法
所要電力
所要冷却水流量
所要空気圧
本体重量
■Optical monitor, DC ion source, and Resistance heater
evaporation source can be optionally installed.
Gener-1300 仕様
真空チャンバ
基板ドーム
基板ドーム回転速度
水晶式膜厚計
蒸発源
pumping and heating.
Specifications of Gener-1300
SUS304, φ1300mm×1500mm (H)
4 分割式ドーム（又は約φ1200mm）
max 30 rpm（可変）
XTC/3 ＋ 6 点ロータリーセンサ
電子銃 1 基
7.0 × 10-5Pa 以下
10 分以下（大気圧〜 3.0 × 10-3Pa まで）
max 350℃　約 4500mm (W) × 6000mm (D)×3200mm (H)
3 相 , 200V, 50/60Hz, 約 80kVA
100 / 分以上
0.5 〜 0.7MPa
約 6500kg
Chamber Size
Substrate Dome
Max. Dome Rotation Speed
Crystal Film Thickness Monitor
Evaporation Source
SUS304, φ1300mm×1500mm (H)
Four-sectional Dome (orφ1200mm)
30 rpm (Variable)
XTC/3 plus 6-point rotary sensor
One unit of EB source
PERFORMANCE
Ultimate Pressure
7.0 × 10-5Pa or lower
Pumping Speed
10 min (from atmospheric pressure to 3.0×10-3Pa)
Max. Substrate Heating Temp.
350 ゜
C
UTILITY REQUIREMENTS
Installation Space
Power Source
Minimum Water Flow
Air Pressure
Weight
4500mm (W)×6000mm (D)×3200mm (H)
3-phase, 200V, 50/60Hz, 80kVA, approx.
100 /min
0.5 - 0.7 MPa
6500kg, approx.
AR Coating 8L on Glass Substrates by Gener-1300
2
1.9
1.8
1.7
1.6
1.5
1.4
Reflectance (%)
1.3
1.2
1.1
1
0.9
0.8
0.7
0.6
0.5
0.4
0.3
0.2
0.1
0
380
400
420
440
460
480
500
520
540
560
580
600
620
640
660
680
700
720
Wavelength (nm)
A1
3
A2
A3
A4
A5
A6
A7
Target
AR Coating 5L on Plastic Substrates by Gener-1300 with OIS-GL
2.8
2.6
2.4
Reflectance (%)
2.2
2
1.8
1.6
1.4
1.2
1
0.8
Gener-1300
0.6
0.4
0.2
0
400 410 420 430 440 450 460 470 480 490 500 510 520 530 540 550 560 570 580 590 600 610 620 630 640 650 660 670 680 690 700
Wavelength (nm)
A1
12
A2
A3
A4
A5
A6
A7
Target
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
防汚膜成膜装置
AS Vacuum Coating System
Gener-2350
Gener-2350
本装置は防汚膜
（AS 膜）に特化したスマートフォン・タッチパネル
Suitable for AS coating which is widely used in smart phones and
向けの大型光学薄膜形成装置です。
touch panels.
特長
FEATURES
■ドーム回転は磁気シール駆動による中心回転方式で安定且つ均一膜
■Excellent uniformity by the center drive substrate rotation system.
分布がえられます。
■RF ion source to enhance abrasion resistance (subject to more
■RF イオンソースの搭載により、膜の耐摩擦性が向上。
（4 万回以上の摩擦試験クリア *）
■防汚膜（AS 膜）を大量生産する事が可能。
* 摩擦試験の規格により、摩擦回数は異なることがあります。
Gener-2350 仕様
真空チャンバ
基板ドーム
基板ドーム回転速度
水晶式膜厚計
蒸発源
イオンソース
性能
到達圧力
排気時間
所要諸元
設置寸法
所要電力
所要冷却水流量
所要空気圧
本体重量
than forty thousand abrasion test*)
■Mass production for AS coating.
*The cycles of abrasion can be varied according to standard of
wear resistance test.
Specifications of Gener-2350
φ 2350mm × H1400mm
φ 2200mm, 5 分割式
20rpm
6 点式水晶モニタ
電子銃１基、抵抗加熱１基
RF イオンソース
7.0E-5Pa 以下
15 分以下 ( 大気圧～ 2.0 × 10-3Pa まで）
約 6300 (W) × 9000 (D) ×4000mm (H)
３相、200V、50/60Hz、約 80kVA
220 / 分以上
0.5 ～ 0.7MPa
約 12000kg
Chamber Size
Substrate Dome
Max. Dome Rotation Speed
Crystal Film Thickness Monitor
Evaporation Source
One unit of
Ion Source
PERFORMANCE
Ultimate Pressure
Pumping Speed
φ 2350mm × H1400mm
φ 2200mm, Five-sectional
20rpm
6-point Crystal flim monitor
EB source, One unit of Resistance heater
RF Ion Source
7.0E-5Pa or lower
15 min (from atmospheric pressure to 2.0×10-3Pa）
UTILITY REQUIREMENTS
Installation Space
Power Source
Minimum Water Flow
Air Pressure
Weight
6300 (W) ×9000 (D) ×4000mm (H)
3-phase, 200V, 50/60Hz, 80kVA, approx.
220 /min
0.5 - 0.7 MPa
12000kg, approx.
Abrasion resistance test of AS coating
Contact Angle (degree)
㪈㪉㪇
㪈㪇㪇
㪏㪇
The abrasion resistance is more than 40,000 times,
the contact angle is kept >100 degrees!
