今月の Apr.,2007 「技術革新の源は高純度材料にあり」をモットーにチャレンジ精神で進むほうちど高純度化学研究所社長寶地戸高純度化学研究所は，昨年道雄氏の核となる製品が必要だ」と語７月に 50 周年を迎えた。このる。同社のビジネスモデルは，期を節目として，寶地戸道雄氏カスタマーの要求に応えた次世が社長に就任した。同社は，半代材料を先駆けて開発し，製造導体プロセス用材料，新機能材装置メーカーや半導体 IC メー同氏には，「不揮発メモリ用料の開発に注力している企業でカーと共に量産化に対応した材材料で世界一になる」という志ある。半導体プロセスが 65nm，料に確立することである。そのがある。それは，同氏が入社以「材料研究部」として組織変更した。 45nm，32nm へと微細化が進展ために同氏は，「大手が取り組来，この分野を手掛けていたとし，次世代プロセスに採用されまない材料でも，取りあえず取いう繋がりがあるからだ。当時，る材料の変革が求められているり組んで，何ごともチャレンジ強誘電体材料として，米シンメ時期だけに，新社長の舵取りがしようと思っている」と語る。トリックス社の「Y1」と呼ばれ重要な役割を担う。そのようなビジネススタイルのる材料と古くからある PZT との成果として，同社の次なる柱と市場争奪戦が行われていた。高実父である故寶地戸雄幸氏が設して期待されている ALD 材料，純度化学研究所の創業社長は，立して以来，高純度材料の研 High ― k 材料，MRAM 薄膜材料いち早くシンメトリックスと製究・開発・製造という技術革新などが立ち上がってきた。ALD 造・販売においてライセンス契の中核に深く関与する事業に専材料に関しては，業界に先駆け約を結んだ。その仕事のため，念してきた。その流れを強化すて認定を受けていたが，量産設新社長は入社早々に米国までこべく，新社長として就任以来，備の対応で，ライバルメーカーの交渉に出かけたのである。こ研究開発，生産体制，新規分野の後塵を拝したが，量産工場もの件で同社が，スピンコート材開拓，海外展開など，新たなる完成し，巻き返しを図っている。料（塗布，焼成）での扱いにお組織の強化，体制作りに手腕をスパッタリングターゲットとし同社は，1962 年に道雄氏の発揮してきている。同社の主要製品の売上比率は，いて業界で知られることになる。て，同社がメインとする分野は次世代メモリとして，ようやく磁気応用である。特に，High―k FeRAM，MRAM，PRAM などが MOCVD が 20 ％，機能材料・試材料や強誘電体薄膜材料などの研究段階から具体的製品へと進薬が 20 ％，スパッタリングタ研究開発を進め，成果も出ていんでいる。同社がこれまで永年ーゲットが 40 ％である。MO- る。日本の半導体コンソーシアにわたり取り組んできた成果が CVD 分野での主軸製品は，層ムに研究開発用として同社の花開く時を迎えている。間絶縁膜用 TEOS（珪酸エチル） High ― k 材料や強誘電体薄膜材他社が開発を嫌がるような困である。同社は，TEOS のパイ料が採用されている。ハードデ難で複雑な合金や，量としても少オニアとして知られている。ィスク用ターゲット材の引き合ないニッチな材料に対しても「技寶地戸社長は，「TEOS は右いも増えている。全体の開発体術革新の源は高純度材料にあり」肩上がりで販売が延びているが，制も，立て直しを図り，現場にをモットーにチャレンジ精神で単価が下がっているので次世代近い立場で研究ができるように進む。（本誌編集長・大島雅志） 2 0 0 7年 4 月 1