DDS2300

Fully Automatic Die Separator
DDS2300
高品位にDAF を分割する新ソリューション
DAF付き薄ウェーハの切断品質向上
DAF(Die Attach Film)付き薄ウェーハを分割するプロセスにおいては、フルカッ
トダイシングした際の切断面にDAFバリが発生したり、ダイボンディング時にピッ
クアップ不良が生じるなどの課題があります。DDS2300をダイシング工程に採用
することでDAFの切断品質が向上し、これらの課題の改善が可能です。
DBGプロセス後のDAF切断へ新しい提案
薄チップ製造に適したDBG(Dicing Before Grinding)プロセスにDAFを適用する
場合、チップ分割後の裏面にDAFを貼り付けた後、DAFのみを切断する工程が
必要です。従来はレーザ加工によってDAFのみを切断しますが、その際、表面保
護膜などの消耗品が必要な場合があります。DDS2300を採用することでレーザ
によるDAF切り込み量を抑え、加工屑を低減することが可能となるため、消耗品
コストの大幅な低減が期待できます。
ステルスダイシング後の安定したチップ分割を実現
ステルスダイシングにて内部に改質層を形成したウェーハのチップ分割を、安定
して実現します。DAF付き薄ウェーハのステルスダイシング時には、特に有効な
プロセスとなります。
クールエキスパンドによるDAF分割品質向上
■適用アプリケーション例
DAFを安定破断するため、クールエキスパンド方式を採用しています。低温
領域で脆性化するDAFの特性を踏まえ、低温環境下でエキスパンドを行うこ
 ブレードダイシング後のDAF分割
とで、高品質なDAFの分割を実現します。
 DBG後のDAF分割
テープフレーム搬送により、スムーズに次工程へ
 ステルスダイシング後のチップ分割
エキスパンド後、ダイシングテープの外周部分に生じるたるみを、ヒートシュ
リンクにて解消できます。これにより、テープの貼り替えを行わずに、テープ
フレームのまま次のダイボンディング工程へ搬送することが可能となります。
Fully Automatic Die Separator
DDS2300
ワークフローシステム
プッシュプルアーム
①プッシュプルアームがカセットからワークを引き出し、フレームセンタリングス
テージへ →
②フレームセンタリングステージでアライメントを行った後、中間ステージへ →
③クーラエキスパンドステージへ移載し、クールエキスパンド →
④ヒータエキスパンドステージへ移載し、エキスパンド・ヒートシュリンク →
⑤スピンナステージに移載し、洗浄・乾燥 →
⑥UV照射ステージへ移載し、UV照射 →
⑦プッシュプルアームがワークをカセットへ格納
仕様
仕様
最大ワークサイズ
クーラ
エキスパン
ド
ステージ
温度設定範囲
最大突き上げ量
突き上げ量 設定範囲
最高突き上げ速度
突き上げ速度 設定範囲
温風 温度設定範囲
最大突き上げ量
ヒート
シュリンク
突き上げ量 設定範囲
ステージ
最高突き上げ速度
突き上げ速度 設定範囲
装置寸法(W×D×H)
装置重量
単位
mm
℃
mm
mm
mm/sec
mm/sec
℃
mm
mm
mm/sec
mm/sec
mm
kg
φ300
0 または ‐5
(固定) (工場出荷時設定)
30
0~30(ステップ 0.001)
400
0.001~400(ステップ 0.001)
200 or 220 or 250 (選択)
20
0~20(ステップ 0.001)
50
0.001~50(ステップ 0.001)
1200 × 1,550 × 1,800
約900
■ご使用条件
• 大気圧露点-15 ℃以下、残留油分0.1 ppm、濾過度0.01 μm/99.5 %以上のクリーンな空気を使用してください。
• 機械設備位置の室温は設定値(20 ℃~25 ℃)に対し、変動幅±1 ℃以内に管理してください。
• 洗浄水は、室温±4 ℃に管理された水を使用してください。
• その他、衝撃及び有感振動などの外部振動を避けてください。また、ファン、換気口、高熱発生装置、オイルミスト発生部等の近くに設置しないでください。
• 本装置は、水を使用します。万一の漏水に備え、床面の防水処理および、排水処理がされた場所に設置してください。
※ 本仕様は、改良のためお断りなく変更させていただくことがありますので、ご確認の上、ご発注ください。
※ 圧力は全てゲージ圧で表記しています。
※ 本機に関するアプリケーション等は弊社営業までお問い合わせください。
www.disco.co.jp
2016.07