㪍㪇
㪋㪇
㪉㪇
㪇
㪇
㪈㪇㪇㪇㪇
㪉㪇㪇㪇㪇
㪊㪇㪇㪇㪇
㪋㪇㪇㪇㪇
㪌㪇㪇㪇㪇
Abrasion times (Steel Wool #0000, size 1cm × 1cm, 1 kg weight)
Gener-2350
13
OPTORUN CO.,LTD.
製品
成膜装置
反応性プラズマ成膜装置
RPDシリーズ（ITO/AlN）
Reactive Plasma Deposition
System
RPD Series (ITO/AIN)
RPDシリーズは、高性能な LED 機能性膜（ITO/AlN）を低コストにて
The RPD series is a reactive plasma deposition system and can
量産することができる反応性プラズマ成膜装置です。
mass-produce high performance, functional LED films (ITO and AlN)
at low cost.
特長
FEATURES
■反応性プラズマ源により成膜材料の蒸発と活性化を同時に実現
■Realizing both activation and evaporation of deposition materials by
employing a reactive plasma source.
■適切なエネルギーにより高品質な結晶膜を形成
■従来法と比べて、低温・低コストで量産可能
■High quality crystalline film by applying optimum energy.
■Mass-production at low temperature and low cost.
RPD-1000 仕様
Specifications of RPD-1000
真空チャンバ
基板ドーム
基板ドーム回転速度
水晶式膜厚計
蒸発源
Chamber Size
Substrate Dome
Max. Dome Rotation Speed
Crystal Flim Thicness Monitor
Ion Source
□ 1000mm × H1165mm
φ 870mm
10 ～ 30rpm
6 点ロータリーセンサ
反応プラズマ源
性能
到達圧力
排気時間
Performance
1.0E-4 Pa 以下
20 分以下 ( 大気圧～ 1.3 × 10 -3 Pa まで）
所要諸元
設置寸法
所要電力
所要冷却水流量
所要空気圧
本体重量
□ 1000 mm × H1165 mm
φ 870 mm
10 - 30 rpm
6 point rotary sensor
Reactive Plasma Source
1.0E-4 Pa or lower
20 min (from atmospheric pressure to 1.3×10 -3 Pa）
Ultimate Pressure
Pumping Speed
Utility Requirements
約 4000mm (W) × 6000mm (D)×2800mm (H)
3 相 +G、200V ± 5%、約 75kVA
80 / 分以上
0.5 〜 0.7MPa
約 4000kg
Installation Space
Power Source
Minimum Water Flow
Air Pressure
Weight
4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H) approx.
3-phase, 200 V ± 5%, 75 kVA, approx.
80 /min or lower
0.5 MPa - 0.7 MPa
4000 kg approx.
GaN on MOCVD AlN
Glass substrate
Gradient
pressure type
plasma gun
M
In+
S
E
M
E
Activated
vapor
S
M
S
S
M
S
M
S
M
M
S
M
S
S
S
M
S
M
S
S
S
Plasma
M
M
Film
Sn+
GaN on RPD AlN
S
M
S
S
E
60~70V
ITO tablet
Plasma
beam
controller
15 ~ 20V
RPD GaN vs RPD AlN+GaN
80000
＊Co-developed with Sumitomo Heavy Industries, Ltd
6 GaN48.4nm
Intensity (cps)
70000
6 AlN25nm+GaN48.4nm
60000
50000
40000
30000
20000
10000
0
33.5
Comparison of current spreading
34
34.5
35
35.5
36
Diffraction angle, 2θ(゜)
Sheet resistance of ITO coating with different thickness
Sheet Resistance [Ω/□]
90
77.6
80
70
60
50
40
31.8
30
15.8
20
10.0
7.4
10
5.8
0
0
25
50
75
100
125
150
175
Thickness [nm]
RPD-1000
14
200
225
250
275
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
光学膜用スパッタ成膜装置
HSP-1650
Sputtering system for optical
thin film applications
HSP-1650
本装置は光学薄膜向けに開発したメタルモード式スパッタ成膜装置で
The metal-mode sputtering machine HSP-1650 has been developed
す。膜厚を時間制御で正確にコントロールすることで従来できなかっ
for production of optical thin films. Precise time-control of film
た光学特性を有するフィルタの生産が可能になりました。また傾斜屈
thickness makes it possible to produce novel optical filters.
折率膜（ルゲートフィルタ）も成膜できます。
Moreover, rugate filters (gradient refractive index films) can be
produced.
