Beneq社 / フィンランド原子層堆積装置（ALD装置）装置）原子層堆積装置（～ガスバリア向けRtoR ALD技術～技術～～ガスバリア向け特徴・ RtoR ALD技術により、フレキシブルエレクトロニクスの高い要求レベルに対応する高ガスバリア性を低コスト、技術により、フレキシブルエレクトロニクスの高い要求レベルに対応する高ガスバリア性を低コスト、単層膜で達成することが可能です。・ OLED（ディスプレイ、照明）、フレキシブル太陽電池（（ディスプレイ、照明）、フレキシブル太陽電池（CIGS、、OPV）への直接封止、フィルムへの高ガスバリア膜）への直接封止、フィルムへの高ガスバリア膜（ディスプレイ、照明）、フレキシブル太陽電池（付与といったアプリケーションに有効な技術です。・無機膜、単層によるウルトラバリア WVTRは、は、Al2O3の膜厚とほぼリニアにの膜厚とほぼリニアには、推移し、単層、25nm以下で以下で-4乗台に到達推移し、単層、以下で乗台に到達例：Al2O3、、TiO2 例：・様々な基板への有効性例：有機膜、PET、、PEN 例：有機膜、・低コスト材料・低コスト稼働・高透過率・薄膜によるフレキシブルバリア基板：Melinex ST-504 PET （Dupont Teijin））基板：装 R&D向け向けTFS-200R 向け置 RtoR ALD装置装置 WCS-600 RtoR ALD向けのプロセス開発、異なる基板でのバリア性確認、向けのプロセス開発、異なる基板でのバリア性確認、 RtoR ALDプロセス開発プロセス開発、幅でのパイロット生産に最適です。プロセス開発、600mm幅でのパイロット生産に最適です。スケールアップ性の確認に最適なR&D装置です。装置です。スケールアップ性の確認に最適な・真空チャンバー内の巻出、巻取ロール、プロセスドラム、ALD成膜部成膜部・真空チャンバー内の巻出、巻取ロール、プロセスドラム、・プリカーサーデリバリーシステムとプリカーサー不活性化システム・様々なフレキシブル基板、膜厚に対応・電源及び制御キャビネット、真空ポンプ・120× ×300mm基板を回転ドラムに取り付けて成膜基板を回転ドラムに取り付けて成膜・20～～125um厚、厚、幅までのフィルムに対応厚、幅600mmまでのまでのフィルムに対応・最高100nm/分の成膜レートと分の成膜レートと200℃ ℃までの成膜温度・最高分の成膜レートとまでの成膜温度・最高2m/分のフィルム搬送速度と分のフィルム搬送速度と150℃ ℃までの成膜温度・最高分のフィルム搬送速度とまでの成膜温度株式会社マツボー情報機器部 TEL:03-5472-1723 / FAX:03-5472-1720