2016年10月17日～2016年10月21日公開分技術分野内容 H01L 半導体装置，他に属さない電気的固体装置 G06F 電気的デジタルデータ処理管理目的，商用目的，金融目的，経営目的，監督目的または予測目的に特に適合したデータ処理システムまたは方法；他に分類さ G06Q れない，管理目的，商用目的，金融目的，経営目的，監督目的または予測目的に特に適合したシステムまたは方法 A61K 医薬用，歯科用又は化粧用製剤 B63B 船舶またはその他の水上浮揚構造物；艤装品化学的エネルギーを電気的エネルギーに直接変換するための方 H01M 法または手段，例．電池 H04W 無線通信ネットワーク H04L デジタル情報の伝送，例．電信通信 H04N 画像通信，例．テレビジョン光の強度，色，位相，偏光または方向の制御，例．スイッチング，ゲーテイング，変調または復調のための装置または配置の媒体の G02F 光学的性質の変化により，光学的作用が変化する装置または配置；そのための技法または手順；周波数変換；非線形光学；光学的論理素子；光学的アナログ／デジタル変換器Ａ２１ＤまたはＡ２３ＢからＡ２３Ｊまでに包含されない食品，食料品， A23L または非アルコール性飲料；その調製または処理，例．加熱調理，栄養改善，物理的処理；食品または食料品の保存一般材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または G01N 分析電力給電または電力配電のための回路装置または方式；電気エネ H02J ルギーを蓄積するための方式 A61B 件数 163 103 91 87 66 63 62 60 58 36 34 33 31 診断；手術；個人識別 28 G02B 光学要素，光学系，または光学装置プラスチックの成形または接合；可塑状態の物質の成形一般；成形 B29C 品の後処理，例．補修 C07D 複素環式化合物印刷回路；電気装置の箱体または構造的細部，電気部品の組立 H05K 体の製造フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製 G03F 造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置積層体，すなわち平らなまたは平らでない形状，例．細胞状または B32B ハニカム状，の層から組立てられた製品技術分野は各案件の筆頭IPCを集計しています。出願人サムスン電子現代重工業サムスンディスプレイ LGエレクトロニクス韓国電子通信研究院 LSIS CO., LTD. 現代自動車 LG化学 SKハイニックスサムスン電機クアルコムサムスン重工業 LGイノテック SK Planet Co., Ltd. 延世大学校産学協力団大宇造船海洋 27 26 25 25 24 21 件数 96 62 58 41 39 33 32 32 29 23 21 20 17 17 15 15 KAIST サムスンSDI TOGAWORLD Co., Ltd 13 12 12 出願人は各案件の全出願人（筆頭及び筆頭以外）を速報的に集計しているため、同一企業の異名表記等の名寄せはしていませんので、実際の件数と相違する可能性があります。代理人件数 KIM & CHANG Shin&Kim Y.P.LEE,MOCK&PARTNERS Koreana Patent Firm YOU ME PATENT & LAW FIRM NAM & NAM World Patent & Law Firm Lee International IP & Law Group PanKorea Patent & Law Firm AJU Kim Chang & Lee PARK, KIM & PARTNER C&S Patent and Law Office FirstLaw P.C. HANYANG PATENT FIRM CENTRAL Intellectual Property & Law MUHANN PATENT & LAW FIRM PHIL & ONZI INT''L PATENT & LAW FIRM HANMIR PATENT & LAW FIRM SELIM INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM DAE-A Intellectual Property Consulting 127 121 69 61 57 54 53 43 37 35 34 34 32 28 27 27 24 22 22 代理人は各案件の筆頭代理人を速報的に集計しているため、実際の件数と相違する可能性があります。公開番号最多請求項数 1020160120298 平均請求項数 10.65 項数出願人 156 TACTUAL LABS CO.[US] 発明の名称 DECIMATION STRATEGIES FOR INPUT EVENT PROCESSING