特長
FEATURES
■ 最大 3 種類のターゲットを搭載可能
■ Possible installation of three target materlals at the maximum
■ ICP プラズマ技術による低吸収膜（k<1×10 ）
■ Low extinction coefficient by ICP technology (k<1×10-4)
■ ロードロック式基板ホルダ搬送方式
■ Load-lock type system employed for substrate holder transfer
HSP-1650 仕様
Specifications of HSP-1650
-4
真空チャンバ
基板ホルダ
基板回転機構
反応源
スパッタ源
排気システム
LL 室： SUS304、W1700mm × D1350mm×H980mm
PR 室：SUS304、φ165mm × H920mm
210mm（W）× 550mm(H）× 10mm(t）、22 枚
φ1500mm ドラム式、10rpm ～ 100rpm（可変）
ICP プラズマ
デュアルカソード 2 基、シングルカソード 1 基
LL 室：あらびきポンプ＋メカニカルブースターポンプ
PR 室：あらびきポンプ＋ターボ分子ポンプ 2 基
性能
到達圧力
排気時間
基板加熱設定温度
Substrate Holder
Substrate Rotation
Reaction Source
Sputtering Source
Vacuum System
Performance
LL 室： 10Pa 以下
PR 室：5.0 × 10 -4Pa 以下
LL 室： 30 分以内（大気圧～ 10Pa まで）
PR 室：40 分以内（大気圧～ 5.0 × 10 -3Pa まで）
LL 室：最高：100℃
所要諸元
設置寸法
所要電力
所要冷却水流量
所要空気圧
本体重量
LL Room: SUS304, W1700mm×D1350mm×H980mm
PR Room:SUS304, φ165mm×H920mm
210mm (W) × 550mm (H) × 10mm (t); 22 pcs
φ1500mm, Drum Type, 10rpm to 100rpm (Variable)
Inductively coupled plasma (ICP) system
2 Dual-cathodes ＋ 1 Single-cathode
LL Room: Roughing Pump ＋ Mechanical Booster Pump
PR Room: Roughing Pump ＋ 2 Turbo-Molecular Pumps
Vacuum Chamber
LL Room: 10Pa or lower
PR Room:5.0 × 10 -4Pa or lower
LL Room: within 30min (1atm to 10Pa)
PR Room:within 40min (1atm to 5.0×10 -3Pa)
LL Room: 100℃ (max.)
Ultimate Pressure
Pump Down Rate
Substrate Heater
Utility Requirements
約 7000mm (W) × 7000mm (D)×2800mm (H)
3 相、200V、50/60Hz、400A ＋ 200A
180 / 分以上
0.5 〜 0.7MPa
約 10000kg
Layout Dimensions
Power Requirements
Cooling Water Flow Rate
Compressed Air Pressure
Gross Weight
Rugate filter (Taji Mahal) by HSP-1650
100
Reflectance (%)
7000mm (W) × 7000mm (D) × 2800mm (H) approx.
3-phase, 200V, 50/60Hz, 400A ＋ 200A
180 /min or lower
0.5MPa - 0.7MPa
10000kg approx.
Calc.
Meas.
80
60
40
20
0
0.5
0.9
1.3
1.7
2.1
2.5
Wavenumber (µm-1)
Non-Polarizing Short Pass Filter 99L by HSP-1650
100
90
Transmittance (%)
80
70
60
50
40
30
20
10
0
HSP-1650
400
450
500
550
600
650
700
750
800
Wavelength (nm)
BK7_T45P
8kw_S3_T45P
BK7_T45S
8kw_S3_T45S
15
OPTORUN CO.,LTD.
製品
成膜装置・コンポーネント
連続式光学薄膜形成装置
COFC-1100D
Continuous Optical Thin Film
Coater
COFC-1100D
本装置は加熱補助室１、蒸着室、加熱補助室２を備えた３真空室式
COFC consists of three chambers; coating chamber, heating
連続光学多層膜真空蒸着装置です。成膜時に真空室の真空を破壊せ
chambers 1, and 2. Substrate dome can be transferred to the
ず連続的に基板ドームを投入し、全自動で多層膜の大量生産ができ
coating chamber without breaking vacuum during coating.
ます。
Multi-layered coatings can be mass-produced continuously and
automatically.
特長
FEATURES
■9 点式高精度反射式光学モニタで光学膜厚を制御
■9-point reflection type optical monitoring system controls optical
■大型ハースを搭載し多層光学薄膜の連続成膜を実現
thickness precisely.
■Multi-layered optical coatings achieved by large hearth without
■反射防止膜に最適
■自動蒸着制御システムによるプロセスの自動化
interruptions.
■Suitable for anti-reflection coatings.
■Coating processes automated by ACS program.
COFC-1100D 仕様
Specifications of COFC-1100D
真空チャンバ
基板ドーム
基板ドーム回転速度
蒸発源
Chamber Size
Substrate Dome
Max. Dome Rotation Speed
Evaporation Source
性能
到達圧力
蒸着室あら引き排気時間
蒸着室排気所要時間
所要諸元
所要電力
所要冷却水流量
重量
SUS304, φ1100mm×1345mm (D)×1315mm (H)
φ950mm
2 rpm to 15 rpm
電子銃
9 × 10-5Pa 以下
15 分以内（大気圧～ 10Pa まで）　＜ 1 分（～ 3.0 × 10-3Pa）
3 相 , 200V, 50/60Hz, 約 140kVA
150 / 分
約 17000kg
PERFORMANCE
Ultimate Pressure
Roughing speed
Pumping Speed
UTILITY REQUIREMENTS
Power Source
Minimum Water Flow
Weight
SUS304, φ1100mm×1345mm (D)×1315mm (H)
φ950mm
2 rpm to 15 rpm
EB source
9 × 10-5Pa or lower
<15 min（Atm. to 10Pa）
<1 min (to 3.0×10-3Pa)
3-phase, 200V, 50/60Hz, 140kVA, approx.
150 /min
17000kg, approx.
