研究室案内 ○本所 精密測定室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 1 機械加工技術開発室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 3 材料試験室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 4 材料物性研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 5 非破壊検査室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 6 電子･情報技術研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 7 電子・材料試験室・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 8 電子技術開発室（電波暗室） ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 9 電磁波シールドルーム ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 10 電子研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 11 Ｘ線分析室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 12 電子顕微鏡室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 13 機器分析室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 14 表面処理研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 15 表面加工技術開発室・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・16 生産環境研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 17 環境試験室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 18 食品・バイオ研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 19 食品・微生物技術開発室／生産環境技術開発室 ・・・・・・ 20 工業材料研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 21 デザイン研究室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 22 企業連携技術開発室・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・23 ○中丹技術支援室 機械加工室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 24 材料物性評価室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 25 測定・計測室 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 26 研究・解析棟１階 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・27 研究・解析棟２階 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・28 ○依頼試験手数料・機械器具貸付料 依頼試験手数料・機械器具貸付料について ・・・・・・・・・・・29 主な依頼試験等の手数料一覧 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・30 貸付機器一覧（本所） ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・34 貸付機器一覧（中丹技術支援室） ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・43 平成28年4月 URL:http://www.mtc.pref.kyoto.lg.jp/ 京都府中小企業技術センターの業務紹介 当センターは、技術相談・依頼試験・機器貸付をはじめとした技術支援、研究会・セ ミナーによる人材の育成、企業のニーズに応えた研究開発や産学公連携の推進、企 業に役立つ技術情報の発信を業務の柱として、企業への支援を行っています。 ■技術支援 ○技術相談 新製品開発、品質管理、技術改善、研究開発等、企業の方々が抱える技術に関する様々な悩みや 課題について、当センター職員によるアドバイス及び情報提供等を実施します。現場にもお伺いします ので、お気軽にご相談ください。 特別技術指導員による技術支援 京都府内の中小企業が、創造的・先駆的な技術開発や製品開発等に取り組む中で起こる様々な技 術的課題を解決するために、京都府中小企業特別技術指導員、大学教授等の専門家により、助言・ 指導を行います。 ○依頼試験 企業の方々からの依頼に応じて、工業材料及び製品・部品などを対象に各種の試験・分析・測定な どを行います。 ○機器貸付 企業の方々が研究開発等のため当センターが保有している機器を利用することができます。 ○受託研究 中小企業の新技術・新製品開発等の技術的な課題解決を支援するため、企業の方々の依頼に応じ て研究・調査・試験分析をお引き受けする受託研究制度を実施しています。自社単独での研究や依頼 試験等による対応では困難な場合がありましたら、お気軽にご相談ください。 ■人材育成 各技術分野において、研究会やセミナー等を実施し、技術者の技術力、製品開発力等の向上を図り ます。 ■研究開発 自社保有技術の革新や新技術開発を目指す中小企業等のニーズに応え、各分野において研究開 発を進めるとともに、その成果の普及や技術移転を図るため毎年研究発表会を実施しています。 ■産学公連携等の推進 当センターは産学公連携等のコーディネート機能を強化し、企業、大学等の技術連携、共同研究な どを推進し、新技術・新製品の創造を通じた新産業の育成を図ります。 ■技術情報の発信 ホームページ、メールマガジン、情報誌等の広報媒体を通じて役立つ技術情報を提供しています。 ホームページ http://www.mtc.pref.kyoto.lg.jp/ メールマガジン 週１回配信 情報誌 クリエイティブ京都Ｍ＆Ｔ（ 8月を除く毎月1日発行 ） 企業からの依頼試験・機器の貸付制度 当センターでは、高度な試験・研究用機器を設置し、依頼試験と機器貸付を行って います。どちらも事前の申込みが必要ですので、それぞれの具体的な申し込み手順を ご紹介します。 依頼試験 企業の方々からの依頼に応じて、材料・部品・製品等をお預かりし、性能や品質、 精度等について、高精度な測定・試験・分析を実施し、成績書を発行するとともに、 技術アドバイスも行っています。 事前打合せ ↓ 試料、図面等を準備していただき、必要な試験内容の打合せを行います。 試験分析依頼書の作成 ↓ 依頼書様式は当センターホームページからダウンロードできます。 必要事項を記入してください。 依頼書の提出 （手数料支払） ↓ 所定の額の京都府収入証紙でお支払いください。 ※京都府収入証紙は、当センターでも取り扱っています。（３Ｆ総務課） 試験・測定の実施 ↓ 試料をお預かりし、試験を行います。 結果報告 試験結果を説明の上、データシート・試験後の試料等を返却します。 必要に応じて成績書の発行や技術アドバイスを行います。 機器貸付 企業の方々が自ら操作して試験・評価を行えるように、試験研究用機器を貸付 制度のもと開放（貸付）しています。 事前打合せ ↓ 機器の利用状況等を確認し、利用期間を決定します。 ※事前に基本操作に関する実務研修が必要な機器もあります。 申込書の提出 ↓ 申込書様式は当センターホームページからダウンロードできます。 必要事項を記入し、ご提出ください。（メール、ＦＡＸ可） 承諾書の交付 ↓ 利用申込みを受け付けた後、当センターから機器利用の承諾書を発行します。 使用料の支払い ↓ ご利用前に当センターが発行する納入通知書で使用料金をお支払いください。 ※現金による支払いも可能です。（詳細は、お問い合わせください。） 機器利用 当センターホームページを参考にしてください。URL:http://www.mtc.pref.kyoto.lg.jp/ 本 研 所 究 室 一 覧 精密測定室 Precision Measuring Room ＣＮＣ三次元座標測定機、画像測定機、精密真円度･円筒形状測定機、曲面微 細形状測定システム、レーザープローブ式非接触三次元測定装置などを備え、 様々な形をした複雑形状部品等の寸法や形状を精密に計測しています。 なお、正確な寸法を計測するために、部屋の温度を２０±１℃に管理しています。 ２３年度 導入 ２５年度 導入 ＣＮＣ三次元座標測定機 画像測定機 精密真円度･円筒形状測定機 Coordinate Measuring Machines Image Measuring Instruments Roundness Measuring Instruments Hexagon Metrology GmbH 製 Leitz PMM-C 12.10.7 ＯＧＰ 社製 Smart Scope Vantage 600 （主な用途） 複雑形状部品の精密計測 （性 能） 測定範囲 ： 1200×1000×700Ｈmm 空間精度 ： MPEＥ＝(0.6＋L/800)μm 〔L：測定長さmm〕 ｽｷｬﾆﾝｸﾞ精度 ： MPEＴＨＰ＝1.5μm/45秒 （主な用途） （主な用途） 精密形状部品の光学計測 精密部品の真円度等測定 （性 能） （性 能） 測定範囲 ： Ｈ 測定範囲 ： 直径：350mm 450×610×300 mm 高さ ：500mm 測定精度 ： 回転精度 ： U２＝（1.5＋4L/1000）μm （0.01＋3H/10000）μm 〔L：測定長さmm〕 〔H：測定高さmm〕 画像プローブ、レーザプローブ 分解能 ： 接触式プローブ 0.008μm/±1mm範囲 0.0003μm/±0.04mm範囲 競輪補助事業物件 積載荷重 ： 40kg 競輪補助事業物件 アメテック(株) テーラーホブソン事業部 製 タリロンド 595 基盤技術課 機械設計・加工担当 (Tel 075-315-8633) 1 精密測定室 Precision Measuring Room ＣＮＣ三次元座標測定機、画像測定機、精密真円度･円筒形状測定機、曲面微 細形状測定システム、レーザープローブ式非接触三次元測定装置などを備え、 様々な形をした複雑形状部品等の寸法や形状を精密に計測しています。 なお、正確な寸法を計測するために、部屋の温度を２０±１℃に管理しています。 ２６年度 導入 ２５年度 導入 ２１年度 導入 装置概観 測定部 曲面微細形状 測定システム Form & Surface Measuring Instruments ナノインデンテーション 試験機 Nanoindentation Tester アメテック(株) テーラーホブソン事業部 製 フォームタリサーフ ＰＧI １２００ (株)エリオニクス製 ＥＮＴ－２１００ 基盤技術課 機械設計・加工担当 （Ｔel 075-315-8633) 基盤技術課 材料・機能評価担当 （Ｔel 075-315-8633) レーザプローブ式 非接触三次元測定装置 Non-contact Laser Probe Measuring System 三鷹光器(株) 製 ＮＨ-３SＰ （主な用途） 微細部品や金型、電子部品、傷つ （主な用途） （主な用途） 蒸着、塗装、めっき、DLC等 きやすい素材等の形状観察・評価 （性 能） 表面粗さ・輪郭形状の測定 薄膜の硬さ、物性評価 測定範囲 ： （性 能） （性 能） X＝150mm、Y＝150mm、 測定範囲 ： 荷重範囲 ： 5μN～100mN Z＝10mm X＝120mm、Y＝100mm、 変位計測範囲 ： ～50μm 測定分解能 ： Z＝12.5mm 試料サイズ ： Ｘ，Ｙ：0.01μm、Z：0.001μm 測定分解能 ： 0.8ｎm（ Z方向） 直径50mm×厚さ10mm 測定精度 ： システムノイズ ： 2nm(Rq)以下 （最大） X，Y：0.5+2.5Ｌ/1000 μm、 （非接触式測定） Ｚ：0.1+0.3Ｌ/10 μm (株)キーエンス 製 ＶＲ-３２００ 〔L：測定長さmm〕 観察測定範囲 ： 24mm×18mm～1.9×1.4mm 競輪補助事業物件 （連結可能） 2 基盤技術課 機械設計・加工担当 （Ｔel 075-315-8633) 機械加工技術開発室 Machinery Technology Development Room ３次元ＣＡＤ/ＣＡＥ、高速三次元成形機、三次元スキャナを備えており、３次元 ＣＡＤを用いて作成したデータや三次元スキャナを用いて取得したデータを利用し た高速三次元成形機（樹脂粉末積層３Ｄプリンタ）による試作や３次元ＣＡＥによる 解析などを行っています。 ２６年度 導入 ２５年度 導入 高速三次元成形機 （樹脂粉末積層３Ｄプリンタ） (株)アスペクト 製 三次元スキャナ ＲａＦａＥｌ ３００Ｆ ファロー 製 ＦＡＲＯ Ｅｄｇｅ ＳｃａｎＡｒｍ ＥＳ ９ｆｔ （主な用途） ３次元ＣＡＤデータからの立体モデルの作成 （性 能） 作成方法 ： 粉末焼結法による積層造形 実造形サイズ ： 290mm×290mm×高さ370mm 積層ピッチ ： 0.08mm～0.20mm（標準0.1mm） レーザ ： Fiberレーザ 出力50Ｗ、ビーム径0.17mm、 走査速度10m/sec 造形材料 ： ナイロン11（ASPEX-FPA 黒） 特色 ： より高速・高精度に高耐久性の ある樹脂成形品の作成が可能 （主な用途） ３次元データの取得 （性 能） 非接触式スキャナ部〈光切断方式〉 精度：±35μm 繰返し精度：35μm（2σ） ｽｷｬﾝﾚﾝｼﾞ：80mm～165mm （測定深さ方向） 接触式アーム部<７軸関節測定> 定点繰返し精度：29μｍ 測定精度（二点間距離）：±41μｍ 測定範囲：2.7m 基盤技術課 機械設計・加工担当 (Tel 075-315-8633) 3 材料試験室 Material Testing Laboratory 万能材料試験機、摩耗試験機、衝撃試験機、振動試験機、疲労試験機等の試験 機を備え、金属材料や工業材料等の強度試験、疲労試験及び機能評価試験を 行っています。 ２６年度導入 恒温槽 万能材料試験機 万能材料試験機 Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ オリエンテック ＵＣＴ－２５Ｔ （性 能） 最大荷重 ２５０kＮ(２５ｔｆ) ｸﾛｽﾍｯﾄﾞｽﾄﾛｰｸ １,３００mm 有効試験幅 ５２５mm （試験項目） 引張り強度、圧縮強度 （活 用 例） 金属材料や工業材料の強度試験 製品の品質管理における機能評価 Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ 島津製作所 万能材料試験機 UH-1000kNI Electric Dynamic fatigue Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ （性 能） 最大荷重 1000kＮ(100ｔｆ) 試験ストローク（最大） 引張側 900mm以上 圧縮側 900mm以上 有効試験幅 750mm （試験項目） 引張り強度、圧縮強度 ｲﾝｽﾄﾛﾝｼﾞｬﾊﾟﾝｶﾝﾊﾟﾆｲﾘﾐﾃｯﾄﾞ E10000LT （性 能） ロードセル 引張／圧縮 ±10ｋN ねじり ±100Nm アクチュエータ リニアモータ式 ストローク 引張／圧縮方向 ±30mm ねじり方向 ±135度 試験波形 正弦波、三角波、矩形波、 台形波など 周波数範囲 ～30Hz（ストローク±1mm時） 恒温槽 温度範囲 -30～200℃ 試験片治具 丸棒用 φ3mm～18mm 平板用 厚さ0～12.7mm 3点曲げ治具 支柱間隔 455mm （試験項目） 引張り強度、圧縮強度、曲げ強度、疲労試験 （活 用 例） 金属材料や工業材料の強度試験 製品の品質管理における機能評価 競輪補助事業物件 （活 用 例） 金属材料や工業材料の強度試験 温度環境中での疲労試験 競輪補助事業物件 回転動摩擦摩耗試験機 Rotary Dynamical Friction Abrasion Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ 高千穂精機 TRI-S-500NP （性 能） 回転数 30～3000rpm 押付力 200～5000Ｎ ドライ、ウェット （試験項目） ピンオンディスク試験 リングオンディスク試験 （活 用 例） 金属材料や工業材料の 摩擦・摩耗特性評価 往復摺動式摩擦摩耗試験機 Ａｂｒａｓｉｏｎ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ 神鋼造機 １００５号機 （性 能） 最大往復周波数 １０Ｈｚ 最大負荷荷重 ０．５Ｋｇ 最大温度 ６００℃ （試験項目） 摩耗試験 （活 用 例） 金属材料や工業材料の摩耗試験 応用技術課 表面・微細加工担当 （Ｔel 075-315-8634) 基盤技術課 材料・機能評価担当 （Ｔel 075-315-8633) 4 材料物性研究室 Material Physics Laboratory FEオージェ電子分光分析装置、マイクロビッカース硬さ計、走査型プローブ顕微鏡、倒立型金属 顕微鏡、デジタルロックウェル、ブリネル硬さ試験機、表面物性試験装置等を備え、表面微小部の 観察・分析、金属組織の観察、ブリネル・ロックウェル・ビッカース等の硬さ試験及び薄膜の密着性 評価を行っています。 競輪補助事業物件 ２６年度導入 表面物性試験装置 FEオージェ電子分光分析装置 Scratch Tester For Thin Film Field Emission Auger Electron Spectrometer レスカ CSR-2000 アルバック・ファイ PHI-700 （主な用途） 各種材料の微小部表面分析 （ 仕 様 ） 同軸円鏡型電子分光器 中和機能付アルゴンイオン銃 アコースティックエンクロージャ （ 活 用 例 ） 極表面（＜5nm）の元素分析 （主な用途） 薄膜の密着強度評価 （ 仕 様 ） 印加荷重範囲：1mN～1N 圧子励振振幅：5･10･20･40･50･80･100μm （ 活 用 例 ） セラミック、DLC薄膜などの密着性評価 競輪補助事業物件 マイクロビッカース硬さ計 Inverted Metallurgical Microscope 島津製作所 ＨＭＶ２０００ＡＤ （主な用途） 金属の微小部硬さの測定 （ 仕 様 ） 試験荷重：0.049～19.6Ｎ ビッカース硬さ ヌープ硬さ （活用例） 材料の硬さの測定、硬さの分布 走査型プローブ顕微鏡 倒立型金属顕微鏡 Micro Vickers Hardness Testing Machine Scanning Probe Microscope 島津製作所 SPM-9500J2 オリンパス GX51 / DP72 （主な用途） 金属組織等の観察 （ 仕 様 ） 倍率 ： 50 ～ 1000倍 明視野 / 暗視野観察 微分干渉 / 簡易偏光観察 （活用例） めっき厚さ、鋳鉄球状化率測定 （主な用途） 材料表面の極微小凹凸観察 （ 仕 様 ） 走査範囲：（X, Y） 30mm×30mm 測定範囲：（Ｚ） 5mm 試料最大形状：Φ24mm×8mm （活用例） 蒸着表面の観察 応用技術課 表面・微細加工担当 （Ｔel 075-315-8634) 基盤技術課 材料・機能評価担当 （Ｔel 075-315-8633) 5 非破壊検査室 Non-destractive Inspection Laboratory X線を利用して、モノを破壊することなく部品や組立製品内部の構造を透視観察す ることができます。 この部屋は放射線管理区域のため、必要のある方以外は立ち入らないようお願い します。 ２４年度導入 ２６年度導入 ﾏｲｸﾛﾌｫｰｶｽX線CTｼｽﾃﾑ 工業用X線透視装置 Micro Focus X-ray System Industrial X-ray Examination System SMX-3500M-SP TOSCANER-32300μFD 島津メクテム 東芝ITコントロールシステム （主な用途） （主な用途） 工業材料の内部欠陥、組立製品の内部 構造の非破壊透過観察。 二次電池、電子デバイス、実装基板、 小型アルミダイカストの非破壊透過観察。 （性 能） （性 出力150ｋV 3mA（最大） 能） 出力230ｋV／焦点サイズ：4μm 搭載可能ｻｲｽﾞ φ620×高さ650mm 30kg 搭載可能ｻｲｽﾞ φ320×高さ300mm 15ｋｇ （観察例） アルミニウムダイカスト部品の検査 （観察例） 外観からは確認する ことができない内部の ガス欠陥が白く点状 に観察されています。 IC 競輪補助事業物件 半田ﾌｨﾚｯﾄ 地域オープンイノベーション促進事業 応用技術課 電気・電子担当 （Ｔel 075-315-8634) 基盤技術課 材料・機能評価担当 （Ｔel 075-315-8633) 6 電子・情報技術研究室 Electrical Engineering Laboratory 電子機器の開発・設計技術とＥＭＣ対策技術を支援しています。 ● 電子材料・部品・回路網の時間・周波数域の測定・解析を支援 ・高速ストレージオシロ、サンプリングオシロ、ネットワークアナライザ、 広範囲インピーダンスアナライザ等の測定器 ・信号解析 ２６年度 導入 ミックスドシグナルオシロスコープ 広範囲インピーダンスアナライザ Broadband Impedance Analyzer Mixed Signal Oscilloscope ● ＩＥＣ規格のインパス性イミュニティ試験と対策技術を支援 ・雷サージ、ファースト・トランジェントバースト、 静電気放電等の試験機 静電気放電試験機 Electrostatic Discharge Simulator 雷サージ試験機 ファースト・トランジェント・ バースト試験機 Thunder Serge Examination machine First Transient Burst Examination machine 競輪補助事業物件 応用技術課 電気・電子担当 (Tel 075-315-8634) 7 電子・材料試験室 Electric Material Testing Laboratry ・光学特性評価システム LED照明器具の配光特性・全光束・色度特性等、照明の品質を評価 LED照明器具の発光時の電気的特性・ちらつきの評価 ２７年度 導入 積分球測定画面 光学特性評価システム 配光測定画面 Lighting Quality Testing System 積分球測定 配光測定 ・積分球 76インチ(約2m)、10インチ(約25cm) ・サンプルサイズ 小型仕様 φ200×300mm ・分光波長範囲 350～950nm 大型仕様 1200mm×2 ・フリッカ特性および簡易瞬停試験が可能 （40W直管型2灯） ＜配光測定と共通事項＞ ・傾斜角 ±180° 回転角 ±180° ・電流電圧範囲 出力AC300Vまで（最大2.5A) ・配光光路長 1m、2～12m 出力DC424Vまで（最大1.1A) ・JIS C8105-5 配光測定方法に準拠 ・光学特性 全光束、色度、相関色温度、主波長、 ・光学特性 配光特性各種、全光束（球帯係数法）、 演色性評価指数、スペクトルなど ほか共通光学特性・電気特性 ・電気特性 力率、有効電力、周波数など ・近赤外検出器により350～2500nmの測定が可能 競輪補助事業物件 応用技術課 電気・電子担当 (Tel 075-315-8634) 8 電 子 技 術 開 発 室（電波暗室） Radio Frequency Anechoic Chamber 電磁ノイズ計測や電磁波照射を行うことができます。 電波暗室 Radio Wave Anechoic Room （主な用途） この部屋の中で試験を行うことにより、 外からの電磁波を遮断し、対象物から の電磁ノイズを測りやすくなります。 また、外へ電磁波が漏れないように 電磁波照射試験が行えます。 壁面の突起は部屋内で電磁波が反 射しないようにするためです。 （性 能） ６面電磁波吸収仕様 電磁放射測定機 Emission Measurement System （主な用途） 電子機器が空中へ放射する電磁波の 強さを国際標準に基づき計測 （性 能） 測定周波数範囲：9KHz～6GHz 放射イミュニティー自動試験システム Emission Immunity Examination System （主な用途） 電磁波障害耐性の確認試験 （性 能） 試験周波数範囲：80MHz ～2.5GHz 出力：10V/m(3m法) 競輪補助事業物件 応用技術課 電気・電子担当 (Tel 075-315-8634) 9 電磁波シールドルーム Electro-magnetic Shielded Room ・マイクロ波、ミリ波帯域における周波数＆タイムドメイン特性評価を行っています。 アンテナ・フィルタ・アンプ・カプラ等高周波デバイス、電磁波シールド・吸収材料 ・光波帯域における物性・スペクトル・時間応答特性評価を行っています。 光ファイバ、発光素子、変調・受光素子、光トランシーバー等の光デバイス ２５年度 導入 ２５年度 導入 ベクトルネットワークアナライザ 光コンポーネントアナライザシステム Vector Network Analyzer Lightwave Component Analyzer ・マイクロ波帯での周波数特性評価 ・光デバイスの周波数特性評価 ・アンテナ指向特性測定 ・電磁波透過・吸収特性及び材料物性評価 ２５年度 導入 ２５年度 導入 光スペクトラムアナライザ サンプリングオシロスコープ Optical Spectrum Analyzer Sampling Oscilloscope ・発光スペクトル測定評価 ・光透過波長特性評価 光・マイクロ波の時間応答・線路評価 ２５年度 導入 電磁波シールド特性測定システム Electromagnetic Wave Shield Characteristic Measurement system 電磁波のスペクトル測定評価 他の装置 電磁波シールドルーム、光デバイス用自動光軸調整装置 …etc. 応用技術課 電気・電子担当 (Tel 075-315-8634) 10 電子研究室 Electronic Engineering Laborator 次世代のデバイス加工技術や製品化技術の開発を実施しています。 また、金属蒸着～フォトリソグラフィによる微細パターンの作成までのデバイス作製 プロセスに必要な設備・装置を開放機器としてご利用いただけます。 このような装置を用いて光デバイスや微細加工技術の開発を京都府内企業と共同 研究を行っており、次世代製品開発のツールとして貢献しています。 真空蒸着装置 高精度マスクアライメント装置 Vacuum Deposition System High-Accuracy Mask Aｌignment System ＥＢＨ－６，日本真空技術 MA-20K型，ミカサ （主な用途） （主な用途） 薄膜の作成 （性 光導波路デバイスの導波路と 能） 電極パターンの作成 真空排気装置：ＤＰ （性 能） 加熱源：抵抗加熱 試料径：3インチまで 試料：固定式 10㎝角まで 表面粗さ：最大0.2nm(平均）程度 平坦度：最大1/10Λ（直径 3インチウエハ時）程度 平行度：最大２秒角（2/3600）度程度 応用技術課 表面・微細加工担当 (Tel 075-315-8634) 11 Ｘ線分析室 X-ray Analysis Laboratory 蛍光X線分析装置、X線光電子分光分析装置、X線回折装置を整備しています。 これらの装置は、試料にX線を照射して得られる各種エネルギー信号を解析するこ とにより、試料を破壊することなく元素の組成、化学結合状態、結晶構造などを調べ ることができます。 ２６年度導入 Ｘ線回折装置 蛍光Ｘ線分析装置 X-ray Diffractometer X-ray Fluorescence Spectrometer X線光電子分光分析 装置 X-ray Photoelectron Spectrometer メーカ・型式 メーカ・型式 メーカ・型式 リガク RINT-UltimaⅢ 理学電機工業 ZSXPrimusⅡ アルバック・ファイ PHI5000VersaProbeⅡ (主な用途) (主な用途) (主な用途) 工業材料の結晶解析(同定) (性 能) 最大連続負荷：3kW(Cu管球)、 最大測角範囲：-3゜～154゜(2θ) 薄膜回折（微小部、極点図、 小角散乱） 工業材料中の元素の 定性 分析及び定量分析 (性 能） 固体表面の元素及び 化学状態の分析 (性 波長分散型 分析元素：Be～U 最大試料装填数：48 最大試料サイズ： 50mmφ×30mm(H) 競輪補助事業物件 競輪補助事業物件 応用技術課 表面・微細加工担当 （Ｔel 075-315-8634) 基盤技術課 化学・環境担当 （Ｔel 075-315-8633) 12 能) X線源：モノクロメータ（Alアノー ド）、デュアルアノード （Mg/Al） X線ビーム径：φ10～200μm Arイオン銃加速電圧：0.2～ 5kV Arガスクラスターイオン銃加速 電圧：1～20 kV 最大試料サイズ：φ60mm(高さ 8mm)以下 応用技術課 表面・微細加工担当 （Ｔel 075-315-8634) 電子顕微鏡室 Electron Microscope Laboratory 電子線マイクロアナライザー、走査電子顕微鏡、分析型電子顕微鏡、グロー放電発 光分析装置を設置しています。 試料に細く絞った電子線を照射して得られる各種信号を映像化又は解析することで、 高倍率で微小部試料表面の観察や元素分析を行ったり、グロー放電により元素の深 さ分析などを短時間で行うことができます。 ２６年度導入 走査電子顕微鏡 分析型電子顕微鏡 Scanninｇ Electron Microscope Scanninｇ Electron Microscope- Energy Dispersion Spectroscopy 競輪補助事業物件 日本電子 JＳＭ-６７０１Ｆ (主な用途) 各種材料の微細構造の高倍率観察 (仕 様) 冷陰極電界放出形電子銃 二次電子像分解能：1nm（15kV）、 2.2nm(1kＶ) 倍率：25～650,000倍 加速電圧：0.5～30kＶ ２６年度導入 日本電子 JＳＭ-７１００Ｆ (主な用途) 各種材料、特に金属部品の微細構造の 高倍率観察、微小部の簡易な元素分析 (仕 様) ショットキー形電子銃 二次電子像分解能： 1.2nm（30kV）、 3.0nm(1kＶ) 倍率：10～1,000,000倍 加速電圧：0.2～30kＶ エネルギー分散法 EDS 検出元素：Ｂｅ～U 元素マッピッグ、線分析 電子線マイクロアナライザー ( EPMA ) Electron Probe Microanalyzer 日本電子 ＪＸＡ-８２００ (主な用途） 各種材料、機械・電気・電子部品の微小 部元素分析 (仕 様) LaB6/W電子銃 波長分散法 WDS ( 5ch ) 検出元素：B～U エネルギー分散法 EDS 検出元素：Ｂｅ～U 元素マッピッグ、線分析 ２６年度導入 グロー放電発光分析装置 蛍光X線膜厚計 Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy 堀場製作所 GD Profiler２ (主な用途） 薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの 各種表面処理品、表面改質品の深さ方向分析 (仕 様) 測定元素： ポリクロメーター（H,Li,B,C,N,O,Na,Mg,Al,Si,P,S,Cl,Ar,K,Ca, Ti,V,Cr,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Mo,Ag,In,Sn,W,Au,Pb) モノクロメーター （H～U、１元素） 測定エリア：４ｍｍφ（標準）、２ｍｍφ、７ｍｍφ 試料サイズ：１０ｍｍ角 基盤技術課 化学・環境担当 （Ｔel 075-315-8633) Fluorescent X-ray Coating Thickness Gaugee 日立ハイテクサイエンス ６０００VX （主な用途） 金属薄膜の膜厚測定 （仕 様） 測定元素：Na（原子番号11）～U（原子番号92） 検出器：マルチカソードSi半導体検出器 測定領域：0.2、0.5、1.2、3.0mm□ 試料最大サイズ：250mm(奥行)×580mm(幅)×730mm（高さ） 基盤技術課 材料・機能評価担当 （Ｔel 075-315-8633) 13 応用技術課 表面・微細加工担当 （Ｔel 075-315-8634) 機器分析室 Chemical Assay Laboratory 分光分析装置やクロマトグラフなどの分析装置を備え、工業材料や食品などの分 析を行い、企業の技術開発・製品開発・品質保証活動を支援しています。 ２０年度導入 ２３年度導入 ２０年度導入 フーリエ変換赤外分光光度計 ＩＣＰ発光分光分析装置 Fourier Transform Infrared Spectrometer ICP（Inductively Coupled Plasma） Emission Spectrometer 島津製作所製 ＩＲPrestige－21 炭素硫黄分析装置 Carbon/Sulfur Analyzer LECO社製 エスアイアイ・ナノテクノロジー製 ●金属材料中の炭素及び硫黄 の定量分析 測定範囲（試料：1ｇ）： 炭素；0.6ppm～6.0% 硫黄；0.6ppm～6.0% SPS3100HV UV ●有機化合物の定性分析 ●溶液中の元素の定性定量分析 シーケンシャル型 （依頼試験のみ） スぺクトル波数：7800～350 ㎝-1 競輪補助事業物件 CS－844 競輪補助事業物件 基盤技術課 化学・環境担当 (Tel 075-315-8633) ２３年度導入 ２５年度導入 地域オープンイノベーション促進事業 レーザーラマン顕微鏡 液体クロマトグラフ Laser Raman Microscope High Performance Liquid Chromatograph ナノフォトン製 Raman touch 島津製作所製 ●有機・無機化合物の定性分析 スぺクトル波数：８０～4000 励起レーザー：532nm 785nm ㎝-1 Prominence ●食品中のアミノ酸等の分析 高圧グラジエントタイプ 検出器：蛍光検出器等 応用技術課 飛行時間型液体クロマトグラフ 質量分析装置 LC-TOF / MS 島津製作所製 Prominence UFLC-XR ブルカー・ダルトニクス製 micrOTOFⅡ-kp ●食品等に含まれる成分の質量分析 イオン化法：ESI 質量範囲：50 ～ 20,000 m/z 質量分解能：16,500 FWHM (Tel 075-315-8634) 14 表面処理研究室 Surface Treatment Laboratory 各種の電源や電解槽を活用してめっきや陽極酸化などの湿式表面処理技術に関 する研究、試作、依頼試験や技術相談を行っています。 主要機器 精密めっき装置 Precision Plating Equipment めっき用電源 電位分極測定装置 Power Supply for Plating Potentiostat/Galvanostat 研究開発 ■におい、色調、手触りなど人間の感性に 訴えるめっき皮膜の特性に着目し、「マイロ カプセルによる芳香複合めっき皮膜」や「着 色めっき」などの開発を行っています。 着色めっき外観 ■ 環境規制強化により６価クロメートから 転換された黒色三価クロム化成処理の耐 食性・黒色外観の改善など、亜鉛めっき処 理の高機能化を検討しています 亜鉛めっき条件を変えた黒色３価クロム化成処理の外観 ■めっき（電鋳）技術を活用した微細加工 技術であるUV-LIGAプロセスを用いたマ イクロ金属構造体の作製などの技術開発 を行っています。 各種基板上に加工されたニッケル微細構造体のＳＥＭ写真 技術相談・依頼試験 めっき技術や、表面処理のクレーム処理、微細加工技術 についての技術相談・依頼試験を行っています。 ■めっき・陽極酸化処理膜の試作 ■めっきの前処理技術 ■めっき物性の改善 ■めっき・表面処理層の膜厚測定 ■表面処理部品の不良解析 ■光触媒の担持、評価 応用技術課 表面・微細加工担当 (Tel 075-315-8634) 15 表面加工技術開発室 Surface Fabrication Laboratory プラズマイオン注入成膜装置を備えています。 摩擦摩耗特性に優れるダイヤモンドライクカーボン（DLC）皮膜をPBIID法（Plasmabased Ion Implantation and Deposition）により機械部品やプラスチック、ゴム、セラミック スなど各種材料表面に成膜できます。 プラズマイオン注入成膜装置 Plasma Based Ion Implantation and Deposition System 主な仕様 PIAD-CCP ㈱プラズマイオンアシスト製 高周波電源 高圧パルス電源 到達真空度 供給ガス 処理サイズ ： 13.56 MHz 750 W パルス幅 20～110μｓ ： +2 ～ -5ｋV 10A 周波数1～2kHz パルス幅 2～10μｓ ： 9.9×10E-5 Pa以下 ： Ar、N2、H2、C2H2、CH4、O2、トルエン、HMDSO ： A４サイズ可 PBIID法の原理 真空容器内で処理品の 周囲に高周波電源により プラズマを発生させます。 次に処理品に負の高圧パルス電圧を 印加することで、プラズマ中のイオンを 引き寄せ、注入と成膜を行います 基盤技術課 材料・機能評価担当 (Tel 075-315-8633) 16 生産環境研究室 Production Analysis Laboratory 熱分析評価システムを備え、各種材料の開発や品質管理に必要な熱特性を把 握することができます。 示差熱・熱重量同時測定装置 示差走査熱量計 Simultaneous thermogravimetry and differential thermal analyzer Differential scanning calorimeter 島津製作所 DSC-60Plus 島津製作所 DTG-60H ●融点温度や樹脂のガラス転移 温度などの測定 温度範囲：-140～600℃ ●材料の酸化や熱分解など温度 変化に伴う熱挙動の測定 温度範囲：室温～1500℃ 熱機械分析装置 熱伝導率測定装置 Thermomechanical analyzer Thermal conductivity measuring apparatus 島津製作所 TMA-60 ネッチ・ジャパン LFA467 ●温度を変化させたときの 材料の機械的特性の評価 測定方式：膨張、引張、針入 温度範囲：室温～1000℃ または-150～600℃ ●キセノンフラッシュ法による材料 の熱伝導率の測定 測定温度範囲：-100～500℃ 基盤技術課 化学・環境担当 (Tel 075-315-8633) 17 環境試験室 Enviromental Testing Laboratory 温湿度サイクル試験装置、冷熱衝撃試験機、耐候性試験機、複合サイクル腐食 試験機など種々の環境試験装置を備え、金属材料や工業材料、自動車部品、携帯 電話等の電気・電子部品などの信頼性試験・性能評価を行っています。 温湿度サイクル試験装置 冷熱衝撃試験機 Composite Temperature/Humidity Cyclic Testing Chamber エスペック(株) ＰＳＬ－２Ｋ Thermal Shock Chamber （主な用途） 温度・湿度を固定あるいは、 可変に 設定しての耐環境試験 （性 能） 温度 ： －70 ～ ＋100 ℃ 湿度 ： 20～ 98 ％ＲＨ 試験室寸法 ： 600×600×850Ｈ mm 競輪補助事業物件 ２６年度導入 超低温恒温器 日立アプライアンス(株) ＥＳ－１０６ＬＨ （主な用途） 急激な温度上昇・下降 環境下での耐環境試験 （性 能） 温度範囲 ： (高) ＋60 ～ ＋200 ℃ (低) －70 ～ 0 ℃ 試験室寸法 ： 470×485×460Ｈ mm 競輪補助事業物件 Compact ultra-low temperature chamber エスペック(株) ＭＣ－８１１Ｐ （主な用途） 温度を固定あるいは可変に設定 しての耐環境試験 ※湿度コントロール不可 （性 能） 温度 ： －85 ～ ＋180 ℃ 試験室寸法 ： 400×400×400Ｈ mm ２５年度導入 ２６年度導入 耐候性評価システム 耐候性評価システム Metal halide weather meter 岩崎電気㈱ SUV-W161 （主な用途） 試料劣化を短時間で促進させる 試験に適用 （性 能） 光源：メタルハライドランプ 最大放射照度：1500W/m2 照射時温度：50～85℃ 照射時湿度：40～70％RH 有効照射面積：190㎜×422㎜ Xenon weather meter 岩崎電気㈱ XER-W75 （主な用途） 規格試験、太陽光と相関性の 良い試験に適用 （性 能 ） 光源：キセノンランプ 最大放射照度：48～180W/m2 照射時温度：50～95℃ 照射時湿度：40～80％RH 有効照射面積：54片(70㎜×150㎜) 基盤技術課 化学・環境担当 材料・機能評価担当 （Ｔel 075-315-8633) 18 複合サイクル腐食試験機 Combined Cyclic Corrosion Test Instrument スガ試験機(株) CYP－90 （主な用 途） 塩水,乾燥,湿潤サイクルに よる腐食促進試験 （性 能） 塩水噴霧：35～50±1℃ (5%中性塩) 乾燥： +10℃～70±1℃ (25±5％r h, 60℃) 湿潤： +10℃～50±1℃ (60～95±5％r h, 50℃) 応用技術課 表面・微細加工担当 （Ｔel 075-315-8634) 食品・バイオ研究室 Food Biology Laboratory 食品加工、保存、発酵、バイオ、各種成分、新規食品開発等、食品・バイオに関連 する技術相談や依頼試験などを行っています。 主に微生物操作関連機器を設置しています。 ２５年度導入 クリーンベンチ 蛍光マイクロプレートリーダー Fluorescence Microplate Reader Clean Bench コロナ電機製 SH-9000Lab 日本医科器械製作所製 VH-1300BHT-2A ●・上方および下方蛍光測定 ・ダブルモノクロメータ方式（200～900nm ） ・測定間隔・測定回数設定可能 ・6～384ウェルプレートに対応 ●無菌操作を行う実験台 W1,300×D614×H680 吸光マイクロプレートリーダー ジャーファーメンター Jar Fermenter Microplate Reader 東京理化器械製 MDF-2000 テカン社製 523-79661 ●微生物の大量培養装置 最大仕込み量：4L ●ELISA等測定に用いる 波長範囲：340～750 nm 応用技術課 食品・バイオ担当 (Tel 075-315-8634) 19 食品・微生物技術開発室／生産環境技術開発室 Biological Engineering Laboratory 当研究室では、食品加工、保存、発酵、バイオ、各種成分、新規食品開発等、食 品・バイオに関連する技術相談や依頼試験などを行っています。 食品用加圧試験装置や凍結乾燥機、噴霧乾燥機などの加工試験機及び乾燥装 置、その他食品の物性測定装置を設置しています。 ２６年度導入 食品用加圧試験装置 凍結乾燥機 噴霧乾燥機 Pressurization Examination Equipment for Food Freeze Dryer Spray Dryer 三菱重工業製 MFP－7000 ●高圧処理食品の試作開発 最高仕様圧力 686MPa 東京理化器械製 FD－1 東京理化器械製 SD－1000 ●食品等の凍結乾燥 トラップ冷却温度 －45℃ 除湿量 4L ●液体食品の噴霧乾燥 水分蒸発量 1500ml/H テクスチュロメータ Texturometer 全研製 GTX－2－IN レオメータ Rheometer ●食品等の物性（そしゃく）測定 そしゃくスピード 6回/分及び 12回/分 不動工業製 NRM2010JCW ●食品等の物性測定 測定荷重 0～98N 応用技術課 食品・バイオ担当 (Tel 075-315-8634) 20 工業材料研究室 Industrial Material Laboratory 医薬品、食品、高分子材料などの分野における研究開発、製造・品質管理に用いられる 粒子径分布測定装置を設置しています。 ２５年度導入 粒子径分布測定装置 レーザー回折式粒度分布測定装置 Laser diffraction-type gradation measuring apparatus Laser diffraction-type gradation measuring apparatus 島津製作所 SALD-2300 島津製作所 SALD-2000A （性 能） 測定原理 ： レーザ回折・散乱法 測定範囲 ： ０．０１７～２５００μｍ （性 能） 測定原理 ： レーザ回折・散乱法 測定範囲 ： ０．０３～７００μｍ 測定方式 ： 多機能サンプラによる測定 （バッチ式回分セル使用時：０．