第4章 単成分ガスの固体表面への吸着、液体内への吸収、固体内への吸藏 1.気体の吸着 ガス単体(水素、水蒸気、窒素、酸素、不活性ガス、炭酸ガス等)やそれらの混合物が固体あるいは液体 物質と接触すると、混合物中の特定ガス種と物質が相互作用(引力)をおよぼし、その結果、吸着、吸収、 吸蔵などの物理化学的変化となって現れる。 吸着(adsorption)とは、ガス分子が固体内部に入り込むことがなく、固体粒子表面に濃縮しとどまる状態 を表す。相互作用として van der Walls 力等の物理的作用の他、特定化学種と固体物質間で働く化学的作用が 関与する。吸着はその原因から、物理吸着(physisorption)と化学吸着(chemisorption)に分類される。 凝縮性蒸気が凹凸のある面上にある凝縮液と平衡状態にあるとき、その蒸気圧は次の Gibbs-Thomson 式で 記述できる。 ! p $ 2σ vm 2σ M RgT ln # & = = rc ρl rc " pS % (4-1) 式中の pS は平面上蒸気圧[Pa]、σ は吸着凝縮物の表面張 力[N/m]、vm は吸着相モル容積[m3/mol]、rC は表面曲率[m]、 M は分子量[kg/mol]、ρl は吸着相密度[kg/m3]である.rC Fig. 4-1 凹面状に物理吸着するガス分子 が小さな負の値(凹面)を示すとき、p は pS より小さく (出典:慶伊富長著”吸着”, (1965)共立全書) なる。このとき吸着剤の凹面部分(特に小さな細孔)に ガスが吸着する。活性炭(化学式 C)、シリカゲ ル(SiO2・nH2O)、活性アルミナ(Al2O3・nH2O)、 合成ゼオライト(商品名モレキュラーシーブ、ア ルミナとシリカ等の化合物)等の表面凹凸の大き い材料を吸着剤として用いる。 物理吸着は低温での分子間力で生じ、一般に可 逆変化する。化学吸着は常温から高温域での化学 的作用に基づく吸着で、不可逆変化するものがあ る。一般的には、吸着温度が一定であれば吸着分 子数は圧力にのみ依存する。吸着分子が気相に戻 ることを脱着(desorption)と呼び、一定圧力で吸 着と脱着の進行が止まったように見える状態(吸 着率=脱着率)を吸着平衡(状態)と呼び、その ときの圧力が吸着平衡圧力である。一定温度下の 吸着平衡圧力と吸着量の関係を吸着等温線 Fig. 4-2 各種吸着剤の細孔径分布 (adsorption isotherm)と呼ぶ。吸着ヒステレシス (出典:ユニオン昭和ホームページより抜粋 があるとき、特に圧力増加方向のものを吸着側等 http://www.uskk.co.jp/molecularsieve/comparison.html) 温線、圧力減少方向のものを脱着側等温線と区別 する。等温線は、細孔の有無やその大きさ、吸着 エネルギーの大小などにより式の形が変わる。 Henry 式は吸着質濃度 cA あるいは圧力 pA と吸着量 qA が 線形関係で表される場合であり、多くの吸着剤と吸着質の 間で濃度が低いとき現れる.式は、次の線形平衡関係で表 される。 qA=KHenrypA (4-2) Langmuir 式は吸着質と吸着剤の間で次の関係が成立す る場合である。 qA K A pA = qA,∞ 1+ K A pA (4-3) この式は吸着速度式を ra を rd = ka pA (1− θ A ) で表し、脱着速度 = kdθ A と考え、平衡状態で ra = rd となることから、 この平衡等温式が求められる。式中のθ =qA/qA∞は吸着物 質全表面積に対する表面被覆率である。また(4-3)式中の KA(=ka/kd)は平衡定数である。Langmuir 式で成分分圧 pA Α 23 Fig. 4-3 吸着等温線の比較 が低いときに(4-2)式の Henry 式になる。 いずれの等温線にかかわらず、吸着で発生する微分 吸着熱 EA は、次の Clapeyron-Clasius 式で表せる。 dpA EA (4-4) = dT (Vm − vm ) T ここで、Vm は気相のモル容積[m3/mol]、vm は吸着相の モル容積(吸着された状態下の容積)[m3/mol]である。 理想気体を仮定し、吸着量 qA 一定でかつvm をVm に対 して小さいとすれば、(4-4)式は次式のように積分でき る。 " E % pA = A(qA )exp $$ − A '' # RgT & (4-5) Fig. 4-4 各種吸着剤の吸着等温線 (出典:ユニオン昭和ホームページより抜粋) この式は、吸着平衡線の温度変化を与える.Fig.4-2,3,4 は各種吸着剤の細孔分布、吸着量の圧力変化、水分濃 度変化を示している. 2.気体の液体への溶解 分圧 pA の気体がある液と接するとき、液へのガス溶解 度は、気体と液体の相互作用が小さいとき(例えば、O2, H2, CH4 等の難溶性気体の水への溶解)、次の Henry 則で表せ る。 pA = H Henry x A Table 4-1 水の各種ガス吸収 Henry 定数 (4-6) ここで xA を液中に溶解した気体のモル分率とする。Table 4-1 はいろいろなガスが水に溶解するときの Henry 定数を 示している. 水中で解離してイオンとなるものは、Henry 式は成立し ない。相互作用のある場合、溶解成分濃度 xA に加えて解 離状態のイオン濃度を考慮する必要がある。例えば、Cl2 の水への溶解では、次の溶解反応が生じる。 