COFC-1100D
COFC-1100D レイアウト図面／ COFC-1100D Layout
16
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
17cm RF イオンソース
17cm RF Ion Source
OIS-One/OIS-Two/OIS-Two Plus
OIS-One/OIS-Two/OIS-Two Plus
OIS-One/OIS-Two/OIS-Two Plus はオプトランがイオンアシスト蒸着
Optorun OIS-one/OIS-Two/OIS-Two plus RF ion source are
（IAD）向けに最適化した自社開発の高性能 RFイオンソースです。ハイ
developed for high-rate ion-assisted deposition and substrate
レートで大面積の IAD 真空蒸着が可能で、基板クリーニングにも適して
ion cleaning, which are installed in Optorun OTFC-1100,
います。光学薄膜形成装置 OTFC-1100、OTFC-1300、OTFC-1550
OTFC-1300 and OTFC-1550 coaters for mass production of
に搭載することにより各種光学フィルタの量産に最適です。
various optical filters
特長
FEATURES
■フィラメント等の消耗品を使用する一般的なイオンソースと比較し、
■Filamentless design. Low contamination and long life.
長寿命かつコンタミが少ない
■High and uniform current beams with broad beam angle.
■イオン分布の均一性が高く大電流かつ広範囲
■Stable, long-hour operation.
（OIS-Two Plus：φ1400ｍｍ以上）を照射可能
■動作の安定性が高く長時間運転が可能
OIS 仕様
Specifications of OIS
型番
寸法
グリッドサイズ
ビーム電圧
ビーム電流
（max）
Acc 電圧
RF パワー
（max）
OIS-One
OIS-Two
OIS-Two Plus
φ300mm × 150mm (H)
φ 17cm（モリブデン製ディッシュ型グリッド 3 枚）
100V 〜 1500V
1000mA
1200mA
100V 〜 1000V
600W
750W
1000W
20sccm 〜 30sccm（アルゴン）
40sccm 〜 60sccm（酸素）
5 × 10-2Pa
RF コイルおよび本体
ガス流量
使用圧力
水冷方式
Model
Dimensions
Grids
Beam Voltage
Max Beam Current
Acc Voltage
Max RF Power
OIS-Two
OIS-Two Plus
φ300mm × 150mm (H)
φ 17cm three molybdenum grids
100V - 1500V
1000mA
1200mA
100V - 1000V
600W
750W
1000W
20sccm - 30sccm (argon)
40sccm - 60sccm (oxygen)
5 × 10-2Pa
RF coil and beam unit
Gas Flow Rate
Pressure
Water-cooling
ニュートラライザー仕様
寸法
エミッション電流（max）
RF パワー
（max）
ガス流量
OIS-One
Neutralizer
φ 6cm × 8cm
1500mA
φ 7cm × 12cm
2000mA
2400mA
150W
5sccm 〜 10sccm（アルゴンのみ）
Dimensions
Max Emission Current
Max RF Power
Gas Flow Rate
φ 6cm × 8cm
1500mA
φ 7cm × 12cm
2000mA
2400mA
150W
5sccm to 10sccm (argon only)
イオン電流密度 (µA/cm2)
Ion beam current density 㪲µA/cm2]
OTFC-1300 (OIS-One) によるイオン電流密度の分布
Uniformity of ion beam current density by OTFC-1300 (OIS-One)
Vbeam:900V, Vacc:400V, Pressure:1.0e-2Pa, Source:50sccm(O2)
Ibeam 600mA
Ibeam 700mA
Ibeam 800mA
Ibeam 900mA
Ibeam 1000mA
200
180
160
140
120
100
80
60
40
20
0
-600
-400
-200
0
200
400
ドーム中心からの距離 (mm)
600
Distance from dome center [mm]
イオン電流密度 (µA/cm2)
Ion beam current density 㪲µA/cm2]
OIS-One
OTFC-1550 (OIS-Two) によるイオン電流密度の分布
Uniformity of ion beam current density by OTFC-1550 (OIS-Two)
Vbeam:1100V, Vacc:400V, Pressure:1.0e-2Pa, Source:50sccm(O2)
Ibeam 600㨙A
Ibeam 800㨙A
Ibeam 900mA
Ibeam 1000mA
Ibeam 1200mA
160
140
120
100
80
60
40
20
0
-700
-500
-300
-100
100
ドーム中心からの距離 (mm)
300
500
700
Distance from dome center [mm]
OIS-Two Plus
17
OPTORUN CO.,LTD.
製品
コンポーネント
RF イオンソース
RF Ion Source
OIS-Three/OIS-Three Plus
OIS-Three/OIS-Three Plus
OIS-Three/OIS-Three Plus はイオンビームアシスト蒸着では世界最大級
のビーム照射を有し、φ１６００ドームに均一照射が行えます。ハイレートで
の真空蒸着および基板クリーニングに適しています。光学薄膜形成装置
OTFC-1800 に搭載することにより高性能な光学フィルタの大量生産に
最適です。
OIS-Three/OIS-Three Plus has an incomparable high power beam to
any other ion beam assisted deposition systems. Uniform irradiation
covers an entire dome with 1600 in diameter. OIS-Three/OIS-Three
Plus is most suitable for mass production of sophisticated optical
filters when equipped with OTFC-1800.
特長
FEATURES
■新開発の特殊グリッドにより、グリッドの長寿命化を達成
■Newly developed grid has long life.
■フィラメント等の消耗品を使用する一般的なイオンソースと比較し、長寿
命かつコンタミが少ない
■Long life and less contamination.
■分布の均一性が高く大電流でφ 1600 ｍｍ以上の広範囲を照射可能
■Higher uniformity of ion density with a wide coverage over a
dome with 1600mm in diameter.