０１７～４００μｍ） 測定方式 ： 回分セルによる測定 （用 途） 本装置は、水や各種溶媒に分散した粒子群にレーザ光を照射し、そこから発せられる回折・散乱 光の強度分布パターンから粉体の粒子径分布を求めます。 電池材料、セラミックス、樹脂、触媒、食品、化粧品、医薬品等の分野における微粒子の粒子径分 布の測定が可能です。 （活用例） 二次電池負極材（カーボンブラック）の評価 カーボンブラックの粒子径分布測定により、 粒子径分布による電極特性の影響や最終製 品の品質管理が可能 基盤技術課 化学・環境担当 (Tel 075-315-8633) 21 デザイ ン研 究 室 Design Laboratory デザイン分野の技術相談、CG(コンピュータグラフィックス)、デジタル映像等、コンテンツ デザインの研究を行っています。動画制作が可能なCGシステム、ハイビジョン中継、3D や4K映像技術、プレスデータ対応のBlu-ray、DVD-Videoシステムなど、業務用機器から 民生機による簡易システムまで、それらを幅広く活用した、技術者育成も実施しています。 コンピュータグラフィックスシステム Computer Graphics System Blu-ray、DVD-Videoオーサリングシステム Blu-ray DVD-Video Authoring System (主な用途) デザイン制作における3Dモデリングや各種 シミュレーションツール、高度な3Dアニメー ション制作支援に使用 (主な用途) Blu-ray、DVD-Video制作におけるエンコー ド、シナリオに基づいたメニュー制作やオー サリング作業、量産用データ制作に使用 (性 能) 表示解像度1280×1024画素(画像はHD出 力可)、同時表示色1670万色、モーションや 内部発生テクスチャ、パーティクルに対応 (性 能) マルチパス DVD-Video用ハードウェアエン コーダー (EN-250) 、ディスク規格フル仕様 に対応した、DLT等プレスデータを出力可 (ソフトウェア) MAYA、ALIAS DESIGN (ソフトウェア) Scenarist (BD Pro Plus、SD Professional) 応用技術課 デザイン担当 (Tel 075-315-8634) 22 企業連携技術開発室 Collaborating Engineering Laboratory 研究開発などに取り組む企業グループと当センターの職員が協働して技術課題の 解決を図っていく「企業連携技術開発支援事業」の活動ベースとなる部屋です。この 部屋を拠点に、当センターが保有する基盤技術や評価技術、研究シーズ、機器や設 備、そして専門職員の知見を活用いただいて研究開発などを推進します。 会議ゾーン Meeting Zone 研究開発などにかかわる会議や ミーティングのためのスペースで す。 交流ゾーン Interact Zone 企業の方や当センター職員との 交流スペースです。研究の際の 談話室などとしても利用できます。 この部屋の利用について 府内の企業連携グループなどで、 当センターの職員と協働して技術課題 の解決を図ろうとする提案を募集し、審査 の上で利用を承認します。利用期間は 原則として１年以内です。 お問い合わせは企画連携課 075-315-8635 までどうぞ。 開発ゾーン Development Zone この他に実際に研究開発などを 進めていくための簡単な実験ス ペースがあります 企画連携課 企画・情報担当 (Tel 075-315-8635) 23 中 丹 技 術 支 援 室 研 究 室 一 覧 機械加工室 試作加工をするための旋盤やフライス盤、振動による製品への影響を調べる 振動試験装置、電磁波の影響を調べるＥＭＣ測定装置を設置しています。 旋盤 テクノワシノ製 LEO-80A （主な用途） 機械部品等の切削加工 （性 能） ベッド上の振り：490mm 往復台上の振り：260mm センター間距離：800mm フライス盤 牧野フライス製作所製 KGJP-55 （主な用途） 機械部品等の切削加工 （性 能） 移動量：X: 550、Y: 250、Z: 350㎜ 主軸回転数：130～2,200rpm（8段切替） 振動試験機 エミック製 F-16000BDH/LA16AW （主な用途） 製品等の振動試験 （性 能） 加振力：16.0ｋＮ 最大変位：56mm 振動数範囲：3～2,000Hz （加振テーブル等により変動） 中丹技術支援室 (Tel 0773-43-4340) 24 材料物性評価室 材料の強度や硬さを調べる試験機、環境変化による安定性を調べる試験機、 測定や観察用に試料を調製する試料作製装置等を設置しています。 万能材料試験機（250ｋN） 島津製作所製 AG-250kNIS MO （主な用途） 材料強度試験（引張、圧縮、曲げ、荷重） （性 能） 最大荷重：250ｋN 温湿度サイクル試験装置（800Ｌ） エスペック製 PL-4K/P計装 （主な用途） 温度・湿度を固定あるいは可変しての耐環境試験 （性 能）温度：-40℃～+100℃ 湿度：20％～98％ 試験室寸法： 1,000×800×1,000mm ロックウェル硬さ試験機 ミツトヨ製 ARK-600 （主な用途） ロックウェル硬さの測定 （性 能） デジタル表示 自動（負荷、保持、除荷） 中丹技術支援室 (Tel 0773-43-4340) 25 測定・計測室 加工品の形状などを正確に計測するＣＮＣ三次元測定機、表面粗さ・輪郭形状 測定機、真円度・円筒形状測定機を設置しています。 CNC三次元測定機 ミツトヨ製 Crysta-Apex C9166 （主な用途） 複雑形状部品の精密計測 （性 能） 測定範囲：X：905mm、Y：1,605mm、Z：600mm 指示誤差：（1.7+4L/1,000）μm （L：測定長さ） 表面粗さ・輪郭形状測定機 ミツトヨ製 SV-C 4000 CNC （主な用途） 精密部品等の表面粗さ・輪郭形状の測定 （性 能） 測定範囲：X：200㎜、Y：200㎜ Z：0.8mm（表面粗さ） Z：50mm（輪郭形状） 分解能：0.05μm（輪郭形状） 真円度・円筒形状測定機 ミツトヨ製 RA-H 5100 CNC （主な用途） 精密部品等の真円度・円筒度測定 （性 能） 回転精度：（0.02＋4H/10,000）μm(H：測定高さ） 最大測定径：φ356mm 最大測定高さ：550㎜ 中丹技術支援室 (Tel 0773-43-4340) 26 研究・解析棟１階 品質管理や研究開発に有効なＸ線分析装置類、熱分析装置、各種表面観察用 顕微鏡、人工気象室及び試作加工機などが設置されています。 走査電子顕微鏡（分析機能付） 日本電子製 JSM-6390LA （主な用途） 各種試料の表面観察及び元素分析 （性 能） 分解能：3.0mm（高真空モード） 4.0mm(低真空モード） 倍率：5～300,000倍 加速電圧：0.5～30ｋV エネルギー分散型検出器 検出元素：Ｂ～Ｕ 蛍光X線分析装置 島津製作所製 ＥDＸ-900HS （主な用途） 各種材料中元素の定性分析、定量分析 （性 能） エネルギー分散型検出器 検出元素：Na～U 最小X線照射径：φ1mm 核磁気共鳴分光装置（NMR） 日本電子製 JNM-ECX400P （主な用途） 有機化合物の詳細な化学構造解析 （性 能） 磁場強度： 9.39T(400MHz) 測定核種： 1H、13C、19F、31P～15N 中丹技術支援室 (Tel 0773-43-4340) 27 研究・解析棟２階 有機材料系の分析を行うフーリエ変換赤外分光光度計などの各種 分光分析 装置やガスクロマトグラフ質量分析装置、液体クロマトグラフ などのクロマト分析 装置の他、化学系実験室を設置しています 。 フーリエ変換赤外分光光度計 （赤外顕微鏡付） 島津製作所製 IRPrestige-21 AIM-8800 （主な用途） 有機化合物の同定、分子構造の解析 （性 能） 検出器：DLATGS検出器 波長範囲：7,800～350cm－１ 分解能：0.5cm－１ ガスクロマトグラフ質量分析装置 島津製作所製 GCMS-QP2010Ｐlus （主な用途） 微量有機化合物等の定性及び定量分析 （性 能） 質量範囲：M/Z 1.5～1,090 イオン化方式：EI 熱分解炉付属 分解能：Ｒ≧2Ｍ（ＦＷＨＭ） 液体クロマトグラフ 島津製作所製 Prominence （主な用途） 微量有機化合物等の定性及び定量分析 （性 能） 低圧グラジエントタイプ 検出器：紫外可視光、蛍光、屈折 中丹技術支援室 (Tel 0773-43-4340) 28 依頼試験手数料・機械器具貸付料 ◆料金体系 ○依頼試験等の申込みを行う事業所の所在地 京都府内 １） 中小企業 京都府内 中小企業以外 基本額から ２割減額 ２） ３） 関西広域連合域内 その他の都道府県 基本額 基本額 基本額の ５割増し ただし、京都府内に本社（主たる事務所又は事業所）がある場合は、京都府内 事業所からの申込みとして取り扱います。 例 ： 本社が京都府内にある場合、滋賀県の工場からの申込みでも、 京都府内の事業所からの申込みとして取り扱います。 中小企業であれば、料金は基本額から２割減額になります。 １） 京都府内中小企業 京都府内中小企業の基本額から２割減額の料金は、平成２８年度までの限定措置です。 「中小企業」とは、「中小企業の新たな事業活動の促進に関する法律」 第２条第１項に規定する中小企業のことをいいます。 →製造業の場合 資本金の額３億円以下又は従業員数３００人以下 ２） 関西広域連合域内企業 京都府外の企業については、基本額の５割増しの料金に設定しておりますが、関西広域 連合域内企業は、割増料金なしの基本額でご利用いただけます。 対象 ： 滋賀県、大阪府、兵庫県、和歌山県、鳥取県、徳島県の企業 ３） その他の都道府県 その他の都道府県については、基本額の５割増しの料金に設定しておりますが、下記の 試験等については、国から貸付けを受けた機器を使用しているため、割増料金なしの基 本額でご利用いただけます。 対象依頼試験 ： ラマン分光（分光分析）、マイクロフォーカスX線ＣＴ（非破壊試験） 対象貸付機器 ： レーザーラマン顕微鏡、マイクロフォーカスX線ＣＴ 29 主な依頼試験等の手数料一覧 区分 項目 分析 大分類 化学分析 中分類 食品 単位 小分類 水分 2,000 灰分 2,000 粗たんぱく １成分 粗脂肪 その他 分析 分光分析 クロマト分析 3,500 定量 3,500 定性 ラマン分析 定性 蛍光測定 定性 ＩＣＰ発光分光 定量 液体クロマトグラフ 通常分析 顕微分析 １件 １成分 2,500 １件 2,000 定性 4,500 定量 11,300 定性 6,000 定量 １件 9,200 5,300 定量 6,900 5,000 原子番号20未満 １件 原子番号20以上 蛍光X線 金属材料 定量 その他 残留応力測定 1成分 １件 定性 １件 熱伝導率 1成分 線分析 写真焼増し 1枚 成分増し 1成分 点分析 定性 １件 スペクトル分析 深さ方向分析加算（ガスクラス ターイオン銃） オージェ電子像成分増し 表面分析 深さ分析加算 30 300 2,000 16,000 13,000 1時間ごとに 22,000 １件 オージェ電子像加算 走査型プローブ顕微鏡試験 10,000 10,000 スペクトル分析 深さ分析加算 10,000 10,000 １件 面分析加算 グロー放電発光分析 5,000 27,000 深さ方向分析加算（イオン銃） オージェ電子分光分析 5,000 6,000 Ｘ線像 表面分析 9,300 11,000 熱膨張 分析 3,500 5,000 熱機械 Ｘ線光電子分光分析 2,500 5,000 示差走査熱量 微小X線分析 4,000 4,000 熱重量 熱分析 7,000 定性 示差熱 他府県割増適用外 2,000 定性 分析 7,000 6,200 Ｘ線回折 Ｘ線分析 5,000 液体クロマトグラフ質量分析 定性 イオンクロマトグラフ 分析 2,500 定性 色差測定 分析 2,500 2,500 赤外分光 ガスクロマトグラフ 備考 2,500 金属・その他 顕微紫外・可視・近赤外分光 基本額 単価 （円） 11,000 11,000 １成分 5,500 １件 5,800 1件 3,800 7,500 区分 項目 大分類 中分類 単位 小分類 基本額 単価 （円） 備考 1,500 引張 耐力加算 750 恒温槽仕様 抗折 1,500 衝撃 1,500 圧縮 曲げ 材料試験 強度試験 3,000 1,500 恒温槽仕様 3,000 1,500 恒温槽仕様 １件 エリクセン 荷重 1,500 2,500 恒温槽仕様 4,100 疲れ ねじり 3,000 3,500 24時間ごとに 1,500 恒温槽仕様 3,000 9,700 1試料1時間まで 時間加算 疲労 恒温槽仕様 ブリネル ロックウェル 材料試験 硬さ試験 ビッカース 4,800 時間加算 5,800 1,200 1,500 硬さ分布加算 １件 硬さ分布加算 9,200 動摩擦摩耗試験 １件 往復運動式 顕微鏡 １件 マクロ １件 視野増し Ｘ線透過 材料試験 非破壊試験 定性 工業用 １枚 テレビ観察 真直度 内・外径 形状測定 輪郭形状 8,000 1,200 3,500 8,000 １件 1,200 １ｍ未満 2,000 三次元測定 他府県割増適用外 2,900 11,000 50ラインまで 測定ライン加算 2,200 10ラインごとに 5,200 １断面単位 二次元解析 三次元解析 １件 測定ライン加算 4,000 11,000 50ラインまで 2,200 10ラインごとに 真円度 2,000 平面度 3,100 円筒度 3,200 歯車測定 1測定ごとに 1,200 その他 数値データ 精密測定 3,000 1,200 二次元測定 表面粗さ 3,000 1,800 １件 角度測定 長さ測定 4,000 10,000 マイクロフォーカスX線ＣＴ 精密測定 寸法測定 4,000 8,000 反射電子観察 元素分析 2,000 700 二次電子観察 材料試験 電子顕微鏡試験 1,200 1,200 ナノインデンテーション試験 材料試験 金属組織試験 1時間まで毎に加算 1,500 硬さ分布加算 精密引かき 材料試験 摩耗試験 1時間まで毎に加算 11,000 1試料1時間まで 5,200 歯数50枚まで 歯数加算 1,000 10枚ごとに 31 区分 項目 大分類 中分類 小分類 単位 絶縁抵抗測定 オシログラフ波形観測 電気試験 電気試験 500MHZ未満 インピーダンスゲインフェイズ測定 1,500 １件 300 入力インパルス雑音試験 3,200 2時間ごとに シールド材特性試験 4,200 1測定ごとに 静電気放電測定 1,500 サージイミュニティ試験 2,500 2時間ごとに 2,500 ファーストトランジェントバースト試験 伝導性雑音電磁界測定 放射性雑音電磁界測定 13,000 1ＧＨzまで １件 12,000 伝導性電磁界イミュニティ試験 放射性電磁界イミュニティ試験 1ＧＨzまで 10,000 1ＧＨzから2.5ＧＨz 11,000 低周波エミッション測定 10,000 低周波イミュニティ試験 10,000 光コンポーネント測定 １件 光オシロスコープ測定 光・マイクロ波・ミ 光スペクトラム測定 電気試験 リ波測定 全光束測定 配光測定 温湿度組合せ試験（大型） 温湿度組合せ試験（８００Ｌ） 温湿度組合せ試験（３００Ｌ） 