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ケトン選択的
不斉水素移動反応ルテニウム触媒
CH3
O
Cl
H
Ru
N
O
O
S
N
O
CH3
CH3
S
O
[T3077]
特長
CH3
O
Ru
N
N
Cl
H
[T3078]
・カルボニル化合物を選択的に還元
・ギ酸や IPA を水素源とするため高圧設備が不要
利用例
Substrate
Time (h)
% Yield
% ee
3
>99
98 (R)
Cl
5
>99
97 (S)
OH
5
98
96 (S)
5
>99
>99 (R)
5
>99
98 (R)
O
O
T3078 (0.1 mol%)
Et3N, HCO2H
O
R
R'
60 ºC
O
OH
R
*
R'
O
O
O
O
T. Ikariya et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 14960.
T3077 (S,S)-Ts-DENEB®
T3078 (R,R)-Ts-DENEB®
200mg 5,500円 / 1g 19,100円
200mg 5,500円 / 1g 19,100円
高砂香料工業株式会社とのタイアップにより製品化しました。DENEB® は高砂香料工業株式会社の登録商標です。
ケトン選択的不斉水素移動反応ルテニウム触媒
他のルテニウム触媒
CH3
CH3
CH3
O S O
CH3
O S O
N
N
CH3
Ru
N
H2
Ru
CH3
Cl
CH3
N
H2
Cl
CH3
RuCl[(S,S)-Tsdpen](p-cymene)
RuCl[(R,R)-Tsdpen](p-cymene)
[R0124]
[R0125]
200mg 4,600円 / 1g 15,800円
200mg 4,600円 / 1g 15,800円
R. Noyori et al., J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 2521; K. Matsumura et al., J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 8738; R. Noyori et al., J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 4916.
CH3
CH3
CH3
O S O
CH3
O S O
CH3
N
N
Ru
N
H2
CH3
Ru
Cl CH3
N
H2
Cl CH3
RuCl[(S,S)-Tsdpen](mesitylene)
RuCl[(R,R)-Tsdpen](mesitylene)
[R0126]
[R0127]
200mg 4,600円 / 1g 15,800円
200mg 4,600円 / 1g 15,800円
R. Noyori et al., J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 2521; R. Noyori et al., Org. Lett. 2000, 2, 3425.
F
F
F
CH3
O S O
F
F
F
F
F
N
CH3
Ru
N
H2
Cl
F
CH3
O S O
F
N
CH3
Ru
CH3
N
H2
Cl
CH3
RuCl[(S,S)-Fsdpen](p-cymene)
RuCl[(R,R)-Fsdpen](p-cymene)
[R0122]
[R0123]
200mg 6,900円 / 1g 24,100円
200mg 6,900円 / 1g 24,100円
J. Limanto et al., Org. Lett. 2010, 12, 512.
高砂香料工業株式会社とのタイアップにより製品化しました。
弊社製品取扱店
営業部
大阪営業所
〒103-0023 東京都中央区日本橋本町 4-10-2 TCIビル 2 階
Tel: 03-3668-0489
Fax: 03-3668-0520
E-mail: [email protected]
〒541-0041 大阪府大阪市中央区北浜 1-1-21 第 2 中井ビル 1 階
Tel: 06-6228-1155
Fax: 06-6228-1158
E-mail: [email protected]
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www.TCIchemicals.com/ja/jp/
RR034 20140311

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