■動作の安定性が高く長時間運転が可能
■Great stability and non-stop operation for longer hours.
OIS-Three/OIS-Three Plus 仕様
Specifications of OIS-Three/OIS-Three Plus
型番
寸法
グリッドサイズ
ビーム電圧
最大ビーム電流
Acc 電圧
最大 RF パワー
ガス流量
使用圧力
水冷方式
Model
Dimensions
Grids
Beam Voltage
Max Beam Current
Acc Voltage
Max RF Power
Gas Flow Rate
Pressure
Water-cooling
ニュートラライザー仕様
寸法
エミッション電流 (max）
RF パワー
ガス流量
OIS-Three
OIS-Three Plus
φ 390mm ×２１５mm(H)
φ 23cm（モリブデン製ディッシュ型グリッド 3 枚）
100V 〜 1500V
1800mA
2400mA
100V 〜 1000V
2000W
20sccm 〜 40sccm（アルゴン）
40sccm 〜 80sccm（酸素）
5 × 10-2Pa
RF コイルおよび本体
Neutralizer
φ７cm ×１２cm
2800mA
3000mA
150W(max）
5sccm 〜 10sccm（アルゴンのみ）
Dimensions
Max Emission Current (max）
Max RF Power
Gas Flow Rate
仕様は予告なく変更されることがあります。
φ 7cm × 12cm
2800mA
3000mA
150W
5sccm to 10sccm (argon only)
Specifications may be subject to change without notice.
イオン電流密度 (µA/cm2)
Ion beam current density 㪲µA/cm2]
OIS-Three Plus
OIS-Three
OIS-Three Plus
φ 390mm × 215mm(H)
φ 23cm three molybdenum grids
100V - 1500V
1800mA
2400mA
100V - 1000V
2000W
20sccm - 40sccm (argon)
40sccm - 80sccm (oxygen)
5 × 10-2Pa
RF coil and beam unit
OTFC-1800 (OIS-Three) によるイオン電流密度の分布
Uniformity of ion beam current density by OTFC-1800 (OIS-Three)
200
Ibeam 1000mA
Ibeam 1400mA
Ibeam 1800mA
Ibeam 2400mA
180
160
140
120
100
80
60
40
20
0
-800
-600
-400
-200
0
200
400
ドーム中心からの距離 (mm)
Distance from dome center [mm]
18
600
800
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
RF イオンソース
RF Ion Source
OIS-Four
OIS-Four
OIS-Four はイオンビームアシスト蒸着（IAD）向けに最適化した自社
開発の小型かつ高性能な RF イオンソースです。ハイレートでの真空
蒸着および基板クリーニングに適しています。
グリッド口径 10cm と小口径ながら高電流密度・均一性を考慮した設
計で弊社光学薄膜形成装置 OTFC-600、OTFC-900 でのドーム全
面照射が可能になりました。これにより各種光学フィルタの試作・中
規模生産、研究開発用途に最適です。
OIS-Four is a compact but high performance RF ion source
specially designed for IAD coating system and suitable for
vacuum coating and substrate cleaning at high rate.
The 10cm grid is small, but enables dense, uniform radiation
over entire dome of our OTFC-600 and OTFC-900.
Most suitable for test coatings of optical filters, medium-sized
production and R&D purpose.
特長
FEATURES
■フィラメント等の消耗品を使用するイオンソースと比較し、長寿命かつコ
ンタミが少ない
■Long life and less contamination compared with other ion
sources using consumables such as filament.
■イオン電流密度分布の均一性が高く、大電流かつ φ800mm を全面
照射可能
■High uniformity of ion density distribution, power and board
coverage of evaporation over 800mm dia.
■動作の安定性が高く、長時間運転が可能
■Highly stable and long operation hours.
OIS-Four 仕様
Specifications of OIS-Four
寸法
グリッドサイズ
ビーム電圧
ビーム電流
Acc 電圧
RF パワー
ガス流量
使用圧力
水冷方式
φ 224mm ×143mm (H)
φ 10cm（モリブデン製ディッシュ型グリッド 3 枚）
100V 〜 1500V
500mA (max)
100V 〜 1000V
600W (max)
25sccm 〜 35sccm（酸素）
10sccm 〜 20sccm（アルゴン）
5.0 ×10-2Pa 以下
RF コイルおよび本体
ニュートラライザー
寸法
エミッション電流
RF パワー
ガス流量
φ6cm ×8cm
1500mA (max）
150W
5sccm 〜 8sccm（アルゴンのみ）
仕様は予告なく変更されることがあります。
Dimensions
Grids
Beam Voltage
Max Beam Current
Acc Voltage
Max RF Power
Gas Flow Rate
Pressure
Water-cooling
φ 224mm ×143mm (H)
φ 10cm three molybdenum grids
100V - 1500V
500mA
100V to 1000V
600W
25sccm - 35sccm (oxygen)
10sccm - 20sccm (argon)
5.0 ×10-2Pa
RF coil and main unit
Neutralizer
Dimensions
Max Emission Current
RF Power
Gas Flow Rate
φ 6cm × 8cm
1500mA
150W
5sccm to 8sccm (argon only)
Specifications may be subject to change without notice.
OIS-Four
エレクトロンソース
Electron Source
OIS-ES
OIS-ES
電子源として高い電流密度が得られる為、プラズマ密度の増加、プラ
ズマプロセスのチャージアップ防止に優れた効果があります。放電方式
に RF 励起を採用しているため、酸素プロセスでも長時間安定動作かつ
コンタミレス。最大 2 台同時制御が可能。
Its high current density is remarkably effective at increasing plasma
density and preventing the plasma process from charge-up. Long
time stability and less contamination in the oxygen process achieved
by RF excitation. Two sources can be controlled simultaneously.