温度組合せ試験（６０Ｌ） 冷熱衝撃試験 腐食試験（塩水噴霧） 6,000 2,100 1,000 大型積分球使用 小型積分球使用 可視光 １件 １件 近赤外光 5,700 時間超過 5,100 6,700 6,500 6,700 1時間ごとに 2,900 2時間まで 時間超過 １件 時間超過 1,200 1時間ごとに 2,800 2時間まで 1,200 1時間ごとに 1,200 2時間まで 時間超過 500 1時間ごとに 2,100 2時間まで 時間超過 850 1時間ごとに 2,000 24時間まで 時間超過 １件 650 24時間ごとに 900 1時間ごとに キセノン耐候性試験 1,900 メタルハライド耐候性試験 1,800 1層 電解法によるめっきの厚さ測定 1,000 金属顕微鏡によるめっきの厚さ測定 3,000 電磁法による膜厚測定 1,000 渦電流法による膜厚測定 1,000 蛍光X線による膜厚測定 ハンダ濡れ測定 1測定ごとに 15,000 2時間まで 腐食試験（複合サイクル） 耐侯性試験 1測定ごとに 5,500 マイクロ波・ミリ波ネットワーク測定 その他 理化学試験 14,000 16,000 1ＧＨzから6ＧＨz 環境試験 200 1,100 3,000 低抵抗率測定 その他 備考 1,500 500MHZ以上 広範囲インピーダンス測定 電気試験 EMC測定 基本額 単価 （円） 2,000 ソルダチェッカー 熱特性の測定 １件 2,000 4,000 水分特性の測定 4,500 レーザ回折式粒度分布測定 5,000 粒子径分布測定（バッチ式セル測定） 1,900 薄膜付着強度試験 3,000 32 1時間ごとに 区分 項目 大分類 その他 微生物試験 中分類 単位 小分類 培養 １件 食品物性測定 レオメーターによる測定 １件 食品水分活性の測定 食品乾燥試験 その他 食品加工試験 450g以下 １件 １件 温度測定 １件 エネルギー測定 試料調整 画像増し 1画像 データ入力 試料埋込み その他 積層造形 その他 その他 CNC三次元測定 ビデオプリンタ像 1,500 測点10箇所以 内で8時間以内 700 1,100 １件 試料切断 その他 1,100 5,000 オープナ類による加工 その他 3,700 3,700 食品加圧試験 熱画像測定 1,500 3,700 凍結乾燥試験 その他 その他 2,500 1,000 噴霧乾燥試験 その他 備考 1,500 テクスチュロメーターによる測定 その他 基本額 単価 （円） 1,000 1,000 入力点数増し １件 3,200 50点まで 600 10点ごとに １件 7,500 1時間ごとに 一般視野 １件 1,400 視野増し １視野 600 成分増し １成分 600 焼き増し １枚 300 33 主 な 貸 付 機 器 一 覧（本所） ＜精密測定検査用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 ＣＮＣ三次元座標測定機 接触式測定 曲面微細 形状測定 システム 非接触式測定 商 品 名 メ ー カ名 Hexagon Leitz Metrology PMM-C 12.10.7 GmbH 仕 様 測定範囲：Ｘ＝1200mm､ Ｙ＝1000mm､Ｚ＝700mm 空間精度： MPEＥ＝(0.6＋Ｌ/800) μ m 〔Ｌ:測定長さmm〕 ﾌﾟﾛｰﾋﾞﾝｸﾞ精度： MPEＰ＝0.6μ m ｽｷｬﾆﾝｸﾞ精度： MPEＴＨＰ ＝1.5μ m/45秒 測定範囲：Ｘ＝120mm、 ア メ テ ッ クス フ ォ ー ム タリ Ｙ＝100mm、Ｚ＝12.5mm ( 株) テ ー ラー サーフ 測定分解能：0.8nm（Ｚ方向） ホブ ソ ン事業 PGI 1200 測定高さ：最大450mm 部 システムノイズ：2nm(Rq)以下 VR-3200 精密真円度・円筒形状測定 タリロンド 595 機 キーエンス 設置 年度 担 当 2011 基盤技術課 2014 画像測定機 Smart Scope Vantage 600 ＯＧＰ 測定範囲：Ｘ＝450mm、 Ｙ＝610mm、Ｚ＝300mm 測定精度： Ｕ２＝（1.5＋4Ｌ/1000）μ m 〔Ｌ:測定長さmm〕 画像プローブ、レーザプローブ 、接触式 プローブ 投影機 VS-300 神港精機 測定倍率：100倍、50倍、 20倍、10倍、5倍 作動範囲：100mm×50mm 用 途 依頼試験 複 雑 形 状 部品 のみ の精密計測 4,400 表面粗さ･ 輪郭 形状の測定 1,100 表面粗さ･ 輪郭 形状の測定 基盤技術課 観察測定範囲：24×18mm ～1.9×1.4mm(連結可能) 電動XYｽﾃｰｼﾞ：184mm×88mm 測定範囲：直径 ～350mm 高さ ～500mm 回転精度： ア メ テ ッ クス (0.01＋3Ｈ/10000) μ m ( 株) テ ー ラー 〔Ｈ:測定高さmm〕 ホブ ソ ン事業 分解能： 部 0.008μ m/±1mm範囲 0.0003μ m/±0.04mm範囲 積載荷重：40kg 基本額 ( 円) 2013 基盤技術課 5,500 精 密 部 品 の真 円度・真直度測 定 2007 基盤技術課 4,400 精 密 部 品 の光 学測定 1989 基盤技術課 250 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 光学形状測定 ＜材料試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 万能材料試験機 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 1122型 インストロン 最大荷重：5kN 1983 基盤技術課 1,500 UCT-25 オリエンテッ ク 最大荷重：250kN 1989 基盤技術課 1,900 UH-1000kNI 島津製作所 最大荷重：1000kN 2010 基盤技術課 3,000 2014 基盤技術課 万能材料試験機 E10000LT インストロン 恒温槽仕様 引張／圧縮 ±10ｋN ねじり ±100Nm 4,800 恒温槽 -30～200℃ 5,800 用 途 材料強度試験 (引張、圧縮、曲 げ、荷重) 材料強度試験 (引張、圧縮、荷 重) 材料の疲労強 度試験 部品の耐久性 評価 計装化シャルピー衝撃試験 CHARPAC 機 米倉製作所 49N・m 1996 基盤技術課 450 材料の靱性測 定 ナノインデンテーション試験 ENT-2100 機 エリオニクス 荷重範囲：5μ N～100ｍN 変位計測範囲：～50μ m 試料サイズ：直径50mm、厚さ10mm以 下 2013 基盤技術課 1,800 蒸着、塗装、 めっき、DLC等 薄膜の硬さ、物 性評価 34 ＜材料試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 マイクロビッカース硬さ試験 HMV2000AD 機 島津製作所 試験荷重：0.049～19．6N 1997 基盤技術課 250 金属の微小部 硬さ測定 デジタルロックウェル硬さ試 ARD型 験機 アカシ 圧子(ダイヤモンド・超硬球) 1980 基盤技術課 200 ロックウェル硬 さの測定 2012 基盤技術課 3,800 X線透過法によ る工業材料の 内部欠陥など の非破壊検査 2014 応用技術課 4,000 ※他府県割増適用外 東芝IT TOSCANCSRコントロール 32300μ FD システム X線発生器：電圧230kV/焦点サイズ：4 μ ｍ 検出器：8インチフラットパネルディテク タ 搭載可能サイズ： φ 320×H300mm/15kg 最大スキャンエリア：φ 260×300mm マイクロフォー カスX線ＣＴ試験 X線応力解析装置 MSF-2M 理学電機 2θ 測角範囲140゜～170゜ 1989 基盤技術課 1,500 金属材料の残 留応力測定 熱膨張記録計 DL-7000H 真空理工 高温型、赤外線イメージ炉 1989 基盤技術課 900 材料の熱膨張 測定 広範囲荷重摩耗試験機 NUS-ISO-3 スガ試験機 荷重範囲0．98～29.42N、面積30× 12mm 1994 応用技術課 100 往復運動方式 による摩耗試験 回転動摩擦摩耗試験機 TRＩ-S-500NP 高千穂精機 回転数30～3000rpm、 押付力 200～5000N ドライ、ウェット 1999 基盤技術課 1,000 摩擦、摩耗物性 の評価 ロペット 15kW 1975 基盤技術課 350 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 薄膜作成 工業用X線透視装置 マイクロフォーカスX線ＣＴ SMX‐3500M‐ SP エレマ電気炉 島津メクテム 出力150kV,3mA 金属の加熱 ＜電気試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 途 EBH-6 日本真空技 術 真空排気装置：DP、加熱源：抵抗加熱、 試料：固定式10CM角まで 1981 応用技術課 650 サンプリングオシロスコ－プ 86100D （86100D） アジレントテ クノロジー 測定範囲 光：DC～65GHz 電気：DC～ 80GHz 2013 応用技術課 2,300 光・マイクロ波 の線路評価 アジレントテ クノロジー ・測定周波数範囲 0.01～26.5GHz ・4ポートSパラメータ測定 ・光ポート 波長1310nm、1550nm との併用によるO/E,EO周波数特性 5,500 マイクロ波帯で の周波数特性 評価、光デバイ スの周波数特 性評価 駿河精機 ・光デバイスと入・受光ファイバ-のXYZ 軸と、光軸方向の入射角θ zの4軸自動 調芯機能 ・光デバイスと入・受光ファイバ-のΘ X、 Θ Yの手動2軸微調芯機能 ・調芯位置 の変位 ・時間変動に対する受光量モニタ機能 ・調芯精度 XYZ軸：0.1mM、入射角Θ X Θ YΘ Z：0.1度 ・UV樹脂によるデバイスと光ファイバの 固定機能 1,000 光導波路デバ イスとファイ バー等の光軸 調整 真空蒸着装置 光コンポーネントアナライザ N4375D システム(N4375D) 光デバイス用自動光軸調 整装置 U4224 35 2013 1998 応用技術課 応用技術課 ＜電気試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) ・試料径 4インチまで ・表面あらさ 最 大 0.2nm(平均)程度 ・平坦度 最大 1/10Λ (直径3インチウ エハ時)程度 ・平行度 最大 2秒角(2/3600度)程度 1998 応用技術課 1,100 光導波路デバ イスの導波路と 電極パターンの 作成 ・試料径 3インチまで ・表面あらさ 最 大 0.2nm(平均)程度 1超精密ラッピン ・平坦度 最大 1/10Λ (直径3インチウ グポリシング装 エハ時)程度 置(PM5MA-20K 丸本ストルア ・取り付け可能資料大きさ 25mm× 型) 2ダイヤ ル 10mm～20mm×6mm モンドデスクソ・端面研磨確度調整範囲 ±3.0° (モデル15) ・切断可能試料径 3インチまで ・切断可能試料厚み 最大 50mm程度 1998 応用技術課 1,200 ウエハ表面と光 ファイバ端面の 研磨 8,600 マイクロ波・ミリ 波帯域での周 波数特性評価、 アンテナ指向特 性評価、材料特 性評価 商 品 名 高精度マスクアライメント装 MA-20K型 置 超精密研磨機 ベクトルネットワークアナラ イザ(ME7838A) 光スペクトラムアナライザ （AQ6370C(Z)） メ ー カ名 ミカサ 仕 様 ・測定周波数範囲 70kHz～110GHz ・2ポートSパラメータ測定 ・アンテナ近傍界測定／遠方界変換評 価（18～110GHz） ・フリースペース法による透過／反射特 性、誘電率／複素誘電率測定、透磁率 ／複素透磁率測定 応用技術課 途 ME7838A アンリツ AQ6370C(Z) 横河メータ＆ インスツルメ ・測定波長範囲 600～1,700nm ンツ 2013 応用技術課 600 発光スペクトル 測定評価、光透 過波長特性評 価 アジレントテ クノロジー 測定周波数範囲 9kHz～3GHz 2013 応用技術課 500 電磁波のスペク トル測定評価 1996 応用技術課 1,800 あらゆる物体の 表面温度分布 状況の測定 電磁波シールド特性測定シ N9000A ステム（N9000A） 2013 用 赤外線熱画像装置 TVS-200MkⅡ ST 日本アビオニ 温度測定範囲：-20℃～2000℃ クス 低抵抗率計 ロレスターＧＰ ＭＰＶ－Ｔ６１０ 三菱化学ア ナリテック 測定範囲：９．９９９×１０-13～９．９９９ ×１０７Ω 測定範囲：直流４深針法 2011 応用技術課 150 電磁波シールド 材などの抵抗 材料の評価 ミックスドシグナルオシロス ＭＳ０７０８０４ コープ テクトロニス 測定周波数帯域： 8GHz まで 2014 応用技術課 1,500 アナログ・デジタ ルの電気信号 波形の観測 オシロスコープ テクトロニス 測定周波数帯域： 500MHz まで 2014 応用技術課 200 アナログ電気波 形（対時間又は 周波数）の観測 ＭＤ０３０５４ 大型積分球使 用 φ 76インチ（約2m)積分球 5,700 照明器具の全 光束測定 小型積分球使 用 φ 10インチ（約25cm)積分球 5,100 発光デバイスの 全光束測定 光学特性 評価シス テム ＳＲ８－ＬＥＤ システムロー ド社 2015 応用技術課 可視光配光ユ ニット使用 波長範囲：380nm～780nm 5,300 光源の可視光 域の配光測定 近赤外光配光 ユニット使用 波長範囲：900nm～2500nm 5,100 光源の可視光 域の配光測定 近赤外域の配 光測定 36 ＜顕微鏡及び試料作製装置＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 倒立型金属顕微鏡 商 品 名 GX51/DP72 メ ー カ名 JSM-7100F モニタリングシステム JSM-6701F KH-2200 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 2010 基盤技術課 850 用 途 ×50～×1000 明・暗視野、簡易偏光、微分干渉 黒鉛球状化率測定 日本電子 電子銃：ショットキー電界放出型電子銃 二次電子像分解能：1.2nm（30kV）、 3.0nm（1kV） 表示倍率：×10～1,000,000 加速電圧：0.2kV～30kV 元素分析(EDS)：検出元素（Be～U）、定 性･定量･マッピング機能 2014 日本電子 電子銃：冷陰極電界放出形電子銃 二次電子像分解能：1nm（15kV）、2.2nm （1kV）反射電子像分解能：3nm（15kV） 倍率：25～650,000倍 加速電圧：0.5～30kV 2006 基盤技術課 3,300 各種材料の微 細構造の高倍 率観察 ビジネスリン クス 撮影素子：H570×V485・解像度：H360 本以上、V350本以上・S/N：46DB・色温 度：3100°K(MAX)・カラービデオプリン ター：プリント方式；昇華熱転写型・プリ ント画素数；720×468・プリント階調；3原 色256 1990 応用技術課 500 光軸可変実体 観察 2002 応用技術課 4,600 平坦表面の形 状観察 2009 応用技術課 3,700 微細部品の非 接触での形状 観察・評価 2014 基盤技術課 1,000 分析試料の前 加工 観察＋元素分 析 走査電子顕微鏡 様 オリンパス 観察のみ 分析型走 査電子顕 微鏡 仕 4,300 基盤技術課 金属組織の観 察 各種材料の微 細構造の高倍 率観察及び元 素分析 5,500 コンタクトモード及びダイナミックモード による原子間力顕微鏡観察 走査型プローブ顕微鏡 SPM-9500J2 島津製作所 最大走査範囲（X,Y） 30μ m×30μ m 最大測定範囲（Z) 5μ m 試料最大形状 φ 24mm×8mm レーザプローブ式非接触三 ＮＨ-３SＰ 次元測定装置 三鷹光器 測定範囲 X，Y:150mm,Z:10mm 測定分解能 X，Y:0.01μ ｍ,Z:0.001μ ｍ 測定精度 X，Y:0.5+2.5Ｌ/1000 μ ｍ, Z:0.1+0.3Ｌ/10 μ ｍ Ｌは測定長さ（ｍｍ） 精密ダイヤモンドバンドソー BS-300CL メイワフォー シス バンド厚さ：200μ m 37 ＜分析用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 蛍光X線分析装置 ZSXPrimusⅡ 理学電機工 業 X線回折装置 仕 様 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 波長分散型 分析元素：B～U、最大試料装填数：48、 最大試料サイズ：50mm φ ×30mm(H) 2004 基盤技術課 5,300 工業材料中の 元素の定性分 析及び定量分 析 RINT-UltimaⅢ リガク 最大連続負荷：3ｋW(Cｕ管球)、最大測 角範囲：-3゜～154゜(2θ )、薄膜回折：微 小部、極点図、小角散乱 2004 応用技術課 3,900 工業材料の結 晶解析 炭素硫黄分析装置 CS-844 高周波誘導加熱-酸素気流中燃焼-赤 外線吸収検知方式 測定範囲(試料：1g時)：炭素：0．