加工するご愛顧感謝キャンペーン（2013年3月末まで）断面試料作製 JIB-4000は、FIB加工によりサンプル表面に穴をあけて、試料内部を観察できる断面試料の作製が行えます。作製した試料は、そのままJIB-4000でSIM像により観察が行えます。また、より高分解能のFE-SEMなどに移して観察・分析も行えます。 FIB装置 JIB-4000を特別価格にてご提供!! 販売価格紙（電車の切符）の断面作製 100umのはんだバンプの断面作製ダイヤモンドの粒の断面作製 JIB-4000 集束イオンビーム加工観察装置 TEM薄膜試料作製 JIB-4000は、TEM観察用の薄膜サンプルを作製する事が可能です。また、JIB-4000は弊社のTEMと共通の試料ホルダを挿入することが出来ます。断面観察用薄膜試料平面観察用薄膜試料銅粉体￥30,000,000（税別）〜 C-Depo膜拡大像集束イオンビーム加工観察装置のJIB-4000は、加速したGaイオンビームを集束し試料に照射銅粉体表面の酸化膜する事で、試料表面の高倍率観察、エッチング加工、カーボンやタングステンなどのデポジションが行える装置です。 TEM観察のための薄膜試料や試料内部を観察するための断面試料の試料作製が可能です。また、FIB装置の二次電子像（SIM像）はSEM像とは異なる特徴を持っており、特に金属メッキ銅粉体やハンダの評価に大変有効です。エポキシ樹脂半導体（DRAM）の薄膜試料 200kV-TEMによるSTEM像アパーチャー穴あけ加工銅粉体の薄膜試料 200kV-TEMによるTEM像真上から観察斜め上から観察金属箔の表面に円形に加工を行い、貫通穴を作製することが可能です。 50um厚のモリブデン箔に100umの貫通穴を作製特殊形状の描画加工斜め上から観察真上から観察観る画像ファイルの形状どおりに試料表面に画像形状の加工が行えます。 JEOLロゴ削る積む JIB-4000の特長 2重螺旋 ▶ 大電流FIBカラムの採用により高スループット加工を実現 ▶ 装置デザインと操作性を一新し、親しみ易いFIB装置に ▶ 小スペースにレイアウト可能なコンパクトサイズ ※外観・仕様は改良のため予告なく改良することがあります。設置面積を従来比20％削減（当社比） ▶ツインステージによる容易なTEM試料作製（オプション） ▶ 観察位置を素早く見つけるステージナビゲーションシステム（オプション） No. 1102L259C (Kp) 試料内部を観る SIM像の特徴を活かした応用例の紹介 USBメモリーコントローラーLSI端子部の断面作製・SIM像観察コネクタ部の断面作製・SIM像観察断面試料作製断面試料作製コネクタ部分の表面にFIB加工により穴をあけて、試料内部を観察できる断面試料の作製を行った。穴の大きさは、横幅 5 0μｍ、深さ4 0μｍ程度である。穴あけ加工を行う前に、試料表面にカーボンのデポジションを行い、加工によるダメージから試料表面を保護している。 LSI端子の先端をFIB加工により削り落とし、端子の断面を観察できる断面試料の作製を行った。観察面の大きさは、横幅 200μｍ、深さ 150μｍ程度と大きな断面である。 JIB-4000では、加工速度が向上しており、100μｍを超える大きな断面試料も作製可能である。 60° 傾斜断面加工 60° 傾斜断面加工 50μm 200μm 150μm 加工時間加工時間 35min 5h コネクタ部表面の様子（SIM像） FIB加工の様子（SIM像） LSIの端子部のSIM像 FIB加工の様子（SIM像）断面のSIM像観察断面のSIM像観察ステージを6 0 ° 傾斜して、作製した断面の S I M 像観察を行った。鉄基材とその上の 2 種類のメッキ層が明瞭に観察できている。また、各層の結晶粒の様子がチャネリングコントラストにより鮮明に観察できている。ステージを60° 傾斜して、作製した断面のSIM像観察を行った。Cu、はんだとその合金層の境界が明確に観察できている。また、Cuの場所による組織変化の様子がチャネリングコントラストにより明瞭に観察できている。 NiPメッキ Sn Cuメッキ Cu-Sn Cu Fe基材端子部の断面のSIM像 SEM像との比較 SEM像との比較 JIB-4000のSIM像は、SEMで撮影したSEM像より結晶粒のコントラストがより鮮明に観察できる。 SEM像では分からないNiPメッキの細かな結晶粒の様子も明瞭に観察できている。 JIB-4000のSIM像は、SEM像よりCuの結晶粒のコントラストがより鮮明に観察できている。また、SIM像とSEM像では組成コントラストが逆転している。 Sn Cu-Sn Cu SIM像 JIB-4000（FIB装置） SEM SE像 SEM BE-組成像 LaB 6エミッタのSEMで撮影 SIM像 JIB-4000（FIB装置） SEM BE-組成像 LaB 6エミッタのSEMで撮影