OIS-ES 仕様
ニュートラライザー
エミッション電流
最大 RF パワー
コントローラー
ニュートラライザー DC
ニュートラライザー RF
Specifications of OIS-ES
RFN-3A
3000mA
150W
OIS-ESC
OISN-Ⅱ
AX300Ⅲ (300W)
Neutralizer
Emission
Max RF Power
Controller
Neutralizer DC
Neutralizer RF
RFN-3A
3000mA
150W
OIS-ESC
OISN-Ⅱ
AX300Ⅲ (300W)
19
OPTORUN CO.,LTD.
製品
コンポーネント
グリッドレス DC イオンソース
Gridless DC Ion Source
OIS-GL
OIS-GL
OIS-GL は基板クリーニングやイオンアシスト用に開発された低電圧
大電流のグリッドレスイオンソースです。Gener-1300 または OTFC
シリーズに搭載することにより各種の光学フィルタが生産できます。
OIS-GL is low voltage, high current gridless ion source, and has been
developed for substrate cleaning, ion assisted deposition, etc. Various
optical filters can be produced by installing it in Gener-1300 or the
OTFC series.
特長
FEATURES
■基板クリーニングや樹脂基板の成膜に適しています
■Well-suited to substrate cleaning and resin substrate coating.
■低エネルギー・大電流でφ 1200mm 以上の広範囲を照射可能
■Wide beam angle at low energy and high current, designed for
large area over φ1200.
■冷却方式を工夫することにより、動作安定性を向上
■High operational stability by improving the cooling method.
OIS-GL 仕様
型番
寸法
放電電圧
放電電流
（max）
ガス流量
使用圧力
水冷方式
ニュートラライザー
Specifications of OIS-GL
OIS-GL
φ163mm × 200mm (H)
50V 〜 300V
8A
8sccm 〜 50sccm（アルゴン）
12sccm 〜 100sccm（酸素）
3.5 × 10-2Pa 以下
アノードおよび本体
W フィラメント
Model
Size
Discharge voltage
Discharging current (max)
OIS-GL
φ163mm × 200mm (H)
50V - 300V
8A
8sccm - 50sccm（argon）
12sccm - 100sccm（oxygen）
3.5 × 10-2Pa or lower
Anode and beam unit
Tungsten (W) filament
Gas flow rate
Pressure
Warter-cooling
Neutralizer
�I�-�� I�� A� �� D��I�� DI��I��I��
�or� �as=��y�en
2
Ion beam current density(μA/cm )
120
100
80
Id=3A
Id=5A
Id=8A
60
40
20
0
-600
-400
-200
OIS-GL
200
400
600
イオンソース電流密度測定器
Ion Current Density Meter
OIS-CDM
OIS-CDM
OIS-CDM は、イオンソースのイオン電流密度を測定することができる
専用測定器です。
オプションのプログラムを使用することによって、イオンソースコント
ローラおよびガスフローコントローラと連動し、自動測定することが
可能です。
OIS-CDM can measure the ion current density of ion source.
It is automatically measurable with a option dedicated program.
OIS-CDM 仕様
電源電圧
内部バイアス電源
電流測定範囲
付属品
標準付属測定子
スキャン測定数
寸法
20
0
Distance(mm)
Specifications of OIS-CDM
AC100V ± 15％
0 ～± 60V/0.5A
± 199.99mA ～± 1.9999mA
測定子、ケーブル、フィードスルー
外形φ30mm（測定面φ8mm）、10 個
32 点
480 × 99 × 330mm
Source voltage
Bias Power (inside)
Standard measurement range
Accessories
Standard gauge head
Scanning points
Measurements
AC 100 V ± 15 ％
0 to ± 60 V/0.5 A
± 199.99 mA to ± 1.9999 mA
Gauge head, Cable, Feedthrough
φ30 mm (φ8 mm, Measurement plane), 10 pcs
32 points
480 × 99 × 330 mm
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
高分解能光学モニタ
HOM1-1
High Resolution Optical
Monitor
HOM1-1
HOM1-1 は狭帯域透過フィルタ等成膜装置向けの膜厚制御用光学式
HOM1-1 is an optical film thickness monitor for a vacuum coating
高分解能光学膜厚モニタです。
system to produce narrow band pass filters, etc.
特長
FEATURES
■高 NA 値光学系と超低ノイズの回路設計により相対値で ±0.01％のノ
■± 0.01% low noise achieved based on high NA optical system
イズ特性を実現
and low noise circuit design.
■高分解能分光光学系を用いることにより波長分解能 0.08nm を達成
■0.08nm wavelength resolution
■ハロゲン光源を使用し、モニタリング波長帯域 1100nm 〜 1700nm
■Wavelength range of 1100nm-1700nm
に対応可能
■± 0.01 light sensitivity based on the self-developed (narrow band
■自社開発の NBPF フィルタ成膜向け膜厚測定技術を採用し、±0.01％の
pass filter) optical thickness control algorithm.