6ppm～ 6％、 硫黄：0．6ppm～6％ 2011 基盤技術課 2,500 金属材料中の 炭素及び硫黄 の定量分析 ICP発光分光分析装置 エスアイアイ・ 高周波出力：1.6kw(最大） SPS3100(24HV ナノテクノロ 周波数：27.12MHZ UV) ジー は超測定範囲：130～770nm 2008 金属等に含ま 依頼試験 れる元素の定 基盤技術課 のみ 性分析、定量分 析 2008 基盤技術課 2,600 有機化合物の 定性・定量分析 2013 応用技術課 2,000 有機・無機化合 物の定性分析 2014 応用技術課 3,500 材料の微少部 位の分光分析 2013 基盤技術課 600 液体、粉体、 フィルム等の蛍 光測定 フーリエ変換赤外分光光度 ＩＲＰｒｅｓｔｉｇｅ－ 計 21 LECO 島津製作所 分解能：0．5cm-1 スペクトル波数：7800～350cm-1 励起レーザー(532㎜,785㎜） レーザーラマン顕微鏡 ※他府県割増適用外 ライン照明,ポイント照明 電動Ｘ，Ｙ，Ｚステージ 回折格子:300,600,1200gr/㎜ 顕微紫外可視近赤外分光 光度計 測定 ： 透過測定、反射測定 波長範囲 ：200～2700nm カセグレイン鏡 ： 16倍、32倍 対物レンズ ： 10倍、20倍、50倍 ＲＡＭＡＮ touch ナノフォトン 分光蛍光光度計 MSV-5200 DGK 日本分光 F-7000 光源：150Wキセノンランプ 測定波長範囲: 日立ハイテク 200～750nm及び0次光 ノロジーズ 感度：S/N800以上（RMS） S/N250以上（Peak to Peak） コロナ電機 上方および下方蛍光測定 ダブルモノクロメータ方式（200～ 900nm） 測定間隔・測定回数設定可能 6～384ウェルプレートに対応 2013 応用技術課 800 マイクロプレー ト上の液体サン プルの蛍光測 定 SQ2000 日本電色工 業 反射及び透過測定 表色系：LAB系、 L*A*B*系他 2001 基盤技術課 300 材料、塗装面等 の色度の測定 ガスクロマトグラフ GC-1７Ａ 島津製作所 キャピラリーカラム専用タイプ 検出器：水素炎イオン化検出器 － 応用技術課 550 食品中の香気 成分等の分析 液体クロマトグラフ Prominence 島津製作所 高圧、グラジエントタイプ 検出器：紫外 可視、蛍光 2005 応用技術課 900 食品中のアミノ 酸等の分析 4,800 食品等に含ま れる成分の組 成式（元素組 成）の推定と同 定 950 ポリマーや金属 表面の残留汚 染物質又はイオ ン成分の分析 蛍光マイクロプレートリー ダー SH-9000Lab 測色色差計 飛行時間型液体クロマトグ ブルカー・ダ ラフ質量分析装置（LCmicrOTOF２-kp ルトニクス TOF/MS） イオン分析計 イオン化法：ESI 質量範囲：50 ～ 20,000 m/z 質量分解能：16,500 FWHM サーモフィッ 陰・陽イオン分析用カラム付け替え方式 Ｄｉｏｎｅｘ ＩＣＳ－ シャーサイエ 検出器：電気伝導度検出器（サプレッサ １１００ ンティフィック 方式） 38 2011 2014 応用技術課 応用技術課 ＜分析用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 WDS又はＥＤＳ 電子線マ WDS及びＥＤＳ イクロアナ JXA-8200 ライザ WDS（カラー （EPMA) マッピングを含 む。） 日本電子 全仕様 全仕様 FEオー ジェ電子 PHI-700 分光分析 装置 イオン銃不使用 アルバック・ ファイ PHI5000 VersaProbe2 電子銃：LaB6、Wﾌｨﾗﾒﾝﾄ 加速電圧：0.2～30KV 2次電子像分解能：5nm 走査倍率：40～300，000倍 最大試料寸法：100×100× 50mm 波長分散法(WDS) 分光器数：5基 検出元素：B～U エネルギ－分散法(EDS) ｴﾈﾙｷﾞｰ分解能：133eV以下 検出元素：B～U フィールドエミッション電子銃、 同軸円筒型電子分光器（CMA)、 中和機能付きアルゴンイオン銃、 アコースティックエンクロージャ搭載 設置 年度 担 当 基本額 (円 ) 用 途 5,100 5,700 2005 材料の微小部 分析 基盤技術課 6,400 7,100 11,000 2009 各種材料の微 小部表面分析 応用技術課 8,000 2014 堀場製作所 測定元素： ポリクロメーター （H,Li,B,C,N,O,Na,Mg,Al,Si,P,S,Cl,Ar,K,Ca, Ti,V,Cr,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Mo,Ag,In,Sn,W,Au, Pb) モノクロメーター（H～U、１元素） 測定エリア：4mmφ （標準）、2mmφ 、 7mmφ 試料サイズ：10mm角 深さ分解能：数nm 測定深さ：数nm～100μ m（最大） 2014 基盤技術課 7,500 アルバック・ ファイ ガスクラスター イオン銃 グロー放電発光分析装置 GD Profiler２ 様 X線源 : モノクロメータ（Alアノード）、 デュアルアノード（Mg/Al） X線ビーム径 : φ 10～200μ m X線スキャン範囲 : □1.4ｍｍ×1.4ｍｍ Arイオン銃加速電圧 : 0.2～5kV Arガスクラスターイオン銃加速電圧 : 1 ～20 kV 最大試料サイズ : φ 60mm(高さ8mm)以 下 イオン銃 X線光電 子分光分 析装置 仕 10,000 応用技術課 固体表面微小 部（200μ mφ 範 囲）の元素組成 及び化学結合 状態分析 13,000 各種材料の元 素の深さ方向分 析 粒子径分布測定装置 SALD-2300 島津製作所 測定原理：レーザ回折式 バッチ式回分セル方式 2013 基盤技術課 550 粉体の粒度分 布特性の測定 示差熱・熱重量測定装置 DTG-60H 島津製作所 温度範囲：室温～1500℃ 質量測定範囲：±500mg 示差熱測定範囲：±1000μ V 2014 基盤技術課 650 材料の示差熱・ 熱重量の測定 示差走査熱量計 DSC-60Plus 島津製作所 温度範囲：-140～600℃ 熱流量検出範囲：±150mW 2014 基盤技術課 850 材料の示差走 査熱量の測定 熱機械分析装置 TMA-60 島津製作所 温度範囲：室温～1000℃（膨張測定時） -150～600℃（冷却用加熱炉使用時） 試料寸法：直径8×20mm以下 試料への荷重：0～±5N 2014 基盤技術課 1,100 材料の熱機械 特性の測定 熱伝導率測定装置 LFA467 温度範囲：-100～500℃ ネッチ・ジャパ 熱拡散率測定範囲：0.01×1000m㎡/S ン 熱伝導率測定範囲：<0.1～2000W/(mK) 2014 基盤技術課 2,100 材料の熱伝導 率の測定 自動ボンベ熱量計 1013-H 吉田製作所 1989 応用技術課 300 カロリー（熱量） 測定 測定範囲：1000～8000cal ボンブ：18-8ステンレス（SUS304） 39 ＜表面処理・環境試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 蛍光X線膜厚計 商 品 名 EA6000VX メ ー カ名 仕 様 ・ 測 定 元 素 ： （ 原 子 番 号 11 ） ～U（原子番号92） ・線源 ： Rhターゲット 管電圧最大 50kV 管電流最大 1000μ A ・検出器 ： マルチカソードSi半導体 日立ハイテク 検出器 サイエンス ・測定領域 ： 0.2、0.5、1.2．1.3mm口 ・測定機能 ： 検量線ﾓｰﾄﾞによる単 層、二層、 合金膜厚測 定薄膜FPモードによる 最大４層の膜厚測定 ・試料サイズ ： 250mm（奥行）× 580mm （幅）×730mm（高さ） 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 2014 応用技術課 2,000 めっき等金属皮 膜の厚さ測定 2014 応用技術課 3,000 薄 膜 付 着 強度 試験 250 材 料 の 耐 食性 評価、湿式製膜 特性評価 用 途 表面物性試験装置 CSR-2000 レスカ JIS R-3255に準拠した マイクロスクラッチ法による測定 印加荷重範囲 ： 1mNから1N 圧子励振振動数 ： 45Hz 圧子励振振幅 ： 5・10・20・40・50・ 80・100μ ｍ 圧子形状 ： R5・15・25・50・100μ ｍ ポテンショスタット HZ-5000 北斗電工 最大出力電圧±30V 最大出力電流±1A 2008 応用技術課 塩水噴霧試験機 ST-ISO-3 スガ試験機 試験槽内温度：35±2℃ 腐食液：5％食塩水 1989 応用技術課 依頼試験 塩水による錆発 のみ 生試験 スガ試験機 塩水噴霧：35～50±1℃ 5%中性塩 乾燥：外気＋10～70±1℃(25±5％ｒｈ (60℃)) 湿潤：外気＋10～50±1℃(60～ 95± 5％ｒｈ(50℃)) 2013 応用技術課 依頼試験 材 料 の 腐 食環 のみ 境試験 複合サイクル腐食試験機 CYP-90 最大放射照度：48～180W/m2 照射時温度：50～95℃ 照射時湿度：40～80％RH 有効照射面積：54片(70㎜×150㎜) XER-W75 耐候性評価システム 岩崎電気 温湿度サイクル試験装置 MC-811P PSL-2K エスペック エスペック 温度：-85℃～＋180℃ 温度：-70℃～＋100℃ 湿度：20％～98％ 試験室寸法： 2011 キ セノ ンラ ンプ 方式 各 種 材 料 の促 進耐候性評価 1500 メタルハライドラ ンプ方式 各種材料の促 進耐候性評価 400 超低温での動 作確認、温度サ イクル試験等 基盤技術課 最大放射照度：1500W/m2 照射時温度：50～85℃ 照射時湿度：40～70％RH 有効照射面積：190㎜×422㎜ SUV-W161 超低温恒温器 2014 1,600 基盤技術課 2004 基盤技術課 700 温度・湿度を固 定あるいは可変 にして の耐環境 試験 2006 基盤技術課 800 急激な温度上 昇・下降環境下 での耐環境試 験 Ｈ 600×600×850 ｍｍ 冷熱衝撃試験機 ES-106LH 温度範囲： (高) +60 ～ +200 ℃ 日立ア プ ライ (低) -70 ～ 0 ℃ アンス 試験室寸法： Ｈ 470×485×460 ｍｍ 40 ＜微生物・食品試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 テクスチュロメーター GTX-2-IN メ ー カ名 仕 様 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 550 食品の硬さ、も ろさ、付着性等 の「そしゃく」に 準じた物性試験 応用技術課 250 食品の圧縮試 験、引っ張り試 験、応力緩和試 験、そしゃく試験 応用技術課 200 食品等の凍結 乾燥 応用技術課 400 飲料、液体調味 料、その他液体 食品の噴霧乾 燥 1989 応用技術課 200 嫌気条件下で の微生物培養 最高仕様圧力：686MPa 容器内寸 法：￠60mm×200mm 1994 応用技術課 350 高圧処理食品 の試作開発 最大出力：500W、周波数：20kHz 2015 応用技術課 150 微生物（細菌 等）及び組織等 の破砕・ホモジ ナイズ 2011 応用技術課 550 食品等含まれる 特定のDNAの 定量分析 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 全研 そしゃくスピード：6回/分及び12回/分 レオメータ NRM-2010JCW 不動工業 測定荷重：0～98N 作動速度：2，5，6， 30cm/MIN 1979 凍結乾燥機 FD-1 東京理化器 械 トラップ冷却温度：-45℃ 除湿量：4L 1987 噴霧乾燥機 SD-1０００ 東京理化器 械 水分蒸発量：1500ml/H 噴霧ノズル：2流体ノズル方式 温度制御：40～200℃ 2014 嫌気性培養装置 EAN-140 タバイエス ペック 脱酸素触媒方式 食品用加圧試験装置 MFP-7000 三菱重工業 超音波ホモジナイザー Q500 Ｑｓｏｎｉｃａ リアルタイムPCR装置 Thermal Cycler Dice RealTime System ２ 温度測定範囲：4.0 ～ 99.9℃ タカラバイオ 同時測定サンプル数：96サンプル 1979 応用技術課 ＜工芸技術用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 サンドブラスター 商 品 名 SGK-3型 メーカ名 不二製作所 仕 様 加工範囲600×500×600mm 41 1985 応用技術課 150 用 途 金属の表面硬 化処理及び木 材、金属、ガラ ス等の彫刻、研 磨 ＜デザイン・試作用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 アイマークレコーダー 商 品 名 EMR-V ホストCGシステム(基本シ ONYX ステム) ホストCGシステム(全仕様 システム※) ※画像・映像 ONYX の入出力機器を含む 高速三次元成形機 （樹脂粉末積層３Ｄプリンタ） RaFaEl 300F メ ー カ名 ナック シリコングラ フィックス ＦＡＲＯ Ｅｄｇｅ ＳｃａｎＡｒｍ ＥＳ ９ｆｔ 視野：水平30゜60゜垂直22．