製品データ Quanta™ 3D 200i サブミクロンの試料調製、改良、三次元検査の世界を広げる Quanta™ 3D 200iは、工場または研究施設で材料の調査、故障解析の実施、資料調製を行うための特性評価装置です。Quanta 走査型電子顕微鏡（SEM）と高電流収束イオンビーム（FIB）を組み合わせることにより、材料の特性評価およびに改良を行う、使いやすく、さまざまな試料タイプに対応可能な柔軟性を持つ万能ソリューションを作ります。電流ブーストタングステン SEM は、特定の小エリアで急速に材料を除去または蒸着させて高電流イオンカラムで正確な試料調製しながら、サブミクロン構造で優れた画像処理機能を発揮します。Quanta 3D 200iを使うと、研究室でナノレベルの迅速な試料調製、三次元ナノ分析、TEM、EBSD＆原子プローブ試料調製、または試料表面の構造調整を行うための新しい方法を実験できます。 Quanta 3D は、ESEM およびDualBeam™システムに対するFEIエンジニアリングの実績に基づいています。これらの2つの最先端技術を統合し、Slice ＆View™（自動シリアルスライシング）アプリケーション、複数セクションまたは薄い試料の無人調製用主な特徴 AutoTEM™、大量ミリングアプリケーション用専用ガス反応、絶縁体または導電体の • 画像処理および分析機能の向上:表面および表面下の情報を収集し、画像および分析データを三次元で復元ソフトウェアと組み合わせることにより、Quanta 3Dは、三次元ナノキャラクタリゼー • 素早く材料を除去するQuantaの高電流FIBを使い、試料スループットを高め、広範囲のミルを実現 • TEM/原始プローブ/EBSD 試料の2 kV クリーニングでナノキャラクタリゼーションを強化し、アルゴン洗浄せずに無定形領域を低減 • 「電荷中和」モードで非導電試料のパターン登録/ナノプロトタイピングを強化 • 無人のFIBセクショニングまたはTEM試料調製のための自動レシピで試料スループットを改善 • 不動点において幅広いワーキングディスタンスでさまざまな材料を調査することにより、特殊な形状の試料または最先端の実験における検出器およびシステムの柔軟性を拡大 • 動的環境における試料の特性評価に柔軟性を与え、ESEMで試料の水分を保ち、または加熱実験を実施蒸着、FIB調整セクションの画像処理用検出器形状のカスタマイズなど、FEIの自動化ション、三次元ナノプロトタイピング、現場ナノプロセスにおいて最も適したソリューションになります。 3つの画像処理モード（高真空、低真空、ESEM™）を搭載し、幅広いSEM システムの試料に対応します。「電荷中和」モードは、試料の絶縁についてFIBで機能するために統合されています。 Quanta 3Dは、あらゆる試料の調査および調製を行う使いやすいソリューションを提供します。あらゆる試料からさまざまなデータを取得する手助けをします。製品データ Quanta™ 3D 200i 一般的な用途の例： • TEM、原子プローブ、EBSD試料の調製 • 原子プローブ試料の調製 • 仕上げ金属表面（塗装面、亜鉛めっき面など）の表面欠陥の原因となる表面下の解明 • 三次元多孔特性評価と修正 • 別の研究ツールを使った実験特性評価のための専用セクショニングを行う • 炭化物含有鋼鉄の配分の容積復元 • 亀裂先端の三次元復元 • 仕上げ金属表面（塗装面、亜鉛めっき面など）の表面欠陥の原因となる表面下の解明 • 直交横断面に沿ったひずみ材料の特性評価 • マイクロボリューム試料バイオプシー • ぬれ挙動特性評価と二面角の測定 • 基本回路の変更 • ナノ規模の表面構造変更（ナノプロトタイピング）図1:TiO2/Au/Silical 試料で調製したTEM薄板図2:表面下に隠されているアーチファクトの断面図重要な仕様電子光学装置 • 熱放射SEM光学装置（デュアルアノードソース放射形状、固定対物レンズファイナルアパチャー、レンズ差動排気付き） • 標準フィラメントの寿命 > 100 時間 • 分解能: – 高真空モード 30 kV で 3.0 nm – ESEM モード 30 kV で 3.0 nm – 低真空モード 3 kV で < 12 nm • 最大水平フィールド幅: 10 mm クワッドビューの10倍表示 • 加速電圧：200 V ∼ 30 kV • プローブ電流：最大 1 µA – 連続可変 • 非導電試料ミリング用「電荷中和」モード 2ページイオン光学装置 • 高電流イオンカラム(Ga 液体金属イオンソース) • ソース寿命:1000時間保証 • ビーム不動点の分解能:1 Pa の30 kVで9 nm • 最適FIB動作距離の分解能:1 pA の30 kVで7 nm • 最大水平フィールド幅：10 kVおよびビーム不動点で2.5 mm （クワッドビューで最小50倍に対応） • 加速電圧：2 ∼ 30 kV • プローブ電流：15 ステップにおいて1 pA ∼ 65 nA • 標準ビームブランカー、拡張制御可能 • 15ポジションアパチャーストリップ真空系 • 1 x 250 l/s TMP オイルフリー • 2 x PVP オイルフリー（スクロールポンプ）製品データ Quanta™ 3D 200i • • • • • 1 x IGP (イオンカラム用) 排出時間（高真空）:< 3.5 分 3つの真空モード:高真空、低真空、ESEM 高真空と低真空のシームレスな遷移ショートビームガス経路長および超低真空圧（2600 