optoelektronik uygulamalar için saydam iletken kaplamalı cam altlık

2 9 . C a m S e m p o z y u m u / 2 9 . G l a s s S y mp o s i u m - 0 7 K a s ı m 2 0 1 4 / 0 7 N o v e m b e r 2 0 1 4
Kadir Has Üniversitesi Cibali Kampüsü – Balat / İstanbul (D Blok Büyük Salon: 4. Oturum 17:00 -17:20)
OPTOELEKTRONİK UYGULAMALAR İÇİN SAYDAM İLETKEN
KAPLAMALI CAM ALTLIK GELİŞTİRİLMESİ
Yrd.Doç.Dr. Ferhat Aslan ¹, İbrahim Boz ¹, Ahmet Tumbul¹,
Prof. Dr. İbrahim H. Mutlu ¹,
Dr. Seniz Türküz2, Dr. Refika Budakoğlu ²
¹ Harran Üniversitesi, Fizik Bölümü
² Şişecam Topluluğu, Araştırma ve Teknolojik Geliştirme Başkanlığı,
Araştırma ve Teknoloji Direktörlüğü
[email protected] , [email protected] , ,[email protected] [email protected]
Ferhat Aslan lisans eğitimini Harran Üniversitesi Fizik Bölümü'nde 2002
yılında, yüksek lisans ve doktora eğitimini ise aynı üniversitenin Katıhal
Fiziği Anabilim Dalı'nda sırasıyla 2005 ve 2011 yıllarında tamamlamıştır.
Doktora eğitimini 2011' da tamamladıktan sonra YÖK’ ün öğretim üyesi
yurtdışı araştırma bursu ile 2013 yılında üç ay süre ile araştırmacı olarak
Avusturya’daki Johannes Kepler Üniversitesi, Organik Güneş Hücreleri
Enstitüsü’nde (LIOS) bulunmuştur. Halen Harran Üniversitesi Fizik
Bölümünde öğretim üyesi olarak görev yapmaktadır.
ÖZET
Günümüzde, saydam iletken oksitlerin (tco) inorganik ve organik fotovoltaikler, akıllı
pencereler, sıvı kristal ekranları (lcd), plazma ve organik ışık yayan diyot (oled) ekranları,
dokunmatik ekran sensörleri, gaz sensörleri ve düşük emisyonlu yüzey (low-e)
uygulamalarında kullanımının hızlı bir şekilde yaygınlaşması, bu tür malzemelere olan
ihtiyacın artmasına neden olmuştur. En çok kullanılan saydam iletken oksitler arasında
kalay katkılı indiyum oksit (ITO) ve alüminyum katkılı çinko oksit (azo) örnek olarak
verilebilir. ITO ve katkılı-zno filmlerin üretimi için birçok yöntem geliştirilmiştir. Bunlar
arasinda, başlica dc veya rf magnetron saçtırma, lazer atması (pld), kimyasal buhar (cvd)
ve moleküler demet epitaksi (mbe) yöntemleri örnek verilebilir. Özellikle, günümüz
teknolojisinde en çok kullanılan yöntemler; magnetron saçtırma ve cvd yöntemleridir. Bu
yöntemlerin, yüksek maliyetli ve karmaşık sistemlere dayalı olmalarından dolayı,
alternatif yöntemlerin araştırılması ve teknolojiye kazandırılması önem taşmaktadır.
Sol-jel yöntemi, geniş yüzeyli ince film üretim teknolojisine katkıda bulunabilecek bir
yaş kaplama tekniğidir. Bu yöntemle, istenilen homojenlik ve kalınlıkta filmler elde
etmek mümkündür. Özellikle geniş ve karmaşık yüzeyli uygulamalar için film üretebilir
olması bu yöntemin en önemli avantajlarından biridir. Sunulan çalışmada, kalay katkılı
indiyum oksit (ITO) ve alüminyum katkılı çinko oksit (azo) filmler cam altlıklar üzerinde
sol-jel yöntemiyle üretilmiştir. Filmlerin yapısal, optiksel ve elektriksel özellikleri, x-işini
Bildiri Özetleri / Abstracts •
Araştırma ve Teknolojik Geliştirme Başkanlığı / Research and Technological Development Presidency - 1
2 9 . C a m S e m p o z y u m u / 2 9 . G l a s s S y mp o s i u m - 0 7 K a s ı m 2 0 1 4 / 0 7 N o v e m b e r 2 0 1 4
Kadir Has Üniversitesi Cibali Kampüsü – Balat / İstanbul (D Blok Büyük Salon: 4. Oturum 17:00 -17:20)
kirinimi (xrd), taramalı elektron mikroskobu (sem), uv-görünür bölge spektrometresi (uvvis) ve hall etkisi ölçüm yöntemleriyle karakterize edilmiştir. Bu çalışma bilim, sanayi ve
teknoloji bakanlığı tarafından 0128.stz.2013-1 nolu proje ile desteklenmiştir.
Anahtar Sözcükler: İnce Film, Saydam İletken Oksit, ITO, AZO
Bildiri Özetleri / Abstracts •
Araştırma ve Teknolojik Geliştirme Başkanlığı / Research and Technological Development Presidency - 2

Download Report