5゜45゜ 表示解像度：1280×1024 同時表示可能色：16777216色 設置 年度 1989 1989 担 当 応用技術課 応用技術課 基本額 ( 円) 用 途 750 人の目の注視 点測定により感 情変化等を解 析 4,900 2次元・3次元画 像処理によるデ ザイン開発 シ ミュレーション プレゼンテー ション アニメー ション映像制作 3Dゲームグラ フィックス シリコングラ フィックス 表示解像度：1280×1024 同時表示可能色：16777216色 1989 応用技術課 6,900 アスペクト 実造形サイズ： 290mm×290mm×高さ370mm 積層ピッチ： 0.08mm～0.20mm（標準0.1mm） レーザ：Fiberレーザ 出力50Ｗ、 ビーム径0.17mm、 走査速度10m/sec 2013 基盤技術課 6,900 3次元CADデー タからの立体モ デルの作成 ファロー 非接触式スキャナ部 ＜光切断方式＞ 精度：±35μ m 繰返し精度：35μ m（2σ ） ｽｷｬﾝﾚﾝｼﾞ：80mm～165mm （測定深さ方向） 接触式アーム部 ＜７軸関節測定＞ 定点繰返し精度：29μ ｍ 測定精度（二点間距離）： ±41μ ｍ 測定範囲：2.7m 1,700 2014 ThinkDesign think3 SolidWorks SolidWorks SolidWorks (3次元CAD) Autodesk Inventor Autodesk Autodesk Inventor (3次元CAD) Rhinoceros McNeel Rhinoceros (3次元CAD) SolidWorks Simulation SolidWorks SolidWorks Simulation (CAE構造解析) solidThinking Inspire Altair solidThinking Inspire (構造最適化)、 Evolve (デザイン・レンダリング) Magics Materialise 3次元CADデータ編集 3次元データの 取得 基盤技術課 PolyWorks Inspector Premium (検査) ＋Modeler Premium (データ編集) Materialise 3-matic STL (データ編集) ソフトウェア 3次元CAD/CAM 様 2次元・3次元画 像処理によるデ ザイン開発 シ ミュレーション プレゼンテー ション アニメー ション映像制作 3Dゲームグラ フィックス 本体 三次元ス キャナ 仕 900 ThinkDesign (3次元CAD) 42 2000 基盤技術課 250 3次元CADデー タの作成・活用 貸 付 機 器 一 覧（中丹技術支援室） ＜精密測定検査用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 仕 様 設置 年度 ミツトヨ 測定範囲： 905×1,605×600mm 指示誤差： （1.7＋4Ｌ/1,000）μ m （Ｌ：測定長さ） 画像測定用プローブを併用した、非接 触測定も可能 2007 中丹 技術支援室 3,200 複雑形状部品の精 密計測 ミツトヨ 回転精度： （0.02＋4Ｈ/10,000）μ m （Ｈ：測定高さ） 最大測定径： φ 356mm 最大測定高さ：550mm 2007 中丹 技術支援室 2,300 精密部品等の真円 度・円筒度測定 表面粗さ・輪郭形状測 ＳＶ－Ｃ４０００ 定機 ＣＮＣ ミツトヨ 測定範囲： Ｘ 200mm、Ｙ 200mm Ｚ（表面粗さ） 0.8mm 中丹 Ｚ（輪郭形状） 50mm 2007 技術支援室 分解能：（輪郭形状） 0.05μ m Ｙ軸テーブルを駆動しての三次元表面 粗さ測定も可能 携帯用表面粗さ計 ＳＪ－３０１／ ０.７５ｍＮ ミツトヨ 測定範囲：Ｘ軸 12.5mm Ｚ軸 350μ m 測定力：0.75 mN 定盤 グラプレート No.５１７－４０９ ミツトヨ 寸法：1,000×1,000mm 級：00級 チェックマスタ ＨＭＣ－１０００Ｈ ミツトヨ 測定範囲：1,000mm 2006 中丹 技術支援室 150 精密測定機器の校 正 ハイトマスタ ＨＭＥ－６００ＤＭ ミツトヨ 測定範囲：10＜Ｈ≦610mm 2006 中丹 技術支援室 150 精密測定機器の校 正 ハイトゲージ ＨＤＭ－１００Ａ ＨＤ－３０Ａ ＨＳ－３０ ミツトヨ 最大測定長：1,000mm、300mm 2006 中丹 技術支援室 100 精密部品等の高さ 測定 マイクロメータ ＭＤＣ－２５ＭＪ 他 ミツトヨ 測定範囲：0～800mm 2006 中丹 技術支援室 100 精密部品等の寸法 測定 内測マイクロメータ ＨＴ－１２ＳＴ 他 ミツトヨ 測定範囲：2～1,300mm 2006 中丹 技術支援室 100 精密部品等の内径 測定 セラミックブロックセッ ＢＭ３－１１２－Ｋ ト ミツトヨ 組数：112個組 等 級：Ｋ級 2006 中丹 技術支援室 350 精密測定機器の校 正 ゲージブロックセット No.６１３８０２ －０１３ 他 ミツトヨ 寸法：125、150、175、200、 250、300mm 等級：Ｋ級 2006 中丹 技術支援室 200 精密測定機器の校 正 リングゲージ No.１７７－１４６ 他 ミツトヨ 寸法：φ 50、60、70、80、90、 100、125、175、200、 225、250、275、300mm 2007 中丹 技術支援室 150 精密測定機器の校 正 機 器 名 ＣＮＣ三次元測定機 真円度・円筒形状測 定機 商 品 名 Ｃｒｙｓｔａ－Ａｐｅｘ Ｃ９１６６ ＲＡ－Ｈ５１００ ＣＮＣ メ ー カ名 43 2006 等 担 当 中丹 技術支援室 中丹 2006 技術支援室 基本額 ( 円) 用 途 精密部品等の表面 1,900 粗さ・輪郭形状の 測定 450 精密部品等の表面 粗さ測定 精密測定機器の校 正作業、精密部品 150 の測定作業時の基 準平面 ＜精密測定検査用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 ＮＬ－２２ メ ー カ名 リオン 騒音計 仕 様 測定周波数範囲：20～8,000Hz 測定レベル範囲（A特性）： 28～130dB 1/1・1/3実時間オクターブ分析 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 2006 中丹 技術支援室 100 2006 中丹 技術支援室 100 2006 中丹 技術支援室 100 用 途 環境騒音、機械騒 音の測定 乾電池等消耗品は、機器借り受け者が持参するものとする。 振動計 ＶＭ－８２ （ピックアップ： ＰＶ－５７Ａ） リオン 測定範囲 加速度： 0.002～20G（1Hz～5ｋHz） 速度： 0.3～1,000mm/s （3Hz～1ｋHz） 変位： 0.02～100mm（3～500Hz） 機械の振動状態の 測定 乾電池等消耗品は、機器借り受け者が持参するものとする。 振動レベル計 ＶＭ－５３Ａ （ピックアップ： ＰＶ－８３Ｃ） リオン 測定周波数範囲 振動レベル：１～８０Ｈｚ 振動加速度レベル：１～８０Ｈｚ 振動レベル範囲 ２５～１２０ｄＢ（Ｌｖ－Ｚ） 地盤振動の測定 （人体の振動感覚 特性で補正した振 動レベルの計測） 乾電池等消耗品は、機器借り受け者が持参するものとする。 ＜機械加工用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 ＬＥＯ－８０Ａ メ ー カ名 仕 様 設置 年度 テクノワシノ ベッド上の振り： 490mm 往復台上の振り：260mm センター間距離： 800mm 2007 旋盤 担 当 基本額 ( 円) 中丹 技術支援室 900 中丹 技術支援室 1,500 中丹 技術支援室 300 中丹 技術支援室 1,300 中丹 技術支援室 100 用 途 機械部品等の切削 加工 切削工具（旋削用チップ、ドリル 等）は、機器借り受け者が持参するものとする。 ＫＧＪＰ－５５ フライス盤 移動量：Ｘ550 Ｙ250 Ｚ350mm 牧野フライス 主軸回転数： 製作所 130～2,200rpm（8段切換） 2007 機械部品等の切削 加工 切削工具（ドリル、エンドミル 等）は、機器借り受け者が持参するものとする。 ＥＢ－１０ エグロ 小型旋盤 ベッド上の振り： 266mm 切削台上の振り：140mm センター間距離： 250mm 2007 機械部品等の切削 加工 切削工具（旋削用工具、ドリル 等）は、機器借り受け者が持参するものとする。 ３次元切削モデリング システム ＭＤＸ－５０００Ｒ モデリング アール 移動量：Ｘ500 Ｙ350 Ｚ250mm 主軸回転数：100～10,000rpmテーパ シャンク：Ｓ２０Ｔ 2007 樹脂・軽金属のＮＣ 切削加工 切削工具（ドリル、エンドミル 等）は、機器借り受け者が持参するものとする。 ＫＲＴ－３４０Ｒ タッピングボール盤 キラ・コーポ レーション タッピング能力： M4～M10（S45C） ドリリング能力： φ 3～φ 11mm（S45C） 切削工具（ドリル、タップ 等）は、機器借り受け者が持参するものとする。 44 2006 穴あけ、ネジ穴あ け ＜機械加工用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 設置 年度 仕 様 手動折り曲げ機 ＬＤ－４１４ 盛光 加工板厚：2.0×1,220mm 開き：38mm 鏡面ショット研磨機 ＳＭＡＰⅡ型 東洋研磨材 工業 開口部：260×350㎜ 電気溶接機 デジタル溶接機 ベルト研磨機 口の 担 当 基本額 ( 円) 用 途 2006 中丹 技術支援室 100 金属製板材の折り 曲げ 2006 中丹 技術支援室 550 研磨材による乾式 研磨 松下溶接シス 溶接ヒューム回収装置付 テム 2006 中丹 技術支援室 1,500 ＦＳ－２Ｎ 淀川電機製 作所 ベルト寸法：幅100㎜ 2006 中丹 技術支援室 200 金属等の研削 両頭グラインダ ＦＧ－２０５Ｔ 淀川電機製 作所 砥石寸法：205φ ×19㎜ 2006 中丹 技術支援室 150 金属等の研削 高速切断機 ＳＫ－１ 昭和機械工 業 砥石：305φ ㎜ 2006 中丹 技術支援室 100 金属等の切断 帯ノコ盤 ＶＺ－３００ 切断能力： ワイエス工機 高さ200mm、奥行き300mm 鋸刃速度：25～115 m/min 2006 中丹 技術支援室 100 板金の切断 ステンレス、鋼材 の溶接 ＜材料試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 万能材料試験機 （２５０ｋＮ） ＡＧ－２５０ｋＮＩＳ ＭＯ 島津製作所 最大荷重：250kN 2007 中丹 技術支援室 材料強度試験 3,600 (引張、圧縮、曲 げ、荷重) 万能材料試験機 （５ｋＮ） ＡＧ－５ｋＮＩＳ 島津製作所 最大荷重：5kN 2007 中丹 技術支援室 材料強度試験 1,000 (引張、圧縮、曲 げ、荷重) 共和電業 測定チャンネル数：最大８Ch サンプリング周波数：1Hz～100KHz 本体外形寸法：148(W)×53(H)× 257(D)mm 本体質量：約0.9㎏ 2014 中丹 技術支援室 金属材料の振動周 300 波数 特性等の解析 共和電業 引張圧縮両用型ﾛｰﾄﾞｾﾙ３種､ 高応答小型加速度変換器２種､ 圧力変換器２種､ 変位変換器､ 動ひずみ測定器 中丹 2006 技術支援室 ひずみゲージ式セ ンサーにより、荷 200 重・圧力・変位の物 理量を測定 エミック 加振力：16.0kN（正弦波） 最大変位：56mm 振動数範囲：3～2,000Hz （加振ﾃｰﾌﾞﾙ等により変動） 2006 中丹 技術支援室 ロックウェル硬さ試験 ＡＲＫー６００ 機 ミツトヨ デジタル表示、 自動（負荷、保持、除荷） 2006 中丹 技術支援室 400 ロックウェル硬さの 測定 マイクロビッカース硬 さ試験機 ＦＭ－７００ フューチュア テック 試験荷重：49.03mＮ～19.61Ｎ、 ビッカース圧子、ヌープ圧子 2006 中丹 技術支援室 450 金属の微小部硬さ の測定 簡易携帯硬さ試験機 エコーチップ硬さ 試験機 プロセク ＨＬ、ＨＶ、ＨＢ、ＨＳ、ＨＲＣ、ＨＲＢ、ＨＲ 中丹 2006 Ａ 技術支援室 200 各種材料等の各種 硬度測定 ミツトヨ 最小試験面：22㎜φ 、硬さＨＬ値を基に 中丹 ビッカス、ブリネル、ロックウェルＣ、 2006 技術支援室 ロックウェルＢ等への換算可能 100 金属用硬度計 機械振動周波数分析 EDX-200A-1 システム ひずみゲージ式セン サ・アンプユニット ＬＵ－１００ＫＥ、 ＬＵ－１ＴＥ、 ＬＵ－１０ＴＥ、 ＡＳ－１０ＨＢ、 ＡＳ－１００ＨＡ、 ＰＧ－１０ＫＵ、 ＰＧ－１００ＫＵ、 ＤＴ２０Ｄ、 ＤＰＭ－７１２Ｂ 振動試験機 （１６ｋＮ） Ｆ－１６０００ＢＤＨ ／ＬＡ１６ＡＷ 反発式ポータブル硬さ ＨＡＲＤＭＡＴＩＣ 試験機 ＨＨー４１１ 45 2,600 振動試験 ＜材料試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 設置 年度 担 当 搭載可能サイズ： φ 300、高さ650㎜ 搭載可能サンプル質量： 20㎏以下 Ｘ線出力：130ｋＶ 2007 中丹 技術支援室 基本額 ( 円) アルミダイカストな 3,800 どの内部欠陥の観 察・検査 マイクロフォーカスX 線透視装置 ＳＭＸ３０００ ｍｉｃｒｏ 島津製作所 超音波探傷器 ＵＳＮ６０ 措定範囲：１mm～27.94m ＧＥインスペク (鋼中換算) ション・テクノ 探傷モード：１探触子法・ ロジーズ ２探触子法・透過法 2006 中丹 技術支援室 350 ＦＵＭ３３２ＰＡ 使用温度範囲：400～1,300℃ （常用最高温度1,200℃） アドバンテック 温度分布精度：±5℃(1,100℃) 東洋 昇華時間：約30分 (常温→1,100℃) 2006 中丹 技術支援室 150 電気マッフル炉 用 途 部品内部の欠陥等 の非破壊検査 金属の焼き入れ、 焼きなまし、焼成 の他灰分試験、溶 融点の測定 使用するガス等は、機器借り受け者が持参するものとする。 ＜電気試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 シンクロスコープ （ＤＬ９０４０） ＤＬ９０４０ 横河電機 周波数帯域：500MHz 最高サンプルレート：5G/s メモリ長：2.5MW 入力数：4ch 2006 中丹 技術支援室 200 電気信号の波形観 測・記録 データレコーダー ＬＸ－１０ ティアック 記録可能周波数： DC～40ｋHz 入力：8ｃｈ、出力：8ｃｈ 2006 中丹 技術支援室 200 電気信号の記録お よびその再生 共和電業 最高サンプリング周波数： 200kHz （16CH同時ｻﾝﾌﾟﾘﾝｸﾞ時） 周波数応答解析 トラッキング解析 2006 中丹 技術支援室 各種装置の機械振 400 動・回転振動等の 測定・周波数解析 赤外線サーモグラフィ ＴＶＳ－５００ 温度測定範囲： -40℃～2,000℃ 日本アビオニ 分解能：0.06℃ クス 測定波長：8～14μ m フレームタイム：60ﾌﾚｰﾑ/s 2006 中丹 技術支援室 450 PICマイコンデバッガ マイクロチッ プ フラッシュ型PIC用 2006 中丹 技術支援室 PICマイコンのデ 100 バッギング及びプ ログラムライター ＳＧ－４１０５ 岩通計測 出力可能波形・周波数 正弦波、方形波： 10mHz～15MHz 三角波、パルス波、ランプ波： 10mHz～100KHz 2006 中丹 技術支援室 さまざまな周波数 100 と波形をもった電 気信号の生成 ユニバーサルカウンタ ＳＣ－７２０６ 岩通計測 測定周波数範囲：10mHz～2GHz(カッ プリングAC) 2006 中丹 技術支援室 100 電気信号の周波数 測定 直流安定化電源装置 ＰＡＮ３５－５Ａ 菊水電子工 業 出力電圧：0～35V 出力電流：0～5A 2006 中丹 技術支援室 100 定電圧・定電流の 直流電源装置 シャフナー 供試体最大サイズ： 62cm×62cm×49cm 放射エミッション測定： 30MHz～1GHz 放射イミュニティ試験： 80MHz～1GHz 伝導イミュニティ試験： 150KHz～80MHz 雑音端子電圧測定： 150KHz～30MHz 静電気試験 中丹 2007 技術支援室 ＦＦＴアナライザー ファンクションジェネ レータ ＥＭＣ測定システム ＥＤＸ－２０００Ａ ＭＰＬＡＢ ＩＣＤ ２ ＧＴＥＭ７５０ 46 物体の表面温度分 布状況の測定 GTEMセルを用い たエミッション測 3,500 定、イミュニティ試 験 ＜顕微鏡及び試料作製装置＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 走査電子顕微鏡 （観察のみ） ＪＳＭ－６３９０ＬＡ 日本電子 走査電子顕微鏡 （観察＋元素分析） 仕 様 設置 年度 担 当 分解能［高真空モード］：3.0nm（二次電 子像、30ｋV） 分解能［低真空モード］：4.0nm（反射電 子像、30ｋＶ） 中丹 2007 倍率：5～300,000倍 技術支援室 加速電圧：0.5～30ｋV エネルギー分散形Ｘ線分析 検出元 素：Ｂ～Ｕ 基本額 ( 円) 用 途 3,300 各種試料の表面観 察 4,900 各種試料の表面観 察及び元素分析 オリンパス 高さ測定範囲：10mm 最大試料寸法： 150×100×100mm 平面分解能：0.12 μ m 高さ分解能：0.01μ m 2006 中丹 技術支援室 ＫＨ７７００ ハイロックス 倍 率：6～3,500倍 斜観察：25・35・45・55度 2007 中丹 技術支援室 金属顕微鏡 ＴＭＥ２００ＢＤ ニコン 倍率：50、100、200、500、1000 明視 中丹 2006 野、暗視野、簡易偏光観察 技術支援室 実体顕微鏡 ＳＭＺ１０００ ニコン 総合倍率：4～40倍 2006 中丹 技術支援室 100 部品等の拡大観察 蛍光顕微鏡 ＢＸ５１ オリンパス ＵＶ、Ｂ、Ｇ励起 （100W、水銀ﾗﾝﾌﾟ） 対物レンズ： 10×, 20×, 40×, 100× 2006 中丹 技術支援室 600 蛍光試料の観察 金相試料作製装置 ラボプレス１､ テグラポール21､ テグラフォース３､ テグラドーザ１､ ディスコトム６ 丸本ストルア 精密試料切断機、試料埋込機、半自 ス 動研磨機 2006 中丹 技術支援室 6,100 金相試料の作製 ＬＥＸＴ ＯＬＳ３１００ デジタルマイクロス コープ レーザ顕微鏡 微小な表面形状等 2,100 の非接触精密計 測・観察 800 工業部品・材料の 拡大観察・解析 250 金属組織の観察 ＜分析用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 蛍光Ｘ線分析装置 商 品 名 ＥＤＸ－９００ＨＳ メ ー カ名 仕 様 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 島津製作所 エネルギー分散型 検出元素：Na～U 中丹 2007 最小X線照射径：1mm 技術支援室 CCDカメラによる試料画像観察機能有 各種材料中元素の 1,400 定性分析、定量分 析 2007 中丹 技術支援室 1,600 各種工業材料の結 晶構造の解析 X線回折装置Ⅱ ＸＲＤ－６１００ 島津製作所 最大測定角範囲：-3～150°（2θ ）最 小送り幅：0.002°（θ ，2θ ）繊維選択 配向測定可能 カウン ターモノクロメーター装備 核磁気共鳴分光装置 ＪＮＭ－ ＥＣＸ４００Ｐ 日本電子 磁場強度：9.39T(400MHz) 測定核種：1H、13C、19F、 31P～15N 2006 中丹 技術支援室 16,000 有機化合物の詳細 な化学構造解析 フーリエ変換赤外分 光光度計 （赤外顕微鏡付） ＩＲＰｒｅｓｔｉｇｅ－２１ ＡＩＭ－８８００ 島津製作所 ビームスプリッタ：Ｇｅ蒸着膜ＫＢｒ、検 出器：DLATGS検出器、波数範囲： 7800～350、分解能：0.5㎝ｰ1、オート アパーチャ、など 2007 中丹 技術支援室 2,600 主に有機物の同定 と定量 ダブルビーム方式 波長 範囲：190～1100nm スペクト 中丹 2006 ルバンド幅：1.5nm 測定モード： 技術支援室 Abs、%T 各種材料の紫外・ 150 可視スペクトル測 定 紫外・可視分光光度 計 Ｖ-６３０ 日本分光 分光色差計 ＮＦ－３３３ 分光反射測定範囲： 日本電色工業 400～700nm 表色系：L＊A＊B＊系他 2006 中丹 技術支援室 100 分光蛍光光度計 Ｆ－７０００ 測定波長範囲：200～750ｎｍ及び０次 日立ハイテク 光、分解：１ｎｍ、温度調整機能付きシ ノロジーズ ングルホルダ 2007 中丹 技術支援室 蛍光、りん光の測 600 定によるスペクトル 分析、定量分析 47 各種材料の表面色 の測定 ＜分析用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 設置 年度 担 当 ガスクロマトグラフ質 量分析装置 ＧＣＭＳ－ ＱＰ２０１０Plus 島津製作所 イオン化方式：ＥＩ 質量範囲：m/z1.5～1,090 分解能：Ｒ≧2Ｍ（FWHM） 最大スキャン速度： 10,000u/秒 液体クロマトグラフ Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ 島津製作所 低圧グラジエントタイプ 検 出器：紫外可視光、蛍光、屈折 アミノ酸分析装置 Ｌ－８９００ カラム：陽イオン交換カラム 反応 日立ハイテク 中丹 試薬：ニンヒドリン 検出波 2007 ノロジーズ 技術支援室 長：570nm, 440nm 基本額 ( 円) 用 途 2006 中丹 技術支援室 3,900 有機化合物の定性 及び定量分析 2006 中丹 技術支援室 900 有機化合物の定性 及び定量分析 2,800 アミノ酸の分析 島津製作所 測定温度： 温度プログラム可能 液体窒素非使用時： 25～600℃ 液体窒素使用時： -130～500℃ 2006 中丹 技術支援室 750 材料のDSC測定 島津製作所 分銅による 定試験力押出し式 試験圧力： 0.4903～49.03MPa 試験温度： (室温＋20)～400℃ 2006 中丹 技術支援室 800 レーザ回折式粒度分 ＳＡＬＤ－２２００ 布測定装置 島津製作所 ﾚｰｻﾞ回折散乱法 測定 範囲：0.03～1000μ m 有機溶媒使用可能 2006 中丹 技術支援室 850 粉体の粒度測定 微量水分計 ＣＡ－２１ ダイアインス ツルメンツ カールフィッシャー電量滴定法 2006 中丹 技術支援室 600 溶液中の水分濃度 測定 脈波計 ＡＰＧ－１０００ バイアス圧： 6mmHg(1～5mmHg可変） ＡＣＩ Ｍｅｄｉｃａｌ センシングカフ： 27.5cm、30ｃｍ、20ｃｍ （前腕用） 2006 中丹 技術支援室 600 静脈流の定量的評 価 有機合成用ドラフト チャンバー ＲＦＧ－１５０ＳＺ ヤマト科学 2006 中丹 技術支援室 900 有機溶剤使用作業 時の保護 示差走査熱量測定装 ＤＳＣ－６０Ａ 置 細管式レオメータ ＣＦＴ－５００Ｄ 有機合成用ドラフトチャンバー 樹脂等材料の流動 性評価 ＜表面処理・環境試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 蛍光Ｘ線膜厚計 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 ＳＦＴ９４００ エスアイアイ・ 測定元素：Ｔｉ～Bi ナノテクノロ Ｘ線管：電圧50kV 電流1.5mA ジー 測定ソフト：薄膜FP法､検量線法 ＬＺ－２００Ｊ ケット科学研 究所 電磁・渦電流膜厚計 測定範囲：0～1500μ m(電磁) 0～800μ m(渦電流) 最小測定面積：3×3mm 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 2007 中丹 技術支援室 2,100 2007 中丹 技術支援室 200 用 途 金属薄膜の膜厚 測定 アルマイト・塗装皮 膜等の膜厚測定 乾電池等消耗品は、機器借り受け者が持参するものとする。 接触角測定装置 ＦＴＡ-１２５ ＦＴＡ 測定範囲：０～180° 分解 中丹 能：分解能：0.1° 2006 技術支援室 画面取り込みレート：60ｆｐｓ 48 550 材料のぬれ性評価 ＜表面処理・環境試験用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 温湿度サイクル試験 装置 （大型） 温湿度サイクル試験 装置 （８００Ｌ） 小型高温チャンバー 真空定温乾燥器 商 品 名 ＥＲ－７５ＤＨＨＰ －Ｐ ＰＬ－４Ｋ／ Ｐ計装 ＳＴ－１２０Ｂ１ ＤＰ４３ メ ー カ名 仕 様 温度湿度： -30℃～+80℃、90％ 温度変動幅：±0.5℃ 日立アプライ 湿度変動幅：±4％ アンス 室内スペース：床面積8m ２（265× 305㎝）、 高さ190cm 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 2007 中丹 技術支援室 温度・湿度を固定 5,200 あるいは可変して の耐環境試験 エスペック 温度：－40℃～＋100℃ 湿度：20％～98％ 試験室寸法： 1,000×800×1,000Ｈmm 2006 中丹 技術支援室 温度・湿度を固定 950 あるいは可変して の耐環境試験 エスペック 温度：（外囲温度＋20℃） ～＋200℃ 試験室寸法： 400×350×280Ｈmm 2006 中丹 技術支援室 100 高温度環境下での 耐環境試験 ヤマト科学 温度：（室温＋10℃）～200℃ 到達真空度： 6.7×10－１Torr以下 器内寸歩：450×450×450Ｈmm 2006 中丹 技術支援室 350 各種材料の真空定 温乾燥 ＜デザイン・試作用＞ ※基本額は1時間あたりの料金です。 機 器 名 商 品 名 メ ー カ名 仕 様 非接触３次元デジタイ ＶＩＶＩＤ９ｉ ザ 測定範囲（最大）： コニカミノルタ 1,495×1,121×1,750mm センシング 出力画素数：640×480 ストロボスコープ 菅原研究所 デジタルハイスピード ＭＥＭＯＲＥＣＡＭ カメラ ｆｘＫ４ ３Ｄプリンター （ラピッ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ ドプロトタイプ） Ｅｌｉｔｅ ＭＳ－６００ 設置 年度 担 当 基本額 ( 円) 用 途 2006 中丹 技術支援室 1,600 非接触型の３次元 測定 発光周波数範囲： 30～60,000r/min 2006 中丹 技術支援室 100 点滅発光による動 作確認 ナック 撮像素子画素数：1,280×1,024 1,000コマ/秒 ISO 2,400（カラー） 2006 中丹 技術支援室 高速撮影 1,400 映像による挙動解 析 Ｓｔｒａｔａｓｙｓ 造形サイズ（最大）： W203×Ｄ203×Ｈ305 積層ピッチ：0.178mm 2007 中丹 技術支援室 ３次元ＣＡＤデータ 3,000 からの立体モデル の作成 49 館 内 案 内 組 織 図 所 長 副所長 総務課 予算・人事・庶務・庁舎管理 ℡075-315-2811 企画連携課 企画・情報担当 事業の企画・調整、所内研究の調整、研究成果の公表、知的財 産の管理、産学公連携の企画調整・推進、広報・情報発信 機械設計・加工担当 機械設計・造形・精密加工・精密計測の技術の相談・支援、試験 及び研究 材料・機能評価担当 材料加工、材料に関する機能評価の相談・支援、試験及び研究 ℡075-315-8635 基盤技術課 ℡075-315-8633 化学・環境担当 化学・環境技術、材料分析等の相談・支援、試験及び研究 電気・電子担当 電気・電子技術、EMC(電磁波障害)技術、光・マイクロ波・ミリ波技 術の相談・支援、試験及び研究 食品・バイオ担当 食品・バイオ関連技術、食品機能性成分、食品廃棄物利用技術 の相談・支援、試験及び研究 表面・微細加工担当 表面処理技術、新素材関連技術、微細加工技術の相談・支援、 試験及び研究 応用技術課 ℡075-315-8634 デザイン担当 中丹技術支援室 産業界のデザイン力強化支援、商品企画・販売促進・デザイン制 作の相談・支援及び研究 北部地域における技術支援、研究開発推進及び人材育成支援 ℡0773-43-4340 けいはんな分室 ℡0774-95-5050 けいはんな立地機関と府内企業のコーディネート 交通のご案内 ◆ＪＲをご利用の場合 ○丹波口駅から 徒歩５分 ◆市バスをご利用の場合 ○阪急大宮駅から32系統「京都外大前」行き ○阪急西院駅から75系統「京都駅」行き ○京阪清水五条駅から 80系統「京都外大前」行き （河原町五条バス亭乗車） 上記の市バスで「京都リサーチパーク前」下車 七本松通を南へ200m東側 ◆地下駐車場 入庫後20分無料 昼間（08:00～20:00）100円／20分 夜間（20:00～08:00）100円／60分 [東地下駐車場] 平 日 上限料金 １８００円 土日祝 上限料金 １３００円 中 丹 技 術 支 援 室 ○綾部ＩCから車で６分 ○ＪＲ綾部駅から徒歩4分 お問い合せ URL:http://www.mtc.pref.kyoto.lg.jp/ e-mail:[email protected] ＜本所＞ 〒600-8813 京都市下京区中堂寺南町134（七本松通五条下ル） TEL 075-315-2811 FAX 075-315-1551 基盤技術課 TEL 075-315-8633 FAX 075-315-9497 応用技術課 TEL 075-315-8634 FAX 075-315-9497 企画連携課 TEL 075-315-8635 FAX 075-315-9497 総務課 TEL 075-315-2811 FAX 075-315-1551 ＜中丹技術支援室＞ 〒623-0011 京都府綾部市青野町西馬場下38-1 北部産業技術支援ｾﾝﾀｰ・綾部内 TEL 0773-43-4340 FAX 0773-43-4341 ＜けいはんな分室＞ 〒619-0294 関西文化学術研究都市（京都府 精華・西木津地区） けいはんなオープンイノベーションセンター（KICK）内 TEL:0774-95-5050 FAX:0774-66-7546 （木津川市木津川台9丁目6／相楽郡精華町精華台7丁目5）
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