Pa）のためのレンズ差動排気 • 低真空とESEMにおけるガスの画像処理:水蒸気またはその他の補助ガス（FEI承認の対象）検出器 • ET SED • 広範囲の気体SED（低真空で使用） • 気体SED (ESEM モードで使用) • IR-CCD • TVレートソリッドステートBSED* • STEM 検出器* • 二次 IR-CCD* • 気体分析BSED（低真空分析アプリケーションで使用）* • イオン検出器（CDEM）* デジタル画像プロセッサ • ドウェル:50 ns ∼ 25 ms、100 ns単位で調整可能 • 最大4096 x 3536 ピクセル解像度 • ファイルタイプ:TIFF (8 、16、24 ビット)、BMP、PGまたはAVI • シングルフレームまたは四象限画像ディスプレイ • 四象限別個別デジタルズームによる四象限ライブ • 256 フレーム平均または統合 • 2または3画像ライブのミキシング（グレーまたは擬似色） • 動画レコーダー（AVI直結） • 動画クリエーター（TIFFから動画を作成） • 許容差 = 最大ユーセントリックポイントまで60 mm • T = -10 から 60° • R = n x 360° ガス反応* • 「ゼロ衝突」GISデザインコンセプト – 将来再設定可能な別の噴射システムを使う個別ガスインジェクタ – ユーザー設定がいらない5 μm精度の配置 – 自動用GISコントロールの活用 • エッチングと蒸着を強化するための最大3ガスインジェクタ • ガス反応オプション:* – プラチナ金属蒸着* – タングステン金属蒸着* – 炭素蒸着* – 金蒸着* – 絶縁体強化エッチング (XeF2)* – 各種カーボンミル* – 強化エッチング* システム制御 • Windows XP® 32ビットGUI、キーボード、光学式マウス • 画像表示:19インチLCD、SVGA 1280 x 1024 • サポートコンピュータ • 自動化用スクリプトインタフェース* • 多機能コントロールパネル* • 二次モニタ（サポートコンピュータ用）* • ジョイスティック* チャンバ • 379 mm 左から右 • 16ポート • 15mm 電子/イオンビーム不動点 = 分析ワーキングディスタンス • 電子カラムとイオンカラム間の角度:52° 5軸電動ステージ • ユーセントリックゴニオメータステージ • x = 50 mm • y = 50 mm • z = 25 mm 図3:GISインジェクタ用ポートの配置 * オプション 3ページ製品データ Quanta™ 3D 200i 共通システムオプション • シリアルセクショニング自動化ソフトウェア (AutoSlice＆View) • マルチサイトミリング用自動化ソフトウェア（AutoFIBTM） • 無人TEM試料調製用自動化ソフトウェア（AutoTEM） • 三次元復元ソフトウェア • 画像分析いおよび保管ソフトウェア • ソフトウェア制御のPeltier 冷却試料ステージ • ソフトウェア制御のWetSTEM システム • ソフトウェア制御の1000 ° C加熱ステージ • 遠隔制御ソフトウェア • ビデオプリンタ • 試料ホルダキット、TEM試料ホルダキット • ガス注入器 • BSED 検出器 • STEM 検出器 • 高速静電電子ビームブランカー • 供給品（コンプレッサ、主電源整合変成器、UPS） • 現場TEM試料レフトアウト用Omniprobe • 低温システム • QuickLoader™ (ロードロック) • EDX • EBSD 平面図 • WDX 設置要件 • 電力：電圧230 V (-6 %, + 10 %) • 周波数:50 または60 Hz (+/- 1%) • 消費電力:< 3.0 kVA（標準顕微鏡の場合） • 環境:温度20 ° C +/- 3 ° C、温度安定性 < 1° /時間、相対湿度80% 以下、空電AC 磁界 < 100 nT 非同期、< 300 nT 同期 • ドア幅:90 cm • 重量:カラムコンソール 550 kg • 圧縮エア4∼6bar、クリーン、ドライ、オイルフリー参考資料 • 取扱説明書 CD • オンラインヘルプ消耗品 • 交換用Ga-ionソース • イオンカラム用アパチャーストリップ • タングステンフィラメント • ファイナルレンズアパチャー • ガス反応充填パッケージ FEI.comで詳しくご覧く FEI.comで詳しくご覧くださいださい本社電話：+1.503.726.7500 FEI ヨーロッパ電話: +31.40.23.56000 TÜV認証は、電子工学、生命科学、研究と天然資源市場における収束イオンと電子光線顕微鏡のデザイン、製造、導入とサポートのためのものです。 FEI 日本電話: +81.3.3740.0970 FEI アジア電話: +65.6272.0050 FEI オーストラリア電話: +61.7.3512.9100 © 2010.FEIは常に自社製品のパフォーマンス向上に取り組んでいるため、すべての仕様は通知なしに変更される場合があります。Helios NanoLab、Magellan、DualBeam、Tomahawk、FlipStage、Elstar、AutoFIB、AutoTEM、AutoSlice ＆View、FEI Navigator、およびFEI ロゴは、FEI Company の商標です。FEI は、FEI Company の登録商標です。その他すべての商標は、各社に帰属します。DS0008-JP 08-2008