close

Enter

Log in using OpenID

3 次元積層技術における TSV の共同技術開発に合意

embedDownload
報道関係各位
2010 年 7 月 8 日
SEMATECH とレーザーテック、
3 次元積層技術における TSV の共同技術開発に合意
~アルバニーCNSE で共同開発へ~
レーザーテック株式会社(本社横浜)は、ニューヨーク州立大学アルバニー校のナノスケ
ール科学工学カレッジ (CNSE)で SEMATECH が行っている、半導体 3 次元積層技術プログ
ラム(英文名称:3D Interconnect Program)に参加いたします。同社は、SEMATECH と共
同でヴィア・ミドル TSV(via mid through-silicon via、シリコン貫通電極)の量産に備え、堅
固で費用効率が高いプロセス計測技術に向けての課題解決策を開発いたします。
レーザーテックと、SEMATECH の 3 次元積層技術プログラムの技術者との共同開発は、
各種 3D TSV の深さ測定法の調査と比較が中心となります。この仕事は TSV RIE プロセス制
御にとってのみならず、ウェハの薄膜化と TSV 露光プロセスへの重要なフィードフォワー
ドデータの提供に必要です。
この仕事の遂行にあたり、レーザーテックは SEMATECH の 3D R&D センターに TSV
300-IR 貫通電極エッチング深さ検査装置を設置し、TSV の各種寸法範囲に亘り正確かつ再現
性良く TSV 深さを計測可能な先端計測技術を提供します。
「SEMAECH は、レーザーテックが 3D プログラムに参加して頂いたことを嬉しく思って
います。我々の共通の目的はヴィア・ミドル TSV 技術の課題に取り組むことです。レーザ
ーテックの専門技術である計測技術と TSV 300-IR の性能が組み合わさると、我々のインテ
グレーションスキームの重要なギャップが埋められることになります。さらに、今日のニー
ズに対処でき、さらには将来の先進的なサイズにも対処できる、世界に通用する TSV 深さ
測定の解決策を SEMATECH の会員企業に提供できます。」と、SEMATECH の 3 次元積層
技術プログラムのディレクターである Sitaram Arkalgud(S.アーカルガド)は期待を込めて
います。
「レーザーテックとしては計測・検査技術分野における我々の専門技術が、3D TSV を商
業ベースに乗せるような革新的な計測能力の開発にさらに寄与していくことに期待をしてい
ます。我々の最先端装置である TSV 300-IR により、SEMATECH の技術者およびメンバー会
社は TSV 技術に重要な計測技術の課題に取り組むことができます。」とレーザーテックの
副社長兼技術本部長の楠瀬治彦は述べています。
「革新的な TSV 技術を商業ベースに乗せるのに重要な最先端の研究開発は、レーザーテ
ックが CNSE のアルバニーナノテク複合棟での開発に参画されることにより、さらに強化さ
れます。この新たな協力関係は SEMATECH-CNSE のパートナーシップが我々の世界中のパ
ートナー企業およびナノエレクトロニクス業界の最先端技術をサポートしていく活動に大き
く寄与します。」と、CNSE の戦略、アライアンス、コンソーシアム担当バイスプレジデン
トの Richard Brilla (R.ブリラ)は抱負を寄せています。
TSV 技術は小型で低消費電力でありながら、高機能と高性能を可能にするために IC を垂
直 に 積 み 重 ね る 手 法 で す 。 多 く の 標 準 的 な チ ッ プ プ ロ セ ス に 加 え 、 TSV 技 術 に は
SEMATECH が現在取り組んでいる幾つもの新しい技術的かつ実行上の課題が見えてきてい
ます。
SEMATECH の 3D プログラムは、3 年前、CNSE のアルバニーナノテク複合棟に開設され、
TSV 量産のための堅固な 300mm装置とプロセス技術を提供することを目的としています。
1
開発を加速させるため、同プログラムの技術者達は、最先端の装置および材料メーカー各社
と協業し、TSV 技術の実用化を進めています。3 次元積層技術は、多様化する CMOS 技術や
チップと、マイクロ・ナノエレクトロメカニカルシステム(MEMS, NEMS)やバイオチップ
のような新技術を、高コスト効率を実現しながら、統合させることが期待されています。
<レーザーテック株式会社;本社
神奈川県横浜市、社長
岡林 理>
1960 年に設立された半導体、液晶、太陽電池関連の検査、計測装置の国際的専門メーカ
ー。製品には、貫通電極エッチング深さ検査装置、ウェハ欠陥検査レビュー装置、EUVL マ
スクブランク検査装置、フォトマスク欠陥検査装置、フォトマスクヘイズ除去システム、カ
ラーフィルタ修正装置、太陽電池変換効率分布測定装置ならびに各種共焦点顕微鏡等があり
ます。この広範な製品群をサポートするために世界中に販売・サービス拠点を戦略的に配置
しています。JASDAQ に上場。詳しくはホームページ www.lasertec.co.jp をご参照ください。
<SEMATECH について>
1987 年設立以来 20 年以上、SEMATECH は、半導体の研究開発を製造にいち早く転換すべ
く、グローバルな視点での方向性、柔軟に飛んだ協業体制、研究から製造への戦略を開発し
ています。SEMATECH はさらに、ナノエレクトロニクスや新興技術領域のパートナー企
業・機関とともに次世代技術革新を加速させています。詳しくは www.sematech.com をご参
照下さい。
<CNSE について>
CNSE(The UAlbany CNSE)は、ナノサイエンス、ナノエンジニアリング、ナノバイオサイエ
ンス、ナノエコノミクスの新規領域の教育、研究、開発を専門的に行うために設立された、
世界初の大学です。CNSE のアルバニーナノテク複合棟は、世界中の同様の施設で最も先進
的な最先端研究事業を担っています。55 億ドルを投じて建設された 80 万平方フィートの施
設は世界中から企業パートナーを誘致し、学生にユニークな学究的経験をさせています。
CNSE は、世界でも類を見ない、完全に集積化された 300 mm ウェハの、コンピュータチッ
プのパイロット生産試作ラインとデモラインを 80,000 平方フィートの Class 1 クリーンルー
ム内に備えています。CNSE には、2500 名以上の科学者、研究者、エンジニア、学生、教授
陣 が お り 、 彼 ら は 、 IBM, AMD, GlobalFoundary, SEMATECH, Toshiba, Applied Materials,
Tokyo Electron, ASML, Novellus Systems, Vistec Lithography, Atotech などから派遣されていま
す。詳しくは www.cnse.albany.edu. をご参照ください。
###
本ニュースリリースに関するお問合せ先:
レーザーテック株式会社
企画 IR 室長 浅井 浩志
Tel: 045-478-7127
[email protected]
SEMATECH:
Erica McGill
518-649-1041
[email protected]
CNSE
Steve Janack
CNSE
518-956-7322
[email protected]
SEMATECH リエゾンオフィス
㈱セミコンダクタポータル
谷 奈穂子
Tel: 03-3560-3565
[email protected]
2
Author
Document
Category
Uncategorized
Views
0
File Size
112 KB
Tags
1/--pages
Report inappropriate content