感度で光量変化を検出可能
HOM1 シリーズ型高分解能光学モニタ仕様
Specifications of High-resolution Optical Monitor 型番
波長帯域
波長分解能
光量設定分解能
光源
電源
消費電力
Model
Wavelength Range
Wavelength Resolution
Light Value Setting Resolution
Light Source
Power Requirements
Power Consumption
HOM1-1
1100nm ～ 1700nm
0.08nm
0.001%
ハロゲンランプ
AC100V ± 10%、50/60Hz
600VA
仕様は予告なく変更されることがあります。
HOM1-1
1100nm - 1700nm
0.08nm
0.001%
Halogen lamp
AC100V±10%, 50/60Hz
600VA
Specifications may be subject to change without notice.
高精度光学モニタ
HOM2 シリーズ
High Precision Optical
Monitor
HOM2 Series
HOM2 シリーズは反射防止膜や各種光学フィルタ成膜用の真空蒸着装
HOM2 series is an optical film thickness monitor for a vacuum
置向けの光学式膜厚計です。
coating system to produce AR coatings and various optical filters.
特長
FEATURES
■安定性の高いファイバ光学系と超低ノイズの回路設計により相対値で
± 0.001％のダークノイズ特性を実現
■± 0.001% low dark noise achieved based on stable fiber optical
system and low noise circuit design.
■透過式と反射式でモニタ方式を選択可能
■Transmittance and reflectance monitoring selectable.
■自社開発の NBPF フィルタ成膜向け膜厚測定技術を採用し、±0.05％
の感度で光量変化を検出可能
■± 0.05 light sensitivity based on the self-developed technology.
HOM2 仕様
Specifications of HOM2
測定区分
型番
波長帯域
光源
電源
透過式
反射式
透過式
反射式
可視域膜厚計可視域膜厚計近赤外域膜厚計近赤外域膜厚計
HOM2-RHOM2-THOM2-RHOM2-TVIS350
VIS350
IR900
IR900
350nm ～ 1100nm
900nm ～ 2400nm
ハロゲンランプ
ハロゲンランプ
AC100V ± 10％、50/60Hz
仕様は予告なく変更されることがあります。
Range
Model
Wavelength Range
Light Source
Power Requirements
T-type
R-type
T-type
R-type
Visible
NIR
NIR
Visible
HOM2-RHOM2-THOM2-RHOM2-TVIS350
VIS350
IR900
IR900
350nm - 1100nm
900nm - 2400nm
Halogen lamp
Halogen lamp
AC100V±10%, 50/60Hz
Specifications may be subject to change without notice.
データプロセッサ /Data Processor
HOM2-D1
投光器用電源 /Lamp Power Supply
HOM2-P
投光器 /Light Source
HOM2-L
分光器 /Spectrometer
HOM2-N1/N2
21
OPTORUN CO.,LTD.
製品
コンポーネント
広帯域高分解能光学モニタ
HOM2-RT-S1
Wide Range Optical
Monitor
HOM2-RT-S1
HOM2-RT-S1 は光学フィルター精密成膜装置向けの広波長帯域高分
Our optical thin film coater is equipped with HOM2-RT-S1 to
解能光学膜厚計です。
control the optical film thickness at high accuracy.
特長
FEATURES
■1 波長帯域 350nm 〜 2400nm までの高精度自動成膜制御を実現
■Automatic coating can be controlled as accurately as 350nm to
■0.2nm 以下の波長分解能で± 0.001％の超低ノイズを達成
■測光方式は透過式 / 反射式を自動切替
2400nm for one measuring range.
■Extremely low noize of ±0.001% achieved at wavelength
resolution of 0.2nm or lower.
■Automatically selectable measuring method (transmittance/
reflectance).
HOM2-RT-S/S1 仕様
型番
波長帯域
波長分解能
光源
電源
Specifications of HOM2-RT-S/S1
HOM2-RT-S1
350nm ～ 2400nm
0.2n
ハロゲンランプ
AC100V ± 10%、50/60Hz
広帯域光学モニタ
HOM4-R/T/RT
Model
HOM2-RT-S1
Wavelength range
350nm - 2400nm
Wavelength Resolution
0.2nm
Light Source
Halogen lamp
Power Requirements AC100V±10%, 50/60Hz
Wide Range Optical
Monitor
HOM4-R/T/RT
HOM4 は光学フィルタ成膜装置向けの広波長帯域の光学膜厚計です。
HOM4 is an optical thickness meter for wide range optical filter
HOM2-RT-S1 と同等の波長範囲で測光方式は透過／反射を自動切
deposition system.
替可能。
It covers same wavelength as HOM2-RT-S1.
特長
FEATURES
■波長帯域 350 ～ 2400nm までの自動成膜制御を実現
■Monitoring wavelength can be automatically controlled from 350 -
■分光器の小型化により省スペースを実現（HOM2 シリーズと同等）
■透過式と反射式でモニタ方式を選択または自動切替可能
2400nm.
■Space-saving design with the modification of monochromator.
(installation space is as same as that for HOM2 series.)
■Transmittance and reflectance monitoring mode are available
and can be switched automatically.
HOM4-R/T/RT 仕様
型番
波長帯域
光源
電源
HOM4-R
Specifications of HOM4-R/T/RT
HOM4-T
HOM4-RT
350 ～ 2400nm
ハロゲンランプ
AC100V ± 10％、50/60Hz
HOM4-R/T/RT 用分光器
Spectrometer for HOM4-R/T/RT
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Model
Wavelength range
Light Source
Power Requirements
HOM4-R
HOM4-T
HOM4-RT
350 - 2400nm
Halogen lamp
AC100V ± 10%, 50/60Hz
OPTORUN CO.,LTD.