Cl2 + H2O = H+ + Cl- +HClO (4-7) 水中では未解離の Cl2, 解離した H+, Cl-イオンと次亜塩素酸 HClO が生成し、溶解平衡は次式で表せる。 K eq = !" H + #$!"Cl − #$[ HClO ] [Cl2 ] (4-8) 式中の[ ]は、各成分の水中濃度を示している.水に溶解した(解離と未解離を含む)塩素の全濃度 C を使う と、次式が成り立つ。 [HClO] = [Cl-] = [H+] = (C – [Cl2])/3 (4-9) よって C = [Cl2] +3(Keq[Cl2])1/3 となる。溶 解 [Cl2] と 気 相 Cl2 分 圧 pCl2 間 に 、 [Cl2 ] = K Henry pCl 2 の Henry 則が成立す る。すべてを考慮すると次式を得る。 1/3 ! K $ C= + 3## eq && pCl1/32 K Henry " K Henry % pCl2 (4-10) 濃度が低い場合(Cl2 分圧が低い場合) には、Henry 則にならず、圧力の 1/3 乗 に比例した溶解曲線を示す。 3.金属、合金の水素吸蔵 水素原子は原子中で最も小さく、金属 中で水素分子が解離し水素原子あるい は水素イオンが金属結晶格子の4面体 Fig. 4-5 代表的合金—水素平衡等温線 24 や8面体中心にランダムに固溶する。この状態をα相と呼び、金属と水素間の近距離結合力に束縛されて存在 し、水素原子や水素イオンとして固溶体を形成する。この状態の溶解量(水素と金属の原子比 xH)と平衡水 素圧力 pH2 の間に次の関係が成立する. p xH = K S H 2 (4-11) p0 KS は溶解度定数(Sieverts 定数)であり、ln(KS)=(ΔHS-TΔSS)/RgT の関係がある。 溶解水素濃度 xH が増加すると水素間に遠距離力が働き、構成金属元素と化合物(β相)を形成(相変化) し始める。変化は M n + H 2 = MH n + (−ΔH ) の化学式で表せる。相変化過程では Gibbs の相律から自由度 2 が1つ減り、圧力が水素吸蔵量の増加に伴って変化しない状態となる。この圧力はプラトー領域と呼ばれ、α +β相の共存平衡圧力は van’t Hoff 式で表せる。 ln ( pH 2 , plat ) = ΔH plat − TΔS plat (4-12) RgT α相が消失するまで水素吸蔵が進むと、相変化はこれ以上起こらず、金属中の水素はすべてβ相に取り込ま れる。この領域で水素平衡圧力は再度上昇し、β相領域は金属中の最大水素溶解度まで続く。 模式的な平衡関係(平衡等温線)を Fig. 4-5 に示す。また Fig.4-6 は多くの金属のプラトー圧力をまとめ たものである.水素と親和性の高い金属、例えば Li, V, Ti, Y, La 等は負の大きな溶解熱ΔHS、水素化物を 容易に形成しない Al, W, Mo 等は正の 大きな溶解熱を示す。溶解水素原子は 金属サイト内の決められた位置で振動 していると見てよいので、配置エント ロピー、振動エントロピー以外のエン トロピーを溶解によりすべて失う。従 って、ほぼすべての金属—水素システ ムで溶解エントロピー変化ΔSS は-6〜 8Rg 程度の値となる。これは図のほとん どすべての合金の平衡圧力が、横軸の 値が0の切片が同じ位置に近づいてい る事を示す. Table4-2 は各水素貯蔵媒体の水素 貯蔵密度、温度と圧力の貯蔵条件を比 較である。液体水素は冷却に要するエ ネルギーが水素の持っている化学エネ ルギーの 1/3 にもなりエネルギーを十 分に利用できない。体積密度から見る と、表に挙げたいくつかの水素吸蔵合 Fig. 4-6 代表的水素吸蔵金属合金の平衡解離圧 金は液体水素程度の貯蔵密度はあるが、 (出典:大角泰章著”水素吸蔵合金その物性と応用”アグネ技術 (原子番号の大きい金属からなるので) センター(1993)) 重量密度はかなり小さく、たかだか数% 程度である.水素自動車用の水素燃料 貯蔵材料には、重 量密度 5%以上、 Table 4-2 水素貯蔵密度と貯蔵条件の比較 水素放出温度 材料 圧力温度条件 重量水素密度(質量%) 体積水素密度(kg/m3) 100oC 以下、5000 圧縮水素ガス 35MPa, 常温 25.2 サイクル後の水 素吸蔵能力が初 液体水素 30K 70kg/m3(Liquid) 期の 90%以上で LaNi5 <1MPa,常温 1.5 62 あることが要求 Ti-Cr-V <1MPa,常温 2.7 83.2 される。水素吸藏 合金では Mg 合金、 Mg 573K 7 66.1 Ti-Ca 系合金、V NaAlH4 <423K 5.6 35.3 系立方晶合金等 がこれまで検討 C6H6-C6H12 523-573K 7.1 62.5 されて来たが、C 25 や NaBH4 あるいは NaAlH4 系の無機材料、ベンゼン, ナフタリンの有機材料への水素添加反応を利用した水素 貯蔵法も提案されている。NH3, CH3OH, DME (CH3OCH3), MCH(C6H11CH3) 等も水素貯蔵材と見てよい。現在では、 充填圧力 350 気圧あるいは 700 気圧のガス貯蔵器が水素自動車用貯蔵材の第一候補であるが、昇圧に必要な エネルギーが大きく、長期的には他の材料による貯蔵が望ましいと考えられる。 26
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