「薄膜ソリューションを提供するオプトラン」
中赤外域光学モニタ
HOM5-T-IR2000
Middle Infrared Optical
Monitor
HOM5-T-IR2000
HOM5-T-IR2000 は赤外フィルター成膜装置向けの中赤外透過式光
HOM5-T-IR2000 is the middle-IR transmittance type optical film
学膜厚計です。
thickness monitor utilized for optical thin film coaters producing
波長帯域は 1700 ～ 5500nm で、従来からラインナップしている近
IR filters.
赤外域膜厚計 900 ～ 2400nm より更に長波長の光学膜厚モニタを
Its wavelength range covers 1700-5500 nm, which is broader
実現しました。
than that of previous Optorun's monitors, 900 - 2400 nm.
特長
FEATURES
■中赤外波長 1700 ～ 5500nm（1819 ～ 5882cm -1）での膜厚モニタ
■Newly developed optical thickness monitoring in the range of
1700 - 5500 nm (1819 - 5882 cm-1)
を実現
■中赤外波長での高い光量安定性± 0.05% 以下を実現
■高波長分解能を実現、分解能 3 ～ 50nm 調整可能
■High light stability in the IR range, <= ±0.05%
■High wavelength resolution, 3 - 50nm (adjustable)
HOM5-T-IR2000 仕様
Specifications of HOM5-T-IR2000
型番
波長帯域
電源
Model
Wavelength range
Power Requirements
HOM5-T-IR2000
1700 ～ 5500nm
AC100V ± 10％、50/60Hz
HOM5-T-IR2000
1700 - 5500nm
AC100V ± 10%, 50/60Hz
直接透過式モニタ
Direct Optical Monitor
DHOM-T
DHOM-T
DHOM-T は、成膜中に回転ドーム上にある基板の光学膜厚を直接監
DHOM-T monitors directly, in real time, the optical film deposited
視制御する光学膜厚計です。
on the substrate mounted on a rotating dome in its deposition
波長帯域は 350 ～ 1100nm と 350 ～ 2400nm をラインナップして
process.
おります。
Monitoring wavelength range is 350-1100 nm or 350 - 2400 nm.
特長
FEATURES
■回転ドーム上にある基板の光学膜厚を直接監視制御する事が可能
■Direct monitoring of the optical thickness of the sample mounted
■ドーム上のモニタリング位置を変更可能（成膜前に変更調整）
on rotating dome
■Variable and readily adjustable monitoring position
■Conventional indirect monitoring system optionally installed
in the same coater, and direct or indirect monitoring system
optionally chosen for each film layer
■モニタガラスを用いた従来式の間接モニタリングシステムと同時搭載
ができ、各層で切替制御が可能
DHOM-T 仕様
型番
波長帯域
測光方式
光源
電源
Specifications of DHOM-T
DHOM2-T
350 ～ 1100nm
DHOM4-T
350 ～ 2400nm
透過
ハロゲンランプ
AC100V ± 10%, 50/60Hz
Model
Wavelength range
Detection method
Light Source
Power Requirements
DHOM2-T
350 -1100nm
DHOM4-T
350 - 2400nm
Transmittance
Halogen lamp
AC100V ± 10%, 50/60Hz
828nm BPF 66L Repeatability
100
90
チャンバ/
Chamber
モニタガラス/
Monitor Glass
80
Transmittance (%)
直接モニタ/
Direct monitor
間接モニタ（従来式）/
Indirect-Mode monitor
70
60
50
0.5nm
40
30
20
回転ドーム/
Rotation Dome
基板/
Substrate
10
補正板/
Mask Arm
模式図 /Pattem Diagram
0
810
815
820
825
830
835
840
845
Wavelength (nm)
Batch1
Batch2
成膜実例 /Examples of Coatings
23
株式会社オプトラン
〒 350-0801
埼玉県川越市竹野 10-1
Tel: 049-239-3381 Fax: 049-239-3382
営業ダイヤルイン
Tel: 049-239-3402 Fax: 049-239-3397
http://www.optorun.co.jp
Optorun Co., Ltd.
10-1 Takeno Kawagoe-shi, Saitama-ken 350-0801
Tel: 81-49-239-3381 Fax: 81-49-239-3382
Overseas Sales Department
Tel: 049-239-3403 Fax: 049-239-3397
Website: http://www.optorun.co.jp
富士見
中学校
アクセス
駅：東武東上線「若葉」駅（
「池袋」駅より 40 分）
車：
「鶴ヶ島」IC 出口より 10 分
Access
Nearest Station: Wakaba Sta./Tobu Tojo line 40 min from
Ikeburuko Sta.
Nearest Expressway Exit: 10min drive from
Tsurugashima IC,
Kanetsu expressway.
Overseas contacts:
CHINA
Optorun (Shanghai) Co., Ltd.
267 Cheng Yin Road, Baoshan Urban Industrial Park,
Shanghai 200436 P.R.China
Tel: 021-3616-1290 Fax:021-3616-1940
Sales branch
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After Service
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TAIWAN
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Taiwan (R.O.C.)
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VIETNAM
OPTORUN VIETNAM Co., Ltd.
Road D3, Section D, Pho Noi A Industrial Park, Van Lam
District, Hung Yen Province, Vietnam
Tel: +84-321- 358-7651 Fax: +84-321-358-7